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Xinhong Ma, Yiming Wang, Hao Liu, Tianyu Guo, Yunhe Wang, "When Visual Prompt Tuning Meets Source-Free Domain Adaptive Semantic Segmentation" NeurIPS2023 https://proceedings.neurips.cc/paper_files/paper/2023/hash/157c30da6a988e1cbef2095f7b9521db-Abstract-Conference.html
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CRI Japan, Inc.
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JSAI_類似画像マッチングによる器への印象付与手法の妥当性検証_ver.3_高橋りさ
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0207sukipio
JSAI2024の発表スライドです.
遺伝的アルゴリズムと知識蒸留による大規模言語モデル(LLM)の学習とハイパーパラメータ最適化
遺伝的アルゴリズムと知識蒸留による大規模言語モデル(LLM)の学習とハイパーパラメータ最適化
t m
オープンエンドな進化から着想を得て、個々の大規模言語モデル(LLM)が、グループとして学習を進めながら、ノームエージェントとして機能するという概念を探求しています。これは、単一のモデルでは難しい複雑な問題を解決することを目的としています。具体的な方法として、遺伝的アルゴリズムと知識蒸留を組み合わせた学習プロセスを提案しています。知識蒸留によって学習を進め、同時に遺伝的アルゴリズムでハイパーパラメータを最適化することで、より効率的な学習を目指します。ドメインタスクとして、指示からPythonコードを生成するコード生成タスクを選択しました。実験では、学習に3つの学習モデルと1つの教師モデルを使用しました。その結果、HumanEvalのpass@1で精度が1.2%向上し、学習が進むにつれて学習率が最適化された兆候が見られました。しかし、大幅な精度向上を達成し、さまざまなハイパーパラメータを最適化するには、まだ課題が残っています。
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TaketoFujikawa_物語のコンセプトに基づく情報アクセス手法の基礎検討_JSAI2024
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CS集会#13_なるほどわからん通信技術 発表資料
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遺伝的アルゴリズムと知識蒸留による大規模言語モデル(LLM)の学習とハイパーパラメータ最適化
IGBTのスパイスモデル
1.
IGBTのスパイスモデル 株式会社ビー・テクノロジー http://www.bee-tech.com/ horigome@bee-tech.com 1Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
2.
Designer EDA Device Model Technology of Simulation 2Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
3.
3Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010 ABM=Analog Behavior Model
4.
www.bee-tech.com 4Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
5.
スパイス・パーク http://www.spicepark.com/ 55種類のデバイス、3,461モデル(2010年9月1日現在)をご提供中。 現在、グローバル版スパイス・パークを準備中。 5Copyright (C)
Bee Technologies Inc. 2010
6.
IGBT(in SPICE PARK) Copyright
(C) Bee Technologies Inc. 2010 6
7.
IGBT(in SPICE PARK) Copyright
(C) Bee Technologies Inc. 2010 7
8.
Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010 8 Bee Style:http://www.spicepark.com/ スパイス・パークのログイン後トップページにて、PDFでバックナンバーも含め PDF形式で参照及びダウンロード出来ます。 Bee Style:
9.
IGBTのスパイスモデルの推移 PSpice IGBT Model PSpice IGBT Model + 等価回路 MOSFET + BJT 9Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
10.
IGBTのスパイスモデルの推移 10Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010 PSpice IGBT Model PSpice IGBT Model + 等価回路 MOSFET + BJT
11.
IGBTのスパイスモデルの構成 11Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
12.
IGBTのデバイスモデリング dt/dQgs dt/dQdg dt/dQmult dt/dQds dt/dQcer dt/dQeb mosI cssI bssI multI TI E(S) b(d) G C e IGBT PSpice
Model 等価回路図 5個のDC電流コンポーネントと 6個の容量性電荷コンポーネント の構成です。 12Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
13.
パラメータ 説明 単位
デフォルト値 AGD ゲート・ドレイン重なり面 m^2 5E-6 AREA デバイス面積 m^2 1E-5 BVF 電子アバランシュ均一係数 N/A 1 BVN 電子アバランシュ増倍の指数部 N/A 4 CGS 単位面積当たりのゲート・ソース間容量 F/cm^2 1.24E-8 COXD 単位面積当たりのゲート・ドレイン間酸化膜容量 F/cm^2 3.5E-8 JSNE エミッタ飽和電流密度 A/cm^2 6.5E-13 KF 3極管領域係数 N/A 1 KP MOSトランスコンダクタンス A/V^2 0.38 MUN 電子移動度 cm^2/(V・S) 1.5E3 MUP 正孔移動度 cm^2/(V・S) 4.5E2 NB ベース ドーピング 1/cm^3 2E14 TAU アンビポーラ再結合寿命 s 7.1E-6 THETA 遷移電解係数 1/V 0.02 VT しきい値 V 4.7 VTD ゲート・ドレイン重なり空乏しきい値 V 1E-3 WB 金属ベース幅 m 9E-5 IGBT PSpice Model パラメータ 13Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
14.
Saturation Characteristics 14Copyright (C)
Bee Technologies Inc. 2010
15.
Saturation Characteristics 飽和特性を補正する事で、精度良くPSpice Modelを活用する事が出来ます 15Copyright
(C) Bee Technologies Inc. 2010
16.
MOSFET+BJT型モデル 16Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
17.
長所 温度モデルを考慮したときの対策が可能(RC成分が抽出できる。ただし、 実測データからの合わせこみが必要である)である。 SPICEによるデバイス方程式がMOSとBJTなので、電気特性において 影響するパラメータが想定できるし、補正は必要な特性はABMモデルの 組み込みにより対応が容易である。 短所 BJTとMOSFETの双方の特性による因果関係から、パラメータの合わせ こみが必要であり、高度なモデリング技術を必要とする。 →PSpice AAO(最適化ツール)を活用する。 BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 17Copyright (C)
Bee Technologies Inc. 2010
18.
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 DBE DE DDS DO 85 C RC 29.7415m 81 RE 17.5m 83 82 CGE 2.05n Collector RG 5 Gate Emitter M3 MFIN03 Q3 QOUT03 GateG D3 DGD R11 10Meg + - + - S1 S VON =
0mV VOFF = -20mV ROFF = 10e9 RON = 1m G02 + - + - S2 S VON = 0mV VOFF = -20mV ROFF = 10e9 RON = 1m CGD_MAX 4.30E-9 R12 10Meg G01 LE 7.50n 1 273 E PARAMETERS: IS = 2.51e-16 NF = 1.2194 BF = 4.8832 CJE = 6.10n TF = 17n XTB = 1.3 L = 1e-6 W = 1e-6 KP = 630.2292m VTO = 5.0035 THETA = 4.8432m VMAX = 1.8469Meg IGBTモデルの等価回路図 (Bee Technologies Model) 18Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
19.
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 1. Ic-Vge characteristicにおけるパラメータの最適化 IGBTのgfeに関する特性は飽和領域において次のように表される。 μns:
Surface mobility of electrons Z: Channel width LCH: Channel length VTH: Threshold voltage VGE: Applied gate voltage COX: Gate-oxide cap. Per unit area αPNP: Current gain of the pnp transistor THGE CH OXns PNP fe VV L ZC g 1 1 19Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
20.
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 MOSFETとBJTで前ページの方程式に関係するパラメータをPSpice AAO にて最適化する。(この例では、活性領域におけるコレクタ電流を決定する RCとその他のパラメータも一緒に最適化しているが、特性に関係しない パラメータは最適化を行っても変化が無い。 PSpice AAO 20Copyright
(C) Bee Technologies Inc. 2010
21.
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 最適化されたパラメータ .MODEL MFIN03 NMOS
(L=1e-6 W=1e-6 LEVEL = 3 VMAX=1.8469Meg + THETA=4.832m VTO=5.0035 KP=630.2992m) .MODEL QOUT03 PNP (IS=2.51e-016 NF=1.2194 BF=4.8832 CJE=6.10n +TF=17.0n XTB=1.3) MOSFETのETAはゲートチャージのシミュレーションにおいて誤差を与える ため、削除した。 但し、コレクタ電流が小さい領域では誤差が大きくなる。これはMOSFETのモデル 自体が小信号領域に対応していない為であり、別途補正回路が必要になる。 (大信号領域で合わせ込みを行った場合、問題となる) 21Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
22.
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 2. パラメータ補正後での、その他特性を実測と比較 Ic-Vce(あるゲート電圧での)と出力特性(Vge-Vce、Ic-Vce)のシミュレーション を行い、実測あるいはデータシート記載値と比較し、誤差が大きいようであれば、 再度必要なパラメータを最適化する。 3. ゲートチャージ特性(ゲート-ドレイン間容量特性)の補正 Cgdの特性はVdgが正、負の値によってそれぞれ変化する。このため、 実測とシミュレーションで誤差を生じる。よってG-D間に補正回路を付け加える。 22Copyright
(C) Bee Technologies Inc. 2010
23.
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 デートチャージ特性でOFF期間~スイッチング期間を終了する期間までが Vdg>0の期間のときで、Cgd-Vdg特性のカーブになっている領域である。 スイッチング期間終了時~オン期間に入るとVdg<0となり、そのとき Cgdは一定値となる。ここで、Cgd-Vdg特性を表現するため、Vdg>0のとき、 曲線部分、Vdg<0のとき、同図の一定容量成分Cgdmaxの値にし、 Vdg=0V時のCgdmaxとCJOの値を一致させた特性に置き換える。 0 Qg Vgs Off Period Switching Period On
Period 12V Vds 200V Simulation Measurement VDG>0 VDG<0 0 Vdg Cgd Use Cgdmax(const.) Use DGD Parameter CJO=Cgdmax, M,VJ Fig2-6 Relation of Gate on Charge Characteristic and CGD 23Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
24.
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式 Vdg>0のとき、下側MOSFETがオンするように(ドレイン)-(ゲート)間の電圧を 加える。下側MOSFETをオンさせて、カーブの表現にDGDの特性を用いる。 このとき、Diodeの Reverse C-V特性で用いた3つのパラメータを用い、 カーブを表現する。Vdg<0の場合は、上側のMOSFETがオンするように (ゲート)-(ドレイン)間の電圧を加える。上側MOSFETをオンさせて、一定値 であるCgdmaxの値をそのまま使う。ここで表示しているMOSFETは理想 スイッチ(Vth=0V)を用いてサブサーキットを構成している。 G D S Cgd Cgs Cbd
Cgdmax 10Mohm 10Mohm DGD DG Vth=0V(Ideal Switch) E(G-D) E(D-G) CGD Characteristic is Constant Value(CGDO) Fig2-7 Corrected Sub-circuit Model of Gate-Drain Node 24Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
25.
スイッチングタイムにはBJTのTF、BF、ゲート抵抗RGで調整可能であるが、 BFは最適化済なので、残り2つのパラメータで調整した。但し、この2つの パラメータだけではtrの合わせ込みが不可能だったので、ベース抵抗RBを 挿入して合わせ込みを行った。RBを挿入することで、スイッチング時の シミュレーション収束エラーも抑えることができる。 V_IC 0Vdc M3 MFIN03 Q3 QOUT03 VD 600Vdc D3 DGD R11 10Meg + - + - S1 S VON =
0mV VOFF = -20mV ROFF = 10e9 RON = 1u G02 + - + - S2 S VON = 0mV VOFF = -20mV ROFF = 10e9 RON = 1u CGD_MAX 4.30E-9 R12 10Meg G01 PARAMETERS: IS = 2.51e-16 NF = 1.2194 BF = 4.8832 CJE = 6.10n TF = 21.3n XTB = 1.3 L = 1e-6 W = 1e-6 KP = 630.2292m VTO = 5.0035 THETA = 4.8432m VMAX = 1.8469Meg RL 42.8 VG TD = 0 TF = 10n PW = 5u PER = 20u V1 = -15 TR = 10n V2 = 15 RGate 100 LE 7.50n 1 273 E DBE DE DDS DO 85 C RC 29.7415m 81 RE 17.5m 82 83 CGE 2.05n IC = 0 G Collector RG 5 Emitter R3 0.1u 0 RB 0.7 スイッチングタイムに関するパラメータの最適化 25Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
26.
.MODEL MFIN03 NMOS
(L=1e-6 W=1e-6 LEVEL = 3 VMAX=1.8469Meg + THETA=4.832m VTO=5.0035 KP=630.2992m) .MODEL QOUT03 PNP (IS=2.51e-016 NF=1.2194 BF=4.8832 + CJE=6.10n TF=21.3n XTB=1.3) RB=0.7 RBを追加することで、各特性に変化があるいは影響度合いが強い場合は、 再度パラメータの最適化を行う。 最適化されたパラメータ 26Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
27.
FWD 27Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
28.
i VL Lの両端の電圧 ダイオードに流れる電流 リカバリー現象の領域 FWD 28Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
29.
i VL Lの両端の電圧 ダイオードに流れる電流 dt di LVL FWD 29Copyright (C)
Bee Technologies Inc. 2010
30.
FWD 逆回復時間の定義(IFIR法) 30Copyright (C) Bee
Technologies Inc. 2010
31.
FWD IFIR法の世界 パラメータ・モデル =スタンダードモデル ビヘイビア・モデル=等価回路モデル =プロフェッショナルモデル Measurement Measurement 31Copyright
(C) Bee Technologies Inc. 2010
32.
FWD 電流減少率didt法の世界 ハード・リカバリー、ソフトリカバリーも表現出来る 黄色線⇒ハード・リカバリー 赤線⇒ソフト・リカバリー 電流減少率didtモデル(=スペシャルモデルを採用) 32Copyright (C)
Bee Technologies Inc. 2010
33.
Bee Technologies Group Copyright
(C) Bee Technologies Inc. 2010 33 お問合わせ先) info@bee-tech.com 【本社】 株式会社ビー・テクノロジー 〒105-0012 東京都港区芝大門二丁目2番7号 7セントラルビル4階 代表電話: 03-5401-3851 設立日:2002年9月10日 資本金:8,830万円 【子会社】 Bee Technologies Corporation (アメリカ) Siam Bee Technologies Co.,Ltd. (タイランド) 本ドキュメントは予告なき変更をする場合がございます。 ご了承下さい。また、本文中に登場する製品及びサービス の名称は全て関係各社または個人の各国における商標 または登録商標です。本原稿に関するお問い合わせは、 当社にご連絡下さい。
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