Dokumen ini membahas tentang nanofabrication yang terbagi menjadi dua metode: 'top-down' dan 'bottom-up'. Metode 'top-down' mencakup litografi, pemendapan, dan pengasingan, sedangkan metode 'bottom-up' meliputi kimia pertumbuhan wap dan reaksi sendiri. Terdapat berbagai teknik dan jenis bahan yang digunakan dalam nanofabrication, serta beberapa peneliti awal yang berkontribusi dalam bidang ini.

1. Muhammad afitah bin awang
Ap090086
900411-03-6299

2. NANOFABRICATION
 Nanofabrication terbahagi kepada dua iaitu “top
dowm” dan “bottom up”.
 Contoh “top down” adalah optical, x-ray, EUV,
Ebeam,SPM,imprinting,etc.
 Contoh “bottom up” adalah Self-assembly, Langmuir-
Blodgett, etc.

3. KAEDAH-KAEDAH “TOP-DOWN”
 Pemindahan Corak (litografi)
 Pemendapan (atau pertumbuhan filem)
 Punaran (atau penyingkiran bahan)

4. 1. Pemindahan Corak (litografi)
 Menambah satu bahan yang sensitif kepada cahaya yang
dipangil photoresist kepada permukaan bahan substrat
 Meletakan photomask selari dengan bahan substrat
 Pengunaan photomask adalah untuk menentukan bahagian-
bahagian terkena pancaran UV atau tidak
-Diperbuat daripada kaca atau kuarza dengan corak krom
- Walaupun topeng perlu dibuat dengan litografi
 Dengan itu bahagian yang terkena sinaran UV akan
“membentuk”
 Terdapat dua jenis photoresists
-positive resists
-negative resists

5. 2. Pemendapan (atau
pertumbuhan filem)
 Dilakukan dalam keadaan vacum
 Menggunakan suhu yang tinggi untuk mencairkan
logam
 Berlaku proses penyejatan logam
 Bahan akan menjadi mendakan
 Terdapat dua jenis mendakan wap kimia
-Mendakan kimia bertekanan tinggi
-Mendakan kimia bertekanan rendah

6. 3. Pengasingan (atau penyingkiran
bahan)
 Penggunaan bahan cecair yang bertindakbalas dengan
bahan substrat(tujuan):
-Untuk membasahkan corak bahan amorfus bagi
menghasilkan bentuk isotropi
-Isotropi akan besar jika dalam
 Penyingkiran ion aktif
 Mendakan kimia bertekanan tinggi(ciri-cirinya)
 Mendakan kimia bertekanan rendah(ciri-cirinya)

7. KAEDAH-KAEDAH “BOTTOM-UP”
 Kimia pertumbuhan wap: pertumbuhan wap pepejal-
cecair
 Bertindak balas sendiri (kimia klorida)

8. 1. Kimia pertumbuhan wap:
pertumbuhan wap pepejal-cecair
 Kaedah perkembangan wap-cecair –pepejal
 -Penggunaan pemangkin diperlukan untuk berlakunya
tindak balas
 -Pemangkin membentuk titisan cecair yang bertindak
sebagai tapak penukleusan untuk berlakunya tindak
balas perkembangan
 -pemangkin dijual dalam bentuk tepu

9. 2. Bertindak balas sendiri (kimia
klorida)
 Berlaku pemanasan sendiri kerana bertindak balas
dengan ion lain.
 Hasil daripada tindak balas terhasilah substrak
 Klorida: merujuk kepada keadaan Pecah Sempadan
dalam satu-satu larutan.
 Contoh bahan-bahan yang biasanya berlaku koloid:-
- Krim putar
- Susu
- Kabus
- Asap

10. SIAPAKAH ANTARA ORANG YANG
TERAWAL YANG MENKAJI TENTANG
NANOFABRICATION
 Byron D. Gates
 Declan Ryan
 Qiaobing Xu
 Michael D. Stewart
 C. Grant Willson