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Fusion Reactor LLC Confidencial 1
大手半導体製造装置メーカの集約
‐アプライドマテリアルと東京エレクトロン
の合併効果‐
Fusion Reactor LLC
Fusion Reactor LLC Confidencial 2
半導体プロセスにおいて、成膜とエッチングは主要な部分である。製
造装置市場の約半分の売上を占める。
半導体製造プロセス
Fusion Reactor LLC Confidencial 3
以前は、大手4社が存在したが、大型M&Aで2社に集約された。
2011年12月 New Lam Research 誕生
Lam Research (LAM)
+
Novellus Systems, Inc.(Novellus)
2013年9月 New AMAT誕生
Applied Materials(AMAT)
+
Tokyo Electron(TEL)
半導体製造装置の再編
Fusion Reactor LLC Confidencial 4
世界の半導体装置製造業界のうち、成膜装置(Deposition Tool)とエッチング装置(Etching Tool)で
約半数を占める。
2011年の成膜装置(Deposition)とエッチング装置(Etching)の世界市場は184億ドル。
2010年から2015年の成長率は平均4%。半導体製造装置全体も4%台。
半導体(チップ)市場は約30兆円と言われており、2010年から今後10年の成長率は8-10%と
いう予想もあるが、半導体製造装置はそれに比べると低い伸び。
半導体製造装置市場推移
123%129%113%107%124%100%44%76%123%112%85%% (100%=Y2010)
4.1%-15.4%18,25519,25616,87715,89518,41414,9046,50511,31418,26316,65712,714
1+2.成膜成膜成膜成膜+エッチング装置エッチング装置エッチング装置エッチング装置
4.0%-13.7%8,6759,1277,9787,4948,6597,1382,9445,3588,5147,5525,5452.エッチング・洗浄装置
4.3%-14.6%9,57910,1298,8988,4019,7557,7653,5615,9579,7499,1057,1691.成膜装置
4.8%-14.3%37,55439,31134,19231,95736,73829,65013,20325,09437,12533,68926,844
半導体製造装置半導体製造装置半導体製造装置半導体製造装置
10 -
15
CAG
R
04 -
09
CAG
R
20152014201320122011201020092008200720062005
$M単位
Fusion Reactor LLC Confidencial 5
2011年は一旦ピークをつけるが2012年は減少。2013年以降回復の
見込み。
成膜装置+エッチング装置市場トレンド
成膜
エッチング
Fusion Reactor LLC Confidencial 6
New AMATは、成膜市場で約3分の2のシェアを持つダントツのトップ企
業となった。
1.成膜装置市場動向1.成膜装置市場動向1.成膜装置市場動向1.成膜装置市場動向
278336302282240218165115New Lam Research
145214601244138912541142751559New AMAT
2,2232,3442,0762,1311,9011,7091,333969Total
11410110811493102166132otherother
17930383217155Intevac, Inc.ITVNA10
192718181518218Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.DNSJA9
2225212917844Jusung Engineering Co., LtdJELKS8
3633333839284826Veeco Instruments, Inc.VEENA7
6551563742313434Ulvac, Inc.UVCJA6
1431361086865566045ASM International N.V.ASMEU5
176167156118102906941Hitachi Kokusai ElectricKSEJA4
278336302282240218165115Novellus Systems, Inc.NVSNA3
404501357419291273198127Tokyo Electron LTD.TELJA2
948959887970963869553432Applied MaterialsAMATNA1
2Q11P1Q11P4Q103Q102Q101Q104Q093Q09COMPANYMSTRIDAOW
(Total sales in $M, calendar quarter)
Fusion Reactor LLC Confidencial 7
エッチング・洗浄装置において、これまでLam Researchが非常に強
かったが、New AMATはNew Lam Researchと同規模の売上を持つ企
業となった。
2.エッチング・洗浄装置市場動向
513699549616487496272241New AMAT
529565654618519480320206New Lam Research
1,1991,3991,3471,3581,1181,112679541Total
3433333431254033otherother
891276432Oxford Instruments Ltd.OXFEU10
91315141611128Novellus Systems, Inc.NVSNA9
1416101261328Shibaura Mechatronics Corp.SHBRJA8
1528183521702539Hitachi High-Technologies CorporationHTLJA7
18162392216115PSK Inc.PSKTKS6
20819146432Axcelis TechnologiesACLSNA5
2825281520633Mattson Technology, Inc.MATTNA4
18321622523622323311992Applied MaterialsAMATNA3
350483324380264263153149Tokyo Electron LTD.TELJA2
520552639604503469308198Lam Research CorporationLAMNA1
2Q11P1Q11P4Q103Q102Q101Q104Q093Q09COMPANYMSTRIDAOW
(Total sales in $M, by supplier, calendar year)
8
旧AMATは広く製品を取り揃えており、圧倒的にCVDは強い。旧NovellusはCVD
で二番手。旧LAMはEtching専業でトップ。旧TELはInsulaterEtchingに強みを持つ。
旧大手4社の主要製品
New Lam ResearchNew AMAT
Tactras SCCM-poly
Telius SCCM II
Tactras Vigus
Unity-EP
Trias
TELFORMULA
TELINDY
Tel
中高Centural DxZAP CVDDepo
sition
プラ
ズマ
中
中
中
中
na
高
高
中
中
温
度
GAMMAアッシング
中TCP9400DFM
2300 Versys Star
Centrura Transforma EtchSilicon
Etching
中2300 Exelan
Exelan HPT
Applied Centura Enabler E5Insulater
Etching
中TCP9600DFM
2300 Versys Kiyo
Centura DPS IIMetal
Etching
Etch
中INOVA xT/NEcTEndura2 CuBS PVDPVD
naALTUS
ALTUS DirectFill
Centura iSprint Tungstenその他metal
CVD
高Centura Epi/RP EpiHT
CVD(EPI)
高SPEED
VECTOR
Centula Singen Plus LPCVDLP CVD
中SPEED
VECTOR
Producer SE
Producer APF Film
PECVD
低SPEED
VECTOR
Producer Plus HPCVDHDP CVD
成
長
性
NovellusLam ResearchAMAT
Type
赤1番、青2位、黄3位
New AMATは圧倒的な強みを持つ。
Fusion Reactor LLC Confidencial 9
連絡先
Fusion Reactor LLCFusion Reactor LLCFusion Reactor LLCFusion Reactor LLC
ホームページホームページホームページホームページ http://www.fusionhttp://www.fusionhttp://www.fusionhttp://www.fusion----reactor.biz/japanesereactor.biz/japanesereactor.biz/japanesereactor.biz/japanese
米国本社所在地米国本社所在地米国本社所在地米国本社所在地
830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA
代表代表代表代表 ;;;; 徳田徳田徳田徳田 浩司浩司浩司浩司
電話電話電話電話 日本日本日本日本 050050050050----5534553455345534----1114111411141114 ((((国内電話で通じます国内電話で通じます国内電話で通じます国内電話で通じます))))
EEEE----mail:mail:mail:mail: info@fusioninfo@fusioninfo@fusioninfo@fusion----reactor.bizreactor.bizreactor.bizreactor.biz
24時間365日対応いたします。お気軽にご談ください!

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  • 2. Fusion Reactor LLC Confidencial 2 半導体プロセスにおいて、成膜とエッチングは主要な部分である。製 造装置市場の約半分の売上を占める。 半導体製造プロセス
  • 3. Fusion Reactor LLC Confidencial 3 以前は、大手4社が存在したが、大型M&Aで2社に集約された。 2011年12月 New Lam Research 誕生 Lam Research (LAM) + Novellus Systems, Inc.(Novellus) 2013年9月 New AMAT誕生 Applied Materials(AMAT) + Tokyo Electron(TEL) 半導体製造装置の再編
  • 4. Fusion Reactor LLC Confidencial 4 世界の半導体装置製造業界のうち、成膜装置(Deposition Tool)とエッチング装置(Etching Tool)で 約半数を占める。 2011年の成膜装置(Deposition)とエッチング装置(Etching)の世界市場は184億ドル。 2010年から2015年の成長率は平均4%。半導体製造装置全体も4%台。 半導体(チップ)市場は約30兆円と言われており、2010年から今後10年の成長率は8-10%と いう予想もあるが、半導体製造装置はそれに比べると低い伸び。 半導体製造装置市場推移 123%129%113%107%124%100%44%76%123%112%85%% (100%=Y2010) 4.1%-15.4%18,25519,25616,87715,89518,41414,9046,50511,31418,26316,65712,714 1+2.成膜成膜成膜成膜+エッチング装置エッチング装置エッチング装置エッチング装置 4.0%-13.7%8,6759,1277,9787,4948,6597,1382,9445,3588,5147,5525,5452.エッチング・洗浄装置 4.3%-14.6%9,57910,1298,8988,4019,7557,7653,5615,9579,7499,1057,1691.成膜装置 4.8%-14.3%37,55439,31134,19231,95736,73829,65013,20325,09437,12533,68926,844 半導体製造装置半導体製造装置半導体製造装置半導体製造装置 10 - 15 CAG R 04 - 09 CAG R 20152014201320122011201020092008200720062005 $M単位
  • 5. Fusion Reactor LLC Confidencial 5 2011年は一旦ピークをつけるが2012年は減少。2013年以降回復の 見込み。 成膜装置+エッチング装置市場トレンド 成膜 エッチング
  • 6. Fusion Reactor LLC Confidencial 6 New AMATは、成膜市場で約3分の2のシェアを持つダントツのトップ企 業となった。 1.成膜装置市場動向1.成膜装置市場動向1.成膜装置市場動向1.成膜装置市場動向 278336302282240218165115New Lam Research 145214601244138912541142751559New AMAT 2,2232,3442,0762,1311,9011,7091,333969Total 11410110811493102166132otherother 17930383217155Intevac, Inc.ITVNA10 192718181518218Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.DNSJA9 2225212917844Jusung Engineering Co., LtdJELKS8 3633333839284826Veeco Instruments, Inc.VEENA7 6551563742313434Ulvac, Inc.UVCJA6 1431361086865566045ASM International N.V.ASMEU5 176167156118102906941Hitachi Kokusai ElectricKSEJA4 278336302282240218165115Novellus Systems, Inc.NVSNA3 404501357419291273198127Tokyo Electron LTD.TELJA2 948959887970963869553432Applied MaterialsAMATNA1 2Q11P1Q11P4Q103Q102Q101Q104Q093Q09COMPANYMSTRIDAOW (Total sales in $M, calendar quarter)
  • 7. Fusion Reactor LLC Confidencial 7 エッチング・洗浄装置において、これまでLam Researchが非常に強 かったが、New AMATはNew Lam Researchと同規模の売上を持つ企 業となった。 2.エッチング・洗浄装置市場動向 513699549616487496272241New AMAT 529565654618519480320206New Lam Research 1,1991,3991,3471,3581,1181,112679541Total 3433333431254033otherother 891276432Oxford Instruments Ltd.OXFEU10 91315141611128Novellus Systems, Inc.NVSNA9 1416101261328Shibaura Mechatronics Corp.SHBRJA8 1528183521702539Hitachi High-Technologies CorporationHTLJA7 18162392216115PSK Inc.PSKTKS6 20819146432Axcelis TechnologiesACLSNA5 2825281520633Mattson Technology, Inc.MATTNA4 18321622523622323311992Applied MaterialsAMATNA3 350483324380264263153149Tokyo Electron LTD.TELJA2 520552639604503469308198Lam Research CorporationLAMNA1 2Q11P1Q11P4Q103Q102Q101Q104Q093Q09COMPANYMSTRIDAOW (Total sales in $M, by supplier, calendar year)
  • 8. 8 旧AMATは広く製品を取り揃えており、圧倒的にCVDは強い。旧NovellusはCVD で二番手。旧LAMはEtching専業でトップ。旧TELはInsulaterEtchingに強みを持つ。 旧大手4社の主要製品 New Lam ResearchNew AMAT Tactras SCCM-poly Telius SCCM II Tactras Vigus Unity-EP Trias TELFORMULA TELINDY Tel 中高Centural DxZAP CVDDepo sition プラ ズマ 中 中 中 中 na 高 高 中 中 温 度 GAMMAアッシング 中TCP9400DFM 2300 Versys Star Centrura Transforma EtchSilicon Etching 中2300 Exelan Exelan HPT Applied Centura Enabler E5Insulater Etching 中TCP9600DFM 2300 Versys Kiyo Centura DPS IIMetal Etching Etch 中INOVA xT/NEcTEndura2 CuBS PVDPVD naALTUS ALTUS DirectFill Centura iSprint Tungstenその他metal CVD 高Centura Epi/RP EpiHT CVD(EPI) 高SPEED VECTOR Centula Singen Plus LPCVDLP CVD 中SPEED VECTOR Producer SE Producer APF Film PECVD 低SPEED VECTOR Producer Plus HPCVDHDP CVD 成 長 性 NovellusLam ResearchAMAT Type 赤1番、青2位、黄3位 New AMATは圧倒的な強みを持つ。
  • 9. Fusion Reactor LLC Confidencial 9 連絡先 Fusion Reactor LLCFusion Reactor LLCFusion Reactor LLCFusion Reactor LLC ホームページホームページホームページホームページ http://www.fusionhttp://www.fusionhttp://www.fusionhttp://www.fusion----reactor.biz/japanesereactor.biz/japanesereactor.biz/japanesereactor.biz/japanese 米国本社所在地米国本社所在地米国本社所在地米国本社所在地 830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA830 Stewart Drive, Suite 277, Sunnyvale, CA 94085, USA 代表代表代表代表 ;;;; 徳田徳田徳田徳田 浩司浩司浩司浩司 電話電話電話電話 日本日本日本日本 050050050050----5534553455345534----1114111411141114 ((((国内電話で通じます国内電話で通じます国内電話で通じます国内電話で通じます)))) EEEE----mail:mail:mail:mail: info@fusioninfo@fusioninfo@fusioninfo@fusion----reactor.bizreactor.bizreactor.bizreactor.biz 24時間365日対応いたします。お気軽にご談ください!