Патент на полезную модель Республики Беларусь

1. ОПИСАНИЕ
ПОЛЕЗНОЙ
МОДЕЛИ К
ПАТЕНТУ
(12)
РЕСПУБЛИКА БЕЛАРУСЬ
НАЦИОНАЛЬНЫЙ ЦЕНТР
ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ
СОБСТВЕННОСТИ
(19) BY (11) 6452
(13) U
(46) 2010.08.30
(51) МПК (2009)
B 08B 3/00
(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЗДЕЛИЙ,
ПРЕИМУЩЕСТВЕННО ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН
(21) Номер заявки: u 20091108
(22) 2009.12.30
(71) Заявитель: Алексеев Павел Влади-
мирович (BY)
(72) Авторы: Алексеев Павел Владимиро-
вич; Губич Леонид Иосифович (BY)
(73) Патентообладатель: Алексеев Павел
Владимирович (BY)
(57)
1. Установка для очистки поверхности изделий, преимущественно полупроводнико-
вых пластин, содержащая корпус, внутри которого установлены планшайба для размеще-
ния очищаемой пластины, сопло подачи жидкости и/или газа, сливной и вытяжной
патрубки, отличающаяся тем, что в верхней части корпуса выполнена крышка с возмож-
ностью вращения в горизонтальной плоскости на валу электродвигателя.
2. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что крышка снабжена средством обдува,
например выполненным в виде шторки.
3. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что планшайба для размещения очищаемой
пластины установлена с возможностью вращения в горизонтальной плоскости на валу
электродвигателя.
4. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что сопло подачи жидкости и/или газа уста-
новлено с возможностью углового перемещения относительно поверхности очищаемой
пластины.
5. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что сопло подачи жидкости и/или газа
снабжено нагревательным элементом.
BY6452U2010.08.30

2. BY 6452 U 2010.08.30
2
(56)
1. RU 53592 U1, 2006.
2. US 20090031948 А1, 2009.
Полезная модель касается гидродинамической очистки поверхности пластин из полу-
проводниковых материалов, стекла, кварца и других материалов от загрязнений и частиц,
возникающих по маршруту их изготовления и применения, и может быть использована,
например, в микроэлектронике.
Известна установка для очистки поверхности изделий, преимущественно полупровод-
никовых пластин, содержащая корпус, внутри которого установлены планшайба для раз-
мещения очищаемой пластины, установленные над планшайбой сопла подачи жидкости и
газа, и патрубок для удаления продуктов очистки [1].
В данной установке не предусмотрены средства, препятствующие попаданию капель
жидкости со стенок корпуса на обрабатываемую пластину в процессе ее обработки, что
снижает эффективность очистки.
Известна также установка для очистки поверхности изделий, преимущественно полу-
проводниковых пластин, содержащая корпус, внутри которого установлены планшайба
для размещения очищаемой пластины, установленные над планшайбой сопла подачи
жидкости и газа, и патрубок для удаления продуктов очистки. Установка снабжена штор-
кой для обдува крышки и конической обечайкой, охватывающей планшайбу [2].
Наличие шторки для обдува крышки и конической обечайки предотвращает появле-
ние капель на внутренней поверхности корпуса, однако данная установка сложна в изго-
товлении и эксплуатации.
Задачей, на решение которой направлена полезная модель, является упрощение кон-
струкции и повышение надежности работы.
Поставленная задача решена тем, что в установке для очистки поверхности изделий,
преимущественно полупроводниковых пластин, содержащей корпус, внутри которого
установлены планшайба для размещения очищаемой пластины, сопло подачи жидкости
и/или газа, сливной и вытяжной патрубки, в верхней части корпуса выполнена крышка с
возможностью вращения в горизонтальной плоскости на валу электродвигателя.
Поставленная задача может быть решена также тем, что крышка снабжена средством
обдува, например выполненным в виде шторки; планшайба для размещения очищаемой
пластины установлена с возможностью вращения в горизонтальной плоскости на валу
электродвигателя; сопло подачи жидкости и/или газа установлено с возможностью угло-
вого перемещения относительно поверхности очищаемой пластины, снабжено нагрева-
тельным элементом.
На фигуре представлен вид сбоку установки для очистки поверхности изделий, пре-
имущественно полупроводниковых пластин, в разрезе.
Установка для очистки поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых
пластин, содержит корпус 1, внутри которого установлена планшайба 2, на которой раз-
мещают очищаемую пластину 3. Планшайба 2 может быть установлена с возможностью
вращения в горизонтальной плоскости на валу электродвигателя 4. Над планшайбой 2
установлено сопло подачи жидкости и/или газа 5. Сопло 5 может быть установлено с воз-
можностью углового перемещения относительно поверхности очищаемой пластины 3 на
валу электродвигателя 6 и снабжено нагревательным элементом (на фигуре не показано).
В корпусе 1 выполнены сливной патрубок 7 и вытяжной патрубок 8, подсоединенные со-
ответственно к сливной цеховой канализации и вытяжной цеховой вентиляции. В верхней
части корпуса 1 выполнена крышка 9, установленная на валу электродвигателя 10 с воз-
можностью вращения в горизонтальной плоскости. Крышка 9 имеет механизм подъема и

3. BY 6452 U 2010.08.30
3
опускания 11 и может быть снабжена средством обдува 12, например выполненным в виде
шторки.
Установка для очистки поверхности изделий, преимущественно полупроводниковых
пластин, работает следующим образом. Крышку 9 поднимают с помощью механизма
опускания и подъема крышки 11. В вертикальном положении крышка удерживается газо-
вым амортизатором (на фигуре не показано). На планшайбу 2 устанавливают обрабатыва-
емую пластину 3. После чего крышку 9 закрывают. Фиксацию пластины 3 относительно
планшайбы 2 обеспечивают путем создания разряжения между нижней поверхностью
пластины и поверхностью планшайбы с помощью вакуумной системы (на фигуре не пока-
зано). После размещения пластины 3 на планшайбе 2 последняя может быть приведена во
вращение. Через сопло 5 на пластину 2 подают струю деионизированной воды, смешан-
ной со сжатым воздухом, при этом сопло 5 может совершать угловые перемещения отно-
сительно поверхности очищаемой пластины 2. Скорость вращения пластины 2 и скорость
перемещения сопла 5 относительно поверхности пластины регулируют, задавая соответ-
ствующие параметры с пульта управления установкой (на фигуре не показано). В процес-
се мойки крышка 9 вращается, не позволяя образовываться каплям воды на ее внутренней
поверхности. Кроме того, крышка 9 может быть оснащена средством обдува 12, например
шторкой. Отсос водяного тумана, образующегося в процессе мойки, осуществляют через
патрубок 8 в цеховую систему вентиляции. Жидкие продукты очистки удаляются через
сливной патрубок 7 в цеховую канализацию. По завершению мойки увеличивают число
оборотов планшайбы 2 и включают обдув пластины чистым сжатым газом, например,
воздухом или инертным газом, который подают через сопло 5. Газ может быть подогрет с
помощью нагревательного элемента, расположенного в сопле 5 (на фигуре не показано).
После завершения процесса сушки вращение планшайбы 2 останавливают и отключают от
вакуумной системы (на фигуре не показано). Чистую сухую пластину 3 снимают с план-
шайбы 2 и направляют на дальнейшую обработку, а на планшайбу 2 устанавливают дру-
гую подлежащую очистке пластину.
Использование вращающейся крышки, предотвращающей появление капель на ее
внутренней поверхности, за счет простоты конструкции обеспечивает надежность работы
предлагаемой установки.
Национальный центр интеллектуальной собственности.
220034, г. Минск, ул. Козлова, 20.