SlideShare a Scribd company logo
1 of 11
Download to read offline
Wanneer is een
       cleanroom nodig?
                           Koos Agricola
                Cleanroom Contamination Control Solutions




10 maart 2011                    Koos Agricola              1




                                 Inhoud
            Kwetsbaar product
            Wat is een cleanroom?
            Cleanroom classificaties
            Contaminatie van een kwetsbaar product
            Product analyse
            Voorbeeld
            Maatregelen om het product te beschermen
            Noodzaak van een cleanroom
            Conclusie


10 maart 2011                    Koos Agricola              2
Kwetsbaar product
           Functionaliteit product
           Verstoring functionaliteit product door
           ongewenste contaminatie van:
                 Deeltjes soort (levend/dood, geleidend/isolerend)
                 Deeltjes grootte en aantal
                 Chemische componenten




10 maart 2011                                       Koos Agricola                                      3




                  Oorsprong verstoring
                Productie proces
                   Contaminatie bij blootstelling
                   Contaminatie via contactoverdracht
                   Contaminatie door aangroei
                   Onderdelen en bewerkingen

                                                                                Functies product
                                                      defect



                                                                                      Product



                                 Een bepaald oppervlak op bepaald moment.

                                     deeltjes         Bronnen die leiden tot defecten

                                    neerslag                   aanstroming
                                                  Contact



                                Kwetsbaar oppervlak
10 maart 2011                                       Koos Agricola
                  Verschillende onderdelen zijn op verschillende momenten gevoelig voor
                                                                                                       4
                  deeltjescontaminatie. Een defect kan leiden tot het falen van een product functie.
Wat is een cleanroom?

            Doos schone lucht
            Op overdruk
            Sluizen
            Doorspoeld met gefilterde lucht
            Oppervlakken alleen schoon door reiniging
            Voorkomen of inpakken bronnen
            Ruimte geclassificeerd volgens ISO
            normen 14644/14698 van de TC 209
10 maart 2011                Koos Agricola              5




                Cleanroom classificaties

            Reinheid
                 Lucht
                 Oppervlak
            Concentratie
                 Deeltjes
                 Mirco-organisemen (alleen in KVE’s)
                 Chemische componenten
                 Nanodeeltjes

10 maart 2011                Koos Agricola              6
Cleanroom classificaties
                Lucht reinheid m.b.t. deeltjes
            Concentratie deeltjes in de lucht (m3)
            ISO 14644-1: Air cleanliness by particles (ACP)
            Cn = 10N/(10.d)2,08, d ≥ 0,1 µm
            ISO 6, 106 ≥ 0,1 µm, -> 4.000 ≥ 5 µm per m3




10 maart 2011                                                            Koos Agricola                                7




                Cleanroom classificaties
            Oppervlaktereinheid m.b.t. deeltjes
            Concentratie deeltjes op oppervlakken (m2)
            ISO 14644-9, Surface cleanliness by particles
            SCP N: An = 10N/d , d ≥ 1 µm
            nd*d = constant
            SCP 5, 105 ≥ 1 µm, -> 20.000 ≥ 5 µm per m2
                                                       Proposed ISO 14644-9 Surface Cleanliness Classes

                                                     100.000.000
                    Max number of particles per m2




                                                      10.000.000                                      SPC Class   1
                                                       1.000.000                                      SPC Class   2
                                                                                                      SPC Class   3
                                                        100.000                                       SPC Class   4
                                                         10.000                                       SPC Class   5
                                                                                                      SPC Class   6
                                                           1.000                                      SPC Class   7
                                                            100                                       SPC Class   8

                                                             10
                                                                   0,1    1      10     100    1000
10 maart 2011                                                            Koos Agricola
                                                                         Particle size in µm                          8
Cleanroom classificaties
            Reinheid lucht en oppervlakken mbt
            chemische componenten (moleculaire
            contaminatie)
            ISO 14644-8
            ACC in log(gr/m3), -> negatieve klasse
            ISO 14644-10
            SCC in log(gr/m2), -> negatieve klasse
            Vergelijkbare klassen worden voor
            nanodeeltjes en schadelijke micro-organismen
            (ISO 14698) worden ontwikkeld.
10 maart 2011              Koos Agricola                   9




                  Contaminatie van
                een kwetsbaar product
            Vanuit het medium waarin het product zit:
               Lucht, gas
               Vloeistof
               Vaste stof
            Overdracht hangt samen de grootte, vorm
            en lading van een deeltje.
            Bij vaste stof is naast de reinheid de
            oppervlaktegesteldheid (ruwheid) en
            elasticiteitsmodulus en lading van belang
10 maart 2011              Koos Agricola                   10
Contaminatie van een
                 kwetsbaar product
            Overdracht deeltjes vanuit de lucht
                Zwevende deeltjes (d ≤ 5 µm)
                  Massatraagheid
                  Lange tijd zonder stroming
                Vallende deeltjes (d ≥ 25 µm)
                  Afhankelijk aantal aanwezige deeltjes
                  en activiteit
                Overgangsgebied (5 < d < 25 µm)

            Overdracht deeltjes via contact met
            vaste stof

10 maart 2011                                                        Koos Agricola                                                       11




            Deeltjesneerslag in cleanroom

            Deeltjesneerslag is de verandering van
            oppervlaktereinheid per werkuur
            Praktische aanpak aantal deeltjes > 5 µm of
            25 µm per dm2
                                                                  Drie gemiddelde deeltjesdeposities gedurende acht gewerkte uren

                                                        100
                        Aantal deeltjes ≥ per dm /uur
                        2




                                                         10                                                                         DNK 1.000
                                                                                                                                    DNK 100
                                                                                                                                    DNK 10
                                                                                                                                    DNK 1
                                                                                                                                    week 4
                                                                                                                                    week 8
                                                          1                                                                         week 12




                                                        0,1
                                                              1                    10                 100                1000

10 maart 2011                                                        Koos Agricola
                                                                                Deeltjesgroootte ≥ (µm)                                  12
Product analyse
            Wanneer wordt de functionaliteit verstoort?
                Van kwaliteitsverlies tot direct falen
                Plaats in het product
                Soort deeltje
                Grootte deeltje
                Aantal deeltjes

            Wanneer is kwetsbare plaats blootgesteld?
                lucht, vloeistof
                contactoverdracht

10 maart 2011                  Koos Agricola              13




          Voorbeeld Digitale camera
           Functionele digitale foto’s zonder defecten
           Sensor (beeldverwerking elektronica en
           software)
           Optiek (afbeelding lichtbeeld op sensor)
           Mechanische componenten (bediening,
           behuizing, focussering)




10 maart 2011                  Koos Agricola              14
Assemblage digitale camera
                                                   Sensor




                               Optiek




                                                 Mechanisch

10 maart 2011                  Koos Agricola            15




                 Kritische oppervlakken
          Mechanisch deel grootste oppervlak (1 cm2),
                vallende deeltjes (dk> 50 µm)
                Blootstelling 2,5 uur
          Optische deel kleiner oppervlak (40 mm2),
                kleinere deeltjes (dk > 10 µm)
                Blootstelling 2 uur
          Sensor deel veel kleiner oppervlak (20 mm2),
                zwevende deeltjes (dk > 1 µm)
                Blootstelling 1 uur

10 maart 2011                  Koos Agricola            16
Gewenste oppervlaktereinheid

            Stel initiële oppervlaktereinheid is SCP 3
            Stel dat max. 10 % kritische deeltjes/m2
            toegestaan zijn. 10log(Nd*dk/A), Nd=0,1:
                 Mechanisch deel: Nd*dk/A = 0,1*50/10-4= 5*104
                 -> SCP 4,7
                 Optische deel kleiner 0,1*10/(4*10-5) = 2,5*104
                 -> SCP 4,4
                 Sensor deel 0,1*1/(2*10-5)= 5*103
                 -> SCP 3,7


3 oktober2011
10 maart 2008                 CGC Koos Agricola
                                Koos Agricola                      17




            Minimale VCCN Deeltjes-
                Neerslag Klasse
                De deeltjesneerslag is de verandering
                van oppervlakte reinheid per dm2 per
                blootstellinguur
                DNK = (10 SCP-10SCP0)/(A*t),
                A in dm2 -> (10 SCP-4-10SCP0-4)/(A*t);
                  M: DNK = (104,7-4-103-4)/(0,01*2,5) =
                  M: DNK = (100,7-10-1)/(0,01*2,5) = 200
                  O: DNK = (100,4-10-1)/(0,004*2) = 300
                  S: DNK = (10-0,3-10-1)/(0,002*1) = 200
10 maart 2011                   Koos Agricola                      18
Benodigde cleanroom
            Mechanische delen: ISO 9 en DNK 200,
                Schone werkwijze het belangrijkst

            Optische deel: ISO 7 en DNK 300,
                Combinatie verdunning cleanroom en
                werkwijze

            Sensor deel: ISO 6 en DNK 200,
                Combinatie lokale verdringing cleanroom en
                werkwijze
            Door verkorting blootstellingtijd kan hogere
            DNK toegestaan worden.
10 maart 2011                 Koos Agricola                  19




                  Maatregelen om het
                product te beschermen
            Afhankelijk van gevoeligheid product
            en procesomstandigheden:
                Gevoelig voor vallende deeltjes
                Oppervlaktereinheid
                Aantal personen, kleding en discipline
                Blootstellingtijd * grootte oppervlak
            Ook gevoelig voor zwevende deeltjes
                Concentratie in de lucht (cleanroom
                ACP klasse)
10 maart 2011                 Koos Agricola                  20
Noodzaak van een
                        cleanroom
            Deeltjes ≥ 25 µm:
            ISO 9 + ISO 5 cleanroom werkwijzen
            Deeltjes ≥ 5 µm: ISO 7, 8 cleanroom
            Deeltjes ≥ 1 µm: ISO 5, 6 cleanroom
            Deeltjes ≥ 0,1 µm:
            ISO 4 of beter, geen personen



            Naarmate het product gevoeliger is zullen de
            eisen voor de oppervlaktereinheid toenemen.

10 maart 2011                    Koos Agricola                     21




                              Conclusie
                Product analyse bepaalt kwetsbaarheid
                Proces bepaalt kwetsbare plaatsen en momenten
                Aparte schone ruimte biedt mogelijkheid deeltjes
                neerslag en contact overdracht te beperken
                Deeltjes ≥ 5, 25 µm verwijderen door schoonmaken,
                classificatie oppervlaktereinheid en deeltjesneerslag
                niveau.
                Deeltjes ≤ 5 µm verwijderen met luchtbehandeling,
                classificatie luchtreinheid.

         Zie artikel maart 2011 nummer VCCN Magazine
         Zie Strategisch strijden tegen stofdeeltjes (www.vccn.nl)
10 maart 2011                    Koos Agricola                     22

More Related Content

More from Themadagen

Jan Eite Bullema - TNO
Jan Eite Bullema - TNOJan Eite Bullema - TNO
Jan Eite Bullema - TNO
Themadagen
 
Benjamin Mehlmann - Fraunhofer Institute
Benjamin Mehlmann - Fraunhofer InstituteBenjamin Mehlmann - Fraunhofer Institute
Benjamin Mehlmann - Fraunhofer Institute
Themadagen
 
Harm Peters en Mark-Olof Dirksen
Harm Peters en Mark-Olof DirksenHarm Peters en Mark-Olof Dirksen
Harm Peters en Mark-Olof Dirksen
Themadagen
 
Jan Kroon - ECN-Solliance
Jan Kroon - ECN-SollianceJan Kroon - ECN-Solliance
Jan Kroon - ECN-Solliance
Themadagen
 
Arjan Langen - TNO/Holst Centre
Arjan Langen - TNO/Holst CentreArjan Langen - TNO/Holst Centre
Arjan Langen - TNO/Holst Centre
Themadagen
 
Karel Spee - Holst Centre
Karel Spee - Holst CentreKarel Spee - Holst Centre
Karel Spee - Holst Centre
Themadagen
 
Margreet de Kok - Holst Centre
Margreet de Kok - Holst CentreMargreet de Kok - Holst Centre
Margreet de Kok - Holst Centre
Themadagen
 
Joop Onnekink - Pezy Product Innovation
Joop Onnekink - Pezy Product InnovationJoop Onnekink - Pezy Product Innovation
Joop Onnekink - Pezy Product Innovation
Themadagen
 
Bas Krins - Applied Polymer Innovations Institute
Bas Krins - Applied Polymer Innovations InstituteBas Krins - Applied Polymer Innovations Institute
Bas Krins - Applied Polymer Innovations Institute
Themadagen
 
Christiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentre
Christiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentreChristiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentre
Christiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentre
Themadagen
 
Rene Dijkstra - DARE!!
Rene Dijkstra - DARE!!Rene Dijkstra - DARE!!
Rene Dijkstra - DARE!!
Themadagen
 
Willem van der Bijl - Produca
Willem van der Bijl - ProducaWillem van der Bijl - Produca
Willem van der Bijl - Produca
Themadagen
 
Michael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef Advocaten
Michael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef AdvocatenMichael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef Advocaten
Michael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef Advocaten
Themadagen
 
Nick de With - Fusacon
Nick de With - FusaconNick de With - Fusacon
Nick de With - Fusacon
Themadagen
 
De heer Henk van Eeden
De heer Henk van EedenDe heer Henk van Eeden
De heer Henk van Eeden
Themadagen
 
Benno Oderkerk - Avantes
Benno Oderkerk - AvantesBenno Oderkerk - Avantes
Benno Oderkerk - Avantes
Themadagen
 
Stijn Berkhout - RIVM
Stijn Berkhout - RIVMStijn Berkhout - RIVM
Stijn Berkhout - RIVM
Themadagen
 
Gregor van Baars - TNO
Gregor van Baars - TNOGregor van Baars - TNO
Gregor van Baars - TNO
Themadagen
 
Frits Feenstra - TNO
Frits Feenstra - TNOFrits Feenstra - TNO
Frits Feenstra - TNO
Themadagen
 
Yves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser Technology
Yves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser TechnologyYves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser Technology
Yves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser Technology
Themadagen
 

More from Themadagen (20)

Jan Eite Bullema - TNO
Jan Eite Bullema - TNOJan Eite Bullema - TNO
Jan Eite Bullema - TNO
 
Benjamin Mehlmann - Fraunhofer Institute
Benjamin Mehlmann - Fraunhofer InstituteBenjamin Mehlmann - Fraunhofer Institute
Benjamin Mehlmann - Fraunhofer Institute
 
Harm Peters en Mark-Olof Dirksen
Harm Peters en Mark-Olof DirksenHarm Peters en Mark-Olof Dirksen
Harm Peters en Mark-Olof Dirksen
 
Jan Kroon - ECN-Solliance
Jan Kroon - ECN-SollianceJan Kroon - ECN-Solliance
Jan Kroon - ECN-Solliance
 
Arjan Langen - TNO/Holst Centre
Arjan Langen - TNO/Holst CentreArjan Langen - TNO/Holst Centre
Arjan Langen - TNO/Holst Centre
 
Karel Spee - Holst Centre
Karel Spee - Holst CentreKarel Spee - Holst Centre
Karel Spee - Holst Centre
 
Margreet de Kok - Holst Centre
Margreet de Kok - Holst CentreMargreet de Kok - Holst Centre
Margreet de Kok - Holst Centre
 
Joop Onnekink - Pezy Product Innovation
Joop Onnekink - Pezy Product InnovationJoop Onnekink - Pezy Product Innovation
Joop Onnekink - Pezy Product Innovation
 
Bas Krins - Applied Polymer Innovations Institute
Bas Krins - Applied Polymer Innovations InstituteBas Krins - Applied Polymer Innovations Institute
Bas Krins - Applied Polymer Innovations Institute
 
Christiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentre
Christiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentreChristiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentre
Christiaan Bolck - Wageningen UR/ DPI ValueCentre
 
Rene Dijkstra - DARE!!
Rene Dijkstra - DARE!!Rene Dijkstra - DARE!!
Rene Dijkstra - DARE!!
 
Willem van der Bijl - Produca
Willem van der Bijl - ProducaWillem van der Bijl - Produca
Willem van der Bijl - Produca
 
Michael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef Advocaten
Michael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef AdvocatenMichael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef Advocaten
Michael Gerrits - Van Diepen Van der Kroef Advocaten
 
Nick de With - Fusacon
Nick de With - FusaconNick de With - Fusacon
Nick de With - Fusacon
 
De heer Henk van Eeden
De heer Henk van EedenDe heer Henk van Eeden
De heer Henk van Eeden
 
Benno Oderkerk - Avantes
Benno Oderkerk - AvantesBenno Oderkerk - Avantes
Benno Oderkerk - Avantes
 
Stijn Berkhout - RIVM
Stijn Berkhout - RIVMStijn Berkhout - RIVM
Stijn Berkhout - RIVM
 
Gregor van Baars - TNO
Gregor van Baars - TNOGregor van Baars - TNO
Gregor van Baars - TNO
 
Frits Feenstra - TNO
Frits Feenstra - TNOFrits Feenstra - TNO
Frits Feenstra - TNO
 
Yves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser Technology
Yves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser TechnologyYves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser Technology
Yves Hagedorn - Fraunhofer Institute for Laser Technology
 

Heer Agricola

  • 1. Wanneer is een cleanroom nodig? Koos Agricola Cleanroom Contamination Control Solutions 10 maart 2011 Koos Agricola 1 Inhoud Kwetsbaar product Wat is een cleanroom? Cleanroom classificaties Contaminatie van een kwetsbaar product Product analyse Voorbeeld Maatregelen om het product te beschermen Noodzaak van een cleanroom Conclusie 10 maart 2011 Koos Agricola 2
  • 2. Kwetsbaar product Functionaliteit product Verstoring functionaliteit product door ongewenste contaminatie van: Deeltjes soort (levend/dood, geleidend/isolerend) Deeltjes grootte en aantal Chemische componenten 10 maart 2011 Koos Agricola 3 Oorsprong verstoring Productie proces Contaminatie bij blootstelling Contaminatie via contactoverdracht Contaminatie door aangroei Onderdelen en bewerkingen Functies product defect Product Een bepaald oppervlak op bepaald moment. deeltjes Bronnen die leiden tot defecten neerslag aanstroming Contact Kwetsbaar oppervlak 10 maart 2011 Koos Agricola Verschillende onderdelen zijn op verschillende momenten gevoelig voor 4 deeltjescontaminatie. Een defect kan leiden tot het falen van een product functie.
  • 3. Wat is een cleanroom? Doos schone lucht Op overdruk Sluizen Doorspoeld met gefilterde lucht Oppervlakken alleen schoon door reiniging Voorkomen of inpakken bronnen Ruimte geclassificeerd volgens ISO normen 14644/14698 van de TC 209 10 maart 2011 Koos Agricola 5 Cleanroom classificaties Reinheid Lucht Oppervlak Concentratie Deeltjes Mirco-organisemen (alleen in KVE’s) Chemische componenten Nanodeeltjes 10 maart 2011 Koos Agricola 6
  • 4. Cleanroom classificaties Lucht reinheid m.b.t. deeltjes Concentratie deeltjes in de lucht (m3) ISO 14644-1: Air cleanliness by particles (ACP) Cn = 10N/(10.d)2,08, d ≥ 0,1 µm ISO 6, 106 ≥ 0,1 µm, -> 4.000 ≥ 5 µm per m3 10 maart 2011 Koos Agricola 7 Cleanroom classificaties Oppervlaktereinheid m.b.t. deeltjes Concentratie deeltjes op oppervlakken (m2) ISO 14644-9, Surface cleanliness by particles SCP N: An = 10N/d , d ≥ 1 µm nd*d = constant SCP 5, 105 ≥ 1 µm, -> 20.000 ≥ 5 µm per m2 Proposed ISO 14644-9 Surface Cleanliness Classes 100.000.000 Max number of particles per m2 10.000.000 SPC Class 1 1.000.000 SPC Class 2 SPC Class 3 100.000 SPC Class 4 10.000 SPC Class 5 SPC Class 6 1.000 SPC Class 7 100 SPC Class 8 10 0,1 1 10 100 1000 10 maart 2011 Koos Agricola Particle size in µm 8
  • 5. Cleanroom classificaties Reinheid lucht en oppervlakken mbt chemische componenten (moleculaire contaminatie) ISO 14644-8 ACC in log(gr/m3), -> negatieve klasse ISO 14644-10 SCC in log(gr/m2), -> negatieve klasse Vergelijkbare klassen worden voor nanodeeltjes en schadelijke micro-organismen (ISO 14698) worden ontwikkeld. 10 maart 2011 Koos Agricola 9 Contaminatie van een kwetsbaar product Vanuit het medium waarin het product zit: Lucht, gas Vloeistof Vaste stof Overdracht hangt samen de grootte, vorm en lading van een deeltje. Bij vaste stof is naast de reinheid de oppervlaktegesteldheid (ruwheid) en elasticiteitsmodulus en lading van belang 10 maart 2011 Koos Agricola 10
  • 6. Contaminatie van een kwetsbaar product Overdracht deeltjes vanuit de lucht Zwevende deeltjes (d ≤ 5 µm) Massatraagheid Lange tijd zonder stroming Vallende deeltjes (d ≥ 25 µm) Afhankelijk aantal aanwezige deeltjes en activiteit Overgangsgebied (5 < d < 25 µm) Overdracht deeltjes via contact met vaste stof 10 maart 2011 Koos Agricola 11 Deeltjesneerslag in cleanroom Deeltjesneerslag is de verandering van oppervlaktereinheid per werkuur Praktische aanpak aantal deeltjes > 5 µm of 25 µm per dm2 Drie gemiddelde deeltjesdeposities gedurende acht gewerkte uren 100 Aantal deeltjes ≥ per dm /uur 2 10 DNK 1.000 DNK 100 DNK 10 DNK 1 week 4 week 8 1 week 12 0,1 1 10 100 1000 10 maart 2011 Koos Agricola Deeltjesgroootte ≥ (µm) 12
  • 7. Product analyse Wanneer wordt de functionaliteit verstoort? Van kwaliteitsverlies tot direct falen Plaats in het product Soort deeltje Grootte deeltje Aantal deeltjes Wanneer is kwetsbare plaats blootgesteld? lucht, vloeistof contactoverdracht 10 maart 2011 Koos Agricola 13 Voorbeeld Digitale camera Functionele digitale foto’s zonder defecten Sensor (beeldverwerking elektronica en software) Optiek (afbeelding lichtbeeld op sensor) Mechanische componenten (bediening, behuizing, focussering) 10 maart 2011 Koos Agricola 14
  • 8. Assemblage digitale camera Sensor Optiek Mechanisch 10 maart 2011 Koos Agricola 15 Kritische oppervlakken Mechanisch deel grootste oppervlak (1 cm2), vallende deeltjes (dk> 50 µm) Blootstelling 2,5 uur Optische deel kleiner oppervlak (40 mm2), kleinere deeltjes (dk > 10 µm) Blootstelling 2 uur Sensor deel veel kleiner oppervlak (20 mm2), zwevende deeltjes (dk > 1 µm) Blootstelling 1 uur 10 maart 2011 Koos Agricola 16
  • 9. Gewenste oppervlaktereinheid Stel initiële oppervlaktereinheid is SCP 3 Stel dat max. 10 % kritische deeltjes/m2 toegestaan zijn. 10log(Nd*dk/A), Nd=0,1: Mechanisch deel: Nd*dk/A = 0,1*50/10-4= 5*104 -> SCP 4,7 Optische deel kleiner 0,1*10/(4*10-5) = 2,5*104 -> SCP 4,4 Sensor deel 0,1*1/(2*10-5)= 5*103 -> SCP 3,7 3 oktober2011 10 maart 2008 CGC Koos Agricola Koos Agricola 17 Minimale VCCN Deeltjes- Neerslag Klasse De deeltjesneerslag is de verandering van oppervlakte reinheid per dm2 per blootstellinguur DNK = (10 SCP-10SCP0)/(A*t), A in dm2 -> (10 SCP-4-10SCP0-4)/(A*t); M: DNK = (104,7-4-103-4)/(0,01*2,5) = M: DNK = (100,7-10-1)/(0,01*2,5) = 200 O: DNK = (100,4-10-1)/(0,004*2) = 300 S: DNK = (10-0,3-10-1)/(0,002*1) = 200 10 maart 2011 Koos Agricola 18
  • 10. Benodigde cleanroom Mechanische delen: ISO 9 en DNK 200, Schone werkwijze het belangrijkst Optische deel: ISO 7 en DNK 300, Combinatie verdunning cleanroom en werkwijze Sensor deel: ISO 6 en DNK 200, Combinatie lokale verdringing cleanroom en werkwijze Door verkorting blootstellingtijd kan hogere DNK toegestaan worden. 10 maart 2011 Koos Agricola 19 Maatregelen om het product te beschermen Afhankelijk van gevoeligheid product en procesomstandigheden: Gevoelig voor vallende deeltjes Oppervlaktereinheid Aantal personen, kleding en discipline Blootstellingtijd * grootte oppervlak Ook gevoelig voor zwevende deeltjes Concentratie in de lucht (cleanroom ACP klasse) 10 maart 2011 Koos Agricola 20
  • 11. Noodzaak van een cleanroom Deeltjes ≥ 25 µm: ISO 9 + ISO 5 cleanroom werkwijzen Deeltjes ≥ 5 µm: ISO 7, 8 cleanroom Deeltjes ≥ 1 µm: ISO 5, 6 cleanroom Deeltjes ≥ 0,1 µm: ISO 4 of beter, geen personen Naarmate het product gevoeliger is zullen de eisen voor de oppervlaktereinheid toenemen. 10 maart 2011 Koos Agricola 21 Conclusie Product analyse bepaalt kwetsbaarheid Proces bepaalt kwetsbare plaatsen en momenten Aparte schone ruimte biedt mogelijkheid deeltjes neerslag en contact overdracht te beperken Deeltjes ≥ 5, 25 µm verwijderen door schoonmaken, classificatie oppervlaktereinheid en deeltjesneerslag niveau. Deeltjes ≤ 5 µm verwijderen met luchtbehandeling, classificatie luchtreinheid. Zie artikel maart 2011 nummer VCCN Magazine Zie Strategisch strijden tegen stofdeeltjes (www.vccn.nl) 10 maart 2011 Koos Agricola 22