第30回関西CVPRML勉強会資料
- 2. 自己紹介
• 名前
• 田中 賢一郎 / Kenichiro Tanaka
• 所属
• [学籍] 大阪大学 八木研究室
• [普段] 奈良先端大 向川研究室
• 学年
• D2
• Research interest
• Computational Photography
• 光学+計算機 カメラの限界を超える
• Webpage
• http://osku.jp/q000
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- 7. 高周波成分の分離(高周波照明[Nayar et al.])
• 細かい(高周波な)パターンを投影
• 高周波成分
• 投影パターンを保持
• 鮮明な画像
• 低周波成分
• パターンは消える
• ボケた画像
• 投影パターンを反転させる
• 変化した観測:高周波成分
• 変化しなかった観測:低周波成分
• 演算により成分を分離
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高周波成分
低周波成分
- 8. 層構造物体における高周波成分の分離
• パターンの細かさ 𝑝 における高周波成分の分離
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高周波成分 低周波成分
𝐷(𝑝) 𝐺(𝑝)
通常近赤外撮影
高周波照明法で
成分分離
𝐷 𝑑1(𝑝)
𝐷 𝑑2(𝑝)
∑
𝐺 𝑑1(𝑝)
𝐺 𝑑2(𝑝)
∑
𝑑 = 𝑑1
𝑑 = 𝑑2
∑
各レイヤの成分
≈ 𝜶 𝒅 𝟏, 𝒑 𝑹 𝒅𝟏
≈ 𝜶 𝒅 𝟐, 𝒑 𝑹 𝒅𝟐
復元したい画像 𝑅 𝑑