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IGBTのスパイスモデル
株式会社ビー・テクノロジー
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1Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
Designer
EDA
Device
Model
Technology
of
Simulation
2Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
3Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
ABM=Analog Behavior Model
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4Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
スパイス・パーク http://www.spicepark.com/
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現在、グローバル版スパイス・パークを準備中。
5Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
IGBT(in SPICE PARK)
Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010 6
IGBT(in SPICE PARK)
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Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010 8
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Bee Style:
IGBTのスパイスモデルの推移
PSpice
IGBT
Model
PSpice
IGBT
Model
+
等価回路
MOSFET
+
BJT
9Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
IGBTのスパイスモデルの推移
10Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
PSpice
IGBT
Model
PSpice
IGBT
Model
+
等価回路
MOSFET
+
BJT
IGBTのスパイスモデルの構成
11Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
IGBTのデバイスモデリング
dt/dQgs
dt/dQdg
dt/dQmult
dt/dQds
dt/dQcer
dt/dQeb
mosI
cssI bssI
multI
TI
E(S)
b(d)
G
C
e
IGBT PSpice Model
等価回路図
5個のDC電流コンポーネントと
6個の容量性電荷コンポーネント
の構成です。
12Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
パラメータ 説明 単位 デフォルト値
AGD ゲート・ドレイン重なり面 m^2 5E-6
AREA デバイス面積 m^2 1E-5
BVF 電子アバランシュ均一係数 N/A 1
BVN 電子アバランシュ増倍の指数部 N/A 4
CGS 単位面積当たりのゲート・ソース間容量 F/cm^2 1.24E-8
COXD 単位面積当たりのゲート・ドレイン間酸化膜容量 F/cm^2 3.5E-8
JSNE エミッタ飽和電流密度 A/cm^2 6.5E-13
KF 3極管領域係数 N/A 1
KP MOSトランスコンダクタンス A/V^2 0.38
MUN 電子移動度 cm^2/(V・S) 1.5E3
MUP 正孔移動度 cm^2/(V・S) 4.5E2
NB ベース ドーピング 1/cm^3 2E14
TAU アンビポーラ再結合寿命 s 7.1E-6
THETA 遷移電解係数 1/V 0.02
VT しきい値 V 4.7
VTD ゲート・ドレイン重なり空乏しきい値 V 1E-3
WB 金属ベース幅 m 9E-5
IGBT PSpice Model パラメータ
13Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
Saturation Characteristics
14Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
Saturation Characteristics
飽和特性を補正する事で、精度良くPSpice Modelを活用する事が出来ます
15Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
MOSFET+BJT型モデル
16Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
長所
温度モデルを考慮したときの対策が可能(RC成分が抽出できる。ただし、
実測データからの合わせこみが必要である)である。
SPICEによるデバイス方程式がMOSとBJTなので、電気特性において
影響するパラメータが想定できるし、補正は必要な特性はABMモデルの
組み込みにより対応が容易である。
短所
BJTとMOSFETの双方の特性による因果関係から、パラメータの合わせ
こみが必要であり、高度なモデリング技術を必要とする。
→PSpice AAO(最適化ツール)を活用する。
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
17Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
DBE
DE
DDS
DO
85
C
RC
29.7415m
81
RE
17.5m
83
82
CGE
2.05n
Collector
RG
5
Gate
Emitter
M3
MFIN03
Q3
QOUT03
GateG
D3 DGD
R11
10Meg
+
-
+
-
S1
S
VON = 0mV
VOFF = -20mV
ROFF = 10e9
RON = 1m
G02
+
-
+
-
S2
S
VON = 0mV
VOFF = -20mV
ROFF = 10e9
RON = 1m
CGD_MAX
4.30E-9
R12 10Meg
G01
LE
7.50n
1 273 E
PARAMETERS:
IS = 2.51e-16
NF = 1.2194
BF = 4.8832
CJE = 6.10n
TF = 17n
XTB = 1.3
L = 1e-6
W = 1e-6
KP = 630.2292m
VTO = 5.0035
THETA = 4.8432m
VMAX = 1.8469Meg
IGBTモデルの等価回路図 (Bee Technologies Model)
18Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
1. Ic-Vge characteristicにおけるパラメータの最適化
IGBTのgfeに関する特性は飽和領域において次のように表される。
μns: Surface mobility of electrons
Z: Channel width
LCH: Channel length
VTH: Threshold voltage
VGE: Applied gate voltage
COX: Gate-oxide cap. Per unit area
αPNP: Current gain of the pnp transistor
 
 THGE
CH
OXns
PNP
fe VV
L
ZC
g 



1
1
19Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
MOSFETとBJTで前ページの方程式に関係するパラメータをPSpice AAO
にて最適化する。(この例では、活性領域におけるコレクタ電流を決定する
RCとその他のパラメータも一緒に最適化しているが、特性に関係しない
パラメータは最適化を行っても変化が無い。
PSpice AAO
20Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
最適化されたパラメータ
.MODEL MFIN03 NMOS (L=1e-6 W=1e-6 LEVEL = 3 VMAX=1.8469Meg
+ THETA=4.832m VTO=5.0035 KP=630.2992m)
.MODEL QOUT03 PNP (IS=2.51e-016 NF=1.2194 BF=4.8832 CJE=6.10n
+TF=17.0n XTB=1.3)
MOSFETのETAはゲートチャージのシミュレーションにおいて誤差を与える
ため、削除した。
但し、コレクタ電流が小さい領域では誤差が大きくなる。これはMOSFETのモデル
自体が小信号領域に対応していない為であり、別途補正回路が必要になる。
(大信号領域で合わせ込みを行った場合、問題となる)
21Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
2. パラメータ補正後での、その他特性を実測と比較
Ic-Vce(あるゲート電圧での)と出力特性(Vge-Vce、Ic-Vce)のシミュレーション
を行い、実測あるいはデータシート記載値と比較し、誤差が大きいようであれば、
再度必要なパラメータを最適化する。
3. ゲートチャージ特性(ゲート-ドレイン間容量特性)の補正
Cgdの特性はVdgが正、負の値によってそれぞれ変化する。このため、
実測とシミュレーションで誤差を生じる。よってG-D間に補正回路を付け加える。
22Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
デートチャージ特性でOFF期間~スイッチング期間を終了する期間までが
Vdg>0の期間のときで、Cgd-Vdg特性のカーブになっている領域である。
スイッチング期間終了時~オン期間に入るとVdg<0となり、そのとき
Cgdは一定値となる。ここで、Cgd-Vdg特性を表現するため、Vdg>0のとき、
曲線部分、Vdg<0のとき、同図の一定容量成分Cgdmaxの値にし、
Vdg=0V時のCgdmaxとCJOの値を一致させた特性に置き換える。
0
Qg
Vgs
Off Period Switching
Period
On Period
12V
Vds
200V Simulation
Measurement
VDG>0 VDG<0
0
Vdg
Cgd Use Cgdmax(const.)
Use DGD Parameter
CJO=Cgdmax, M,VJ
Fig2-6 Relation of Gate on Charge Characteristic and CGD
23Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
BJT+MOSFETのサブサーキット構成を用いる方式
Vdg>0のとき、下側MOSFETがオンするように(ドレイン)-(ゲート)間の電圧を
加える。下側MOSFETをオンさせて、カーブの表現にDGDの特性を用いる。
このとき、Diodeの Reverse C-V特性で用いた3つのパラメータを用い、
カーブを表現する。Vdg<0の場合は、上側のMOSFETがオンするように
(ゲート)-(ドレイン)間の電圧を加える。上側MOSFETをオンさせて、一定値
であるCgdmaxの値をそのまま使う。ここで表示しているMOSFETは理想
スイッチ(Vth=0V)を用いてサブサーキットを構成している。
G
D
S
Cgd
Cgs
Cbd Cgdmax
10Mohm
10Mohm
DGD
DG
Vth=0V(Ideal Switch)
E(G-D)
E(D-G)
CGD Characteristic is
Constant Value(CGDO)
Fig2-7 Corrected Sub-circuit Model of Gate-Drain Node
24Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
スイッチングタイムにはBJTのTF、BF、ゲート抵抗RGで調整可能であるが、
BFは最適化済なので、残り2つのパラメータで調整した。但し、この2つの
パラメータだけではtrの合わせ込みが不可能だったので、ベース抵抗RBを
挿入して合わせ込みを行った。RBを挿入することで、スイッチング時の
シミュレーション収束エラーも抑えることができる。
V_IC
0Vdc
M3
MFIN03
Q3
QOUT03
VD
600Vdc
D3 DGD
R11
10Meg
+
-
+
-
S1
S
VON = 0mV
VOFF = -20mV
ROFF = 10e9
RON = 1u
G02
+
-
+
-
S2
S
VON = 0mV
VOFF = -20mV
ROFF = 10e9
RON = 1u
CGD_MAX
4.30E-9
R12 10Meg
G01
PARAMETERS:
IS = 2.51e-16
NF = 1.2194
BF = 4.8832
CJE = 6.10n
TF = 21.3n
XTB = 1.3
L = 1e-6
W = 1e-6
KP = 630.2292m
VTO = 5.0035
THETA = 4.8432m
VMAX = 1.8469Meg
RL
42.8
VG
TD = 0
TF = 10n
PW = 5u
PER = 20u
V1 = -15
TR = 10n
V2 = 15
RGate
100
LE
7.50n
1 273 E
DBE
DE
DDS
DO
85
C
RC
29.7415m
81
RE
17.5m
82
83
CGE
2.05n
IC = 0
G
Collector
RG
5 Emitter R3
0.1u
0
RB
0.7
スイッチングタイムに関するパラメータの最適化
25Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
.MODEL MFIN03 NMOS (L=1e-6 W=1e-6 LEVEL = 3 VMAX=1.8469Meg
+ THETA=4.832m VTO=5.0035 KP=630.2992m)
.MODEL QOUT03 PNP (IS=2.51e-016 NF=1.2194 BF=4.8832
+ CJE=6.10n TF=21.3n XTB=1.3)
RB=0.7
RBを追加することで、各特性に変化があるいは影響度合いが強い場合は、
再度パラメータの最適化を行う。
最適化されたパラメータ
26Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
FWD
27Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
i
VL
Lの両端の電圧
ダイオードに流れる電流
リカバリー現象の領域
FWD
28Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
i
VL
Lの両端の電圧
ダイオードに流れる電流
dt
di
LVL 
FWD
29Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
FWD
逆回復時間の定義(IFIR法)
30Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
FWD IFIR法の世界
パラメータ・モデル
=スタンダードモデル
ビヘイビア・モデル=等価回路モデル
=プロフェッショナルモデル
Measurement Measurement
31Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
FWD 電流減少率didt法の世界
ハード・リカバリー、ソフトリカバリーも表現出来る
黄色線⇒ハード・リカバリー
赤線⇒ソフト・リカバリー
電流減少率didtモデル(=スペシャルモデルを採用)
32Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010
Bee Technologies Group
Copyright (C) Bee Technologies Inc. 2010 33
お問合わせ先)
info@bee-tech.com
【本社】
株式会社ビー・テクノロジー
〒105-0012 東京都港区芝大門二丁目2番7号 7セントラルビル4階
代表電話: 03-5401-3851
設立日:2002年9月10日
資本金:8,830万円
【子会社】
Bee Technologies Corporation (アメリカ)
Siam Bee Technologies Co.,Ltd. (タイランド)
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