胜肽合成原理 圖解
Initiator+ Alstra
合成從碳端 C-termimal 開始
Resin
Fmoc為
氨端保護基
Resin
Deprotection : 去 Fmoc 然後 wash
去Fmoc
Wash : 洗掉Fmoc,洗掉斷開
Fmoc的反應溶液。
Resin
Coupling : 加入第二個胺基酸,反應形成胜肽鍵
Peptide Bond Formation
Resin
所以合成從碳端 C-termimal 往 N-terminal 合成
以此類推往下
合成 . . .
Reactor
vial
Scale-PEG
Based (mmol)
Scale-
Polystyrene
(mmol)
Volume added
solvent
Total Volume
(resin +
solvent)
5 ml 0.005 ~
0.010
0.005 ~
0.040
0.5 ~ 1.0ml 0.6 ~ 1.2ml
10ml 0.05 ~ 0.40 0.05 ~ 1.0 3.5 ~ 4.5ml 3.5 ~ 10ml
30ml 0.50 ~ 0.75 0.5 ~ 2.0 4.0 ~ 10.0m 10 ~ 20ml
合成量 : 5 μmol – 2 mmol
PEG適合微波加熱,適合長鏈胜肽合成。
較不適合微波加熱,適合短鏈
胜肽合成。
ResinResin
Resin用量參考
合成越長Protein
越容易folding
阻礙合成。
微波加熱Protein denature
利於長鏈胜肽合成。
Define Sequence
N端 C端 Resin
輸入序列
假設案例 :
雙硫鍵 合成策略
Fmoc-Cys(Trt)-OH
Trt :
硫的保護基 點選氨基酸,出現預
設選用藥品。一般胜肽合成,就算沒有要製造雙硫鍵,也會使用的
基本藥品,至於Trt 會於全部程序完成後,用強酸去除,
含最後一個氨基酸上的Fmoc。
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
假設案例 :
雙硫鍵 合成策略
假設有兩個雙硫鍵要合成。
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
假設案例 :
雙硫鍵 合成策略
tBu TrtTrttBu
Fmoc-Cys(tBu)-OH
選用第三種
保護基
CH3
CH3
H3C
tBu
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
tBu TrtTrt
這個Cys也一樣
假設案例 : 雙硫鍵 合成策略
tBu
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
tBu TrtTrt
先合成完整胜肽(並非所有案例皆為如此!)
tBu
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
tBu
加入去除 專用反應劑Trt
加入去除 專用反應劑tBu
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
第二個雙硫鍵生成
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
tBu
N C D Q R N C S T V Y C H L K Q C
tBu
第一個雙硫鍵生成
自動微波胜肽合成儀
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胜肽合成原理 圖解