1. 射頻濺鍍機
(RADIO FREQUENCY SUPPTER)

2. 大綱
濺鍍原理
真空原理
機台組件介紹
實作
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3. 濺鍍原理
濺鍍：在真空下，上下兩端極板通電 (基板陽極、靶材陰極)
使 Ar氣體原子的解離成 Ar=>Ar+＋e－
Ar+離子被加速撞擊陰極靶材濺射出靶材原子後，
在陽極基板沉積成薄膜。
濺鍍是以物理現象的方式，進行薄膜沉積的技術，此種
技術又稱為物理氣相沉積(Physical Vapor
Deposition，簡稱PVD)。
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4. 射頻磁控濺鍍機
通入濺鍍氣體
氬氣(Ar)
基板
上+電極板(基板)和
下-電極板(濺鍍槍)
電 漿 之間施以電壓，當
電漿氣體濃度於一
靶材 適當區間，電漿內
的離子將會轟擊靶
材，濺射出靶材的
濺鍍槍 原子，於基板的試
片上沉積薄膜。
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5. 真空原理
真空：壓力低於一個標準大氣壓的稀薄氣體空間稱為
真空。
在高真空狀態下， 由於氣體稀薄，分子之間或分子與
其他質點之間的碰撞次數減少，分子在一定時間內碰
撞於固體表面上的次數亦相對減少，這導致其有一系
列新的物化特性，諸如熱傳導與對流小，氧化作用
少，氣體污染小，高真空的絕緣性能好等等。
真空狀態
低真空 高真空 超高真空
1~10-3 torr 10-3 ~10-7 torr 10-7 torr以下 5

6. 機台組件介紹
真空腔體 冰
水
機
控制機台
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7. 機台組件介紹
控制機台
主控電腦
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8. 機台組件介紹
控制機台
RF電源供應器
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9. 機台組件介紹
控制機台
基板旋轉控制器 基板加熱溫度
Turbo 幫浦
轉速顯示器
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10. 機台組件介紹
控制機台
人機控制面板
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11. 實作-開機
啟動冰水機
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12. 實作-開機
開啟電腦POWER
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13. 實作-開機
開啟RF電源供應器2個按鈕
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14. 實作-開機
開啟氬氣桶(注意壓力表範圍為1)
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15. 實作-開機
確定RF Cable鎖在要鍍的濺鍍槍
(左邊為金屬靶材用、右邊為非金屬靶材用)
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16. 實作-開機
登入系統使用者
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17. 實作-開機
主程式畫面
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18. 實作-開機
高、低真空幫浦開啟
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19. 實作-破真空
破腔體真空放試片、
換靶材
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20. 實作-抽真空
抽腔體真空
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21. 實作-幫浦降速
高真空幫浦降速，才
可通入氬氣，避免氣
體流量過大。
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22. 實作-通氣體
通入製程氣體，形成電漿
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23. 實作-濺鍍
視需求評估濺鍍時間
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24. 實作-濺鍍完畢
濺鍍完，停止濺鍍，
停止通氣體。
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25. 實作-關機
依前述破真空取出
試片後，再抽真空。
執行關機程序。
先停止高真空幫浦。
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26. 實作-關機
待高真空幫浦降至
1萬轉後，才可再關
腔體前級閥和幫浦。
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27. 實作-關機
最後關機動作
電腦正常關機
關閉RF電源供應器2按鈕
關閉冰水機
關閉氣瓶閥門
完成關機程序
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28. 使用貴重儀器務必小心謹慎，如有
疑問請立刻詢問相關機台負責人
員，以確保人員與儀器安全!!
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