SlideShare a Scribd company logo
1 of 4
10
ČEskosLDVENSKÁ S0CIALISTICKÁ REPUBLIKA
rrida 21 g, Vydáno 15. července 1961 » vyloženo 15. ledna 1961
PATENTNÍ SPIs č. 100229
Právo k využití vynálezu přísluší státu podle 3 odst. 6 zák. . 34/1957 Sb.
JAN AULICH, PAVLOV
Způsob a zařízení k aktivaci fotovodivé hmoty k přípravě sintrovaných fotoodporů
Přihlášeno 13. ledna 1960 (PV 243-60) Platnost patentu od 13. . ledna 1960
Aktivace fotovodivé hmoty k přípravě sintrovaných fotoodporů je dosud prováděna tím
způsobem, že aktivační látka se rovnoměrně rozptýlí ve fotovodivé hmotě, ze které je fotoodpor
zhotoven. Lze použíti pouze takových sloučenin, které nepůsobí rušivě na příslušnou
fotovodivou hmotu sintrovaných fotoodporů. Dále se nepříznivě projevuje rozklad některých
aktivačních sloučenin během sintrace fotoodporu. Skutečnost, že aktivace je provedena v celé
hmotě fotoodporu, je příčinou větších proudů ve tmě a projeví se také menší změnou odporu při
osvětlení a ve tmě.
Nový způsob aktivace fotovodivé hmoty pro sintrované fotoodpory, podle vynálezu, používá
povrchové aktivace. K vlastní aktivaci fotovodivé hmoty dojde až během sintrace fotoodporu. Povrchová
aktivace zasahuje pouze část průřezu hmoty fotoodporu a neaktivovaná část hmoty si zachovává své
dobré isolační vlastnosti. Odpor fotoodporu ve tmě, který je určen převážně aktivací, je větší při
povrchové aktivaci než při aktivaci hmoty fotoodporu v celém průřezu. Povrchovou aktivací se u
fotoodporů rovněž zlepší poměr odporu za tmy k odporu při osvětlení. Fotovodivá hmota, ze které se
sintrují fotoodpory, nemusí být před sintrací aktivována. Je možno použíti neaktivované fotovodivé hmoty
a aktivační látku rozptýliti do hmoty obalového pouzdra, ve kterém
je fotoodpor sintrován.
2 100229
Během sintrace, působením sintrační teploty, je fotovodivá hmota A povrchově aktivována
příslušnou aktivační látkou obsaženou ve hmotě . obalového pouzdra. Aktivační látku je též
možno manést na obalové pouzdro naprášením nebo napařením.
Aktivační látka je obsažena ve hmotě obalového pouzdra, ve kterém je fotovodivá hmota sintrována.
Obalové pouzdro je skleněné ve složení:
V tomto obalovém pouzdře je možno sintrovat fotovodivou hmotu, která je povrchově aktivována
během sintrace sloučeninami obsaženými ve skle.
Aktivační látka je nanesena na vnitřní stěně obalového pouzdra, ve kterém se fotovodivá hmota
sintruje. Obalové pouzdro je kapilára z křemenného skla. Do otvoru kapiláry je pomocí stříbrných elektrod
a elektrického oblouku napařeno stříbro jako aktivační látka. V takto připraveném obalovém pouzdře je
možno sintrovat fotovodivou hmotu a vyrobit tak fotoodpor s povrchovou aktivací.
Předmět patentu
1. Způsob aktivace fotovodivé hmoty k přípravě sintrovaných fotoodporů, vyznačený tím, že aktivace
fotovodivé hmoty se provede v průběhu sintrace pouze na povrchu. -
2. Zařízení k provádění způsobu podle bodu 1, vyznačené tím, že obalové pouzdro, ve kterém se
fotovodivá hmota sintruje, obsahuje aktivační látku.
3. Zařízení k provádění způsobu podle bodu 1, vyznačené tím, že pouzdro, ve
kterém se fotovodivá hmota sintruje, má nanesenou aktivační látku na vnitřní stěně.
Severografia, n. p, závod 03 .

More Related Content

Viewers also liked

J. herculano pires mediunidade
J. herculano pires   mediunidadeJ. herculano pires   mediunidade
J. herculano pires mediunidadeHelio Cruz
 
GDCD6 - Bai 4 - Le do
GDCD6 - Bai 4 - Le doGDCD6 - Bai 4 - Le do
GDCD6 - Bai 4 - Le doAnh Tuan
 
Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...
Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...
Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...Alex Bell
 
2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)
2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)
2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)whisky CHANG
 
1.1. introduccion GP
1.1. introduccion GP1.1. introduccion GP
1.1. introduccion GPholguin69
 

Viewers also liked (16)

100216
100216100216
100216
 
100215
100215100215
100215
 
100218
100218100218
100218
 
100228
100228100228
100228
 
100230
100230100230
100230
 
100217
100217100217
100217
 
J. herculano pires mediunidade
J. herculano pires   mediunidadeJ. herculano pires   mediunidade
J. herculano pires mediunidade
 
100223
100223100223
100223
 
100212
100212100212
100212
 
GDCD6 - Bai 4 - Le do
GDCD6 - Bai 4 - Le doGDCD6 - Bai 4 - Le do
GDCD6 - Bai 4 - Le do
 
Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...
Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...
Complex Analysis - Differentiability and Analyticity (Team 2) - University of...
 
100214
100214100214
100214
 
2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)
2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)
2016.01.15.政府資料開放未來展望 (行政院)
 
1.1. introduccion GP
1.1. introduccion GP1.1. introduccion GP
1.1. introduccion GP
 
My eva
My evaMy eva
My eva
 
Teorías del aprendizaje
Teorías del aprendizajeTeorías del aprendizaje
Teorías del aprendizaje
 

More from ivanov15548 (16)

100206
100206100206
100206
 
100221
100221100221
100221
 
100201
100201100201
100201
 
100200
100200100200
100200
 
100208
100208100208
100208
 
100202
100202100202
100202
 
100203
100203100203
100203
 
100205
100205100205
100205
 
100210
100210100210
100210
 
100207
100207100207
100207
 
100209
100209100209
100209
 
100211
100211100211
100211
 
100231
100231100231
100231
 
100234
100234100234
100234
 
100239
100239100239
100239
 
100232
100232100232
100232
 

100229

  • 1.
  • 2. 10 ČEskosLDVENSKÁ S0CIALISTICKÁ REPUBLIKA rrida 21 g, Vydáno 15. července 1961 » vyloženo 15. ledna 1961 PATENTNÍ SPIs č. 100229 Právo k využití vynálezu přísluší státu podle 3 odst. 6 zák. . 34/1957 Sb. JAN AULICH, PAVLOV Způsob a zařízení k aktivaci fotovodivé hmoty k přípravě sintrovaných fotoodporů Přihlášeno 13. ledna 1960 (PV 243-60) Platnost patentu od 13. . ledna 1960 Aktivace fotovodivé hmoty k přípravě sintrovaných fotoodporů je dosud prováděna tím způsobem, že aktivační látka se rovnoměrně rozptýlí ve fotovodivé hmotě, ze které je fotoodpor zhotoven. Lze použíti pouze takových sloučenin, které nepůsobí rušivě na příslušnou fotovodivou hmotu sintrovaných fotoodporů. Dále se nepříznivě projevuje rozklad některých aktivačních sloučenin během sintrace fotoodporu. Skutečnost, že aktivace je provedena v celé hmotě fotoodporu, je příčinou větších proudů ve tmě a projeví se také menší změnou odporu při osvětlení a ve tmě. Nový způsob aktivace fotovodivé hmoty pro sintrované fotoodpory, podle vynálezu, používá povrchové aktivace. K vlastní aktivaci fotovodivé hmoty dojde až během sintrace fotoodporu. Povrchová aktivace zasahuje pouze část průřezu hmoty fotoodporu a neaktivovaná část hmoty si zachovává své dobré isolační vlastnosti. Odpor fotoodporu ve tmě, který je určen převážně aktivací, je větší při povrchové aktivaci než při aktivaci hmoty fotoodporu v celém průřezu. Povrchovou aktivací se u fotoodporů rovněž zlepší poměr odporu za tmy k odporu při osvětlení. Fotovodivá hmota, ze které se sintrují fotoodpory, nemusí být před sintrací aktivována. Je možno použíti neaktivované fotovodivé hmoty a aktivační látku rozptýliti do hmoty obalového pouzdra, ve kterém je fotoodpor sintrován.
  • 3.
  • 4. 2 100229 Během sintrace, působením sintrační teploty, je fotovodivá hmota A povrchově aktivována příslušnou aktivační látkou obsaženou ve hmotě . obalového pouzdra. Aktivační látku je též možno manést na obalové pouzdro naprášením nebo napařením. Aktivační látka je obsažena ve hmotě obalového pouzdra, ve kterém je fotovodivá hmota sintrována. Obalové pouzdro je skleněné ve složení: V tomto obalovém pouzdře je možno sintrovat fotovodivou hmotu, která je povrchově aktivována během sintrace sloučeninami obsaženými ve skle. Aktivační látka je nanesena na vnitřní stěně obalového pouzdra, ve kterém se fotovodivá hmota sintruje. Obalové pouzdro je kapilára z křemenného skla. Do otvoru kapiláry je pomocí stříbrných elektrod a elektrického oblouku napařeno stříbro jako aktivační látka. V takto připraveném obalovém pouzdře je možno sintrovat fotovodivou hmotu a vyrobit tak fotoodpor s povrchovou aktivací. Předmět patentu 1. Způsob aktivace fotovodivé hmoty k přípravě sintrovaných fotoodporů, vyznačený tím, že aktivace fotovodivé hmoty se provede v průběhu sintrace pouze na povrchu. - 2. Zařízení k provádění způsobu podle bodu 1, vyznačené tím, že obalové pouzdro, ve kterém se fotovodivá hmota sintruje, obsahuje aktivační látku. 3. Zařízení k provádění způsobu podle bodu 1, vyznačené tím, že pouzdro, ve kterém se fotovodivá hmota sintruje, má nanesenou aktivační látku na vnitřní stěně. Severografia, n. p, závod 03 .