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Università degli Studi del
          Sannio
                            Facoltà di Ingegneria
            Corso di Laurea in Ingegneria delle Telecomunicazioni

                     Tesi di Laurea in Optoelettronica

              Caratterizzazione Spettrale di
                 Reticoli a Passo Lungo
              realizzati con tecnica Laser e
                     Scarica ad Arco

Relatore: Prof. Andrea Cusano
Correlatore: Ing. Agostino Iadicicco               Candidato:
                                                 Fabio G. Caso 196/81
Indice

Obiettivi e Motivazioni

Descrizione e applicazioni dei un reticoli in fibra a passo lungo standard

Nuovi reticoli a passo lungo realizzati con “Scarica ad Arco”

Setup –riduzione del diametro
       – optoelettronico

Caratterizzazione di un Reticolo standard e a Scarica ad Arco in funzione
del diametro della fibra

Conclusioni
Obiettivi
   Studio di nuovi tipi di reticoli a passo lungo
    realizzati mediante “Scarica ad Arco”



   Analisi della sensibilità all’indice di rifrazione
    del mezzo esterno in funzione del diametro
    della fibra
          • Reticoli standard
          • Reticoli realizzati mediante “Scarica ad Arco”
Motivazioni
I reticoli standard in fibra a periodo lungo (LPG) hanno
avuto grande successo nel campo delle TLC e della
sensoristica per le loro proprietà spettrali
   la riduzione del diametro della fibra porta ad un aumento
   della sensibilità all’indice di rifrazione sterno alla fibra


   I reticoli realizzati con “Electric Arc Discharge”
   presentano:
         - Costi minori
         - Maggiore flessibilità
         - Semplicità realizzativa
       In questo lavoro l’attenzione è focalizzata
       sull’effetto del diametro della fibra su questi nuovi
       tipi di reticoli
Reticolo a Periodo Lungo (LPG)
Un LPG standard consiste in una modulazione periodica dell’indice di
rifrazione del core della fibra.                      0

Causa un accoppiamento di potenza tra il modo
fondamentale LP01 e i modi di cladding LP0m
                                                                           -5




                                                      Trasmittivity[dB]
Forma delle bande di attenuazione in                                     -10

corrispondenza della condizione di phase matching:                        -15


                                                                          -20


                                                                          -25
                                                                           1100   1200   1300   1400      1500   1600   1700
                                                                                            Wavelength [nm]




   La posizione spettrale
       della bande di
 attenuazione è dipendente
      dalle condizioni
     ambientali: strain,
     temperatura e SRI
Possibili Applicazioni
Telecomunicazioni                                 Sensori
 Filtri accordabili per sistemi WDM                   Strain
(Wavelength Division Multiplexing )                    Temperatura
 Filtri flatteningAmplificatori EDFAs(Erbium          Bending
Doped Fiber Amplifier)                                 Indice di rifrazione (SRI)



              Fabbricazione di LPG Standard
                                                Il metodo standard di fabbricazione degli
                                                LPG prevede l’utilizzo di un Laser UV.

                                                Una lente focalizza il raggio del laser su
                                                una zona della fibra.

                                                Una maschera di fase crea una
                                                modulazione periodica, proteggendo
                                                periodicamente un determinato periodo
                                                (Λ) della fibra.
                                                Monitoraggio Real-Time con Sorgente e
                                                Optical Spectrum Analyser (OSA).
Nuova Tecnica di fabbricazione degli LPG:
              “Electric Arc Discharge”

                                           Deformazioni geometrica della fibra
                                           ottenuta mediante “Scarica ad Arco”

                                        (3) Translation stage: Carrello mobile con
                                                                nanoprecisione (Λ)
                                      (4) Elettrodi: attivano una scarica elettrica

                                        (6) Weight: fissa la fibra e la tiene tesa a strain
                                                     costante



Differenza con la tecnica a radiazione
   UV:
 Non utilizza la proprietà
    di fotosensibilità     Non ha bisogno di costose
                               maschere di fase     Evita il processo di annealing
                                                            per stabilizzare il reticolo
Reticoli “Electric Arc-Induced”
             Particolare di un Reticolo costruito mediante tecnica Arc Induced




Parametri Standard:                       Spettro di un Generico LPG “ Arc Induced”
                                                 Con Λ = 755 μm, L = 20 mm
Periodo Λ = da 400-800 μm                                       0

Lunghezza L = da 10 a 40 mm                                     -5

Tempo di arc discharge Τ= 400ms                                -10
Arc Current = 9-15mA
                                           Trasmittivity[dB]
                                                               -15

                                                               -20

                                                               -25

        Reticolo Fornito dal:                                  -30
   Centro di ricerca di Fotonica,
    Dipartimentoe d'ingegneria,                                 1450   1500          1550
                                                                         Wavelength[nm]
                                                                                            1600

   Università del Québec, Canada
Setup per la Riduzione del Diametro
La Riduzione del diametro è stata effettuata mediante       Bassa concentrazione
Attacco Chimico in Acido Fluoridrico (HF) al 12%.             per avere un maggiore
                                                               controllo del processo
                                                    Confinare l’effetto dell’acido
         Progetto                                     Limitare le variazioni dovute
                                                            allo strain


                                                     Setup optoelettronico




                                                          Analizzatore di
                                                         spettro ottico (OSA)
    L’HOLDER è stato costruito presso il                Sorgente di Luce
           laboratorio di optoelettronica                Bianca
    dell’Università degli Studi del Sannio
Spettro Originale Reticolo realizzato
                           con “Scarica ad Arco”
                    E’ stato utilizzato un reticolo realizzato con una tecnica con scarica ad Arco in
                    fibra SMF-28 con diametro di 125μm e periodo di Λ=755µm che mostrano la
                                            seguente risposta spettrale in aria.


                     0
                                                                   Analisi al microscopio ottico per la
                     -5                                            stima dei diametri
                    -10
Trasmittivity[dB]




                    -15

                    -20

                    -25

                    -30

                    -35
                     1400   1450    1500      1550   1600   1650
                                   Wavelength [nm]
Analisi del reticolo imperturbato
                                                                                                                                                1 dλres
                                                                                                           Sensibilità
                         Variazione massima in                                                                                                 λres dSRI
                         lunghezza d’onda
                                                                                                           Max sensibilità (SRI=1.45):
                               4.8 nm
                    0
                                 Delta La bda B ricen le
                                         m     a     tra                                                                                   0.12
                  -0.5                                                                                                                 S n itiv
                                                                                                                                        e s ity
                                                                                                   0 6
                                                                                                    .1
                    -1
                                                                                                   0 4
                                                                                                    .1
 avelenght [nm]




                  -1.5
                                                                                                   0 2
                                                                                                    .1
                    -2




                                                                                         e s ity
                                                                                                           0.1




                                                                                        S n itiv
                  -2.5

                    -3                                                                             0 8
                                                                                                    .0
W




                  -3.5                                                                             0 6
                                                                                                    .0
                    -4
                                                                                                   0 4
                                                                                                    .0
                  -4.5
                                                                                                   0 2
                                                                                                    .0
                    -5
                      1   1 5
                           .0   1.1   1 5
                                       .1   1.2   1 5
                                                   .2   1.3   1 5
                                                               .3    1.4   1 5
                                                                            .4    1.5
                                                                                                            0
                                                  S I
                                                   R                                                         1           1.1         1.2          13
                                                                                                                                                   .          1.4       1.5
                                                                                                                                           S I
                                                                                                                                            R
                  dλ res
                         = λ res ⋅ γ ⋅ ΓSRI                                                                      um = m-esima radice della funzione
                  dn SRI                                                                                         di Bessel del primo tipo di ordine zero
                                                                                                                 rcl ,ncl= raggio e indice di rifrazione del cladding
                                                                                                                 nSRI = indice di rifrazione del mezzo esterno
                                                                    u m λ3 nSRI
                                                                      2

                     dove               ΓSRI = −                         res
                                                                                                   3
                                                                                                                 γ= fattore di sensitività generale
                                                   8πrcl ncl (nco − ncl ,m )(ncl − nSRI )
                                                       3       eff   eff      2     2                  2
Primo Attacco Chimico (30 minuti):
Le bande di attenuazione                                                                           Bare          30 minuti
si muovono verso                                                                                   (nm)          Etching(nm)
lunghezze d’onda
maggiori                                                      wavelength                           1540          1551
                                                              (~11)

                                   Zona                  Zona
                                   Perturbata            Imperturbata
Riduzione                               5,1 μm                6,2μm
diametro:
                                                                                     0
                     1552
                                                                                     -5
                     1550
                                                                transmission [dB]   -10
      ittivity[dB]




                     1548

                                                                                    -15
                     1546
  rasm




                                                                                    -20
                     1544
 T




                                                                                    -25
                     1542


                     1540
                                                                                    -30
                         0   5   10     15     20   25   30
                                   W v gh m
                                    a ele t[n ]
                                                                                    -35
                                                                                     1500   1520   1540   1560    1580   1600
Confronto con il reticolo originale
                                                                                                                          Max sensibilità (SRI=1.45):
                                 Max Spostamento in Lunghezza d’onda                                                               Bare = 0.12
                                              Bare = 4.8 nm                                                               Dopo 30 minuti etching = 0.16
                                      Dopo 30 minuti etching = 6.8 nm
                                                                                                                                         Sensitivity
                                               Delta Lambda Baricentrale                                           0.2
                        0


                        -1
                                                                                                                  0.15
                        -2
Wavelenght Shift [nm]




                                                                                                    Sensitivity
                        -3
                                                                                                                   0.1
                        -4


                        -5                                                                                        0.05

                        -6

                                                                                                                    0
                        -7                                                                                               1.34   1.36   1.38     1.4    1.42   1.44   1.46
                             1    1.05   1.1    1.15   1.2   1.25   1.3   1.35   1.4   1.45   1.5
                                                                                                                                              SRI
                                                             SRI
Successivi Attacchi in Acido HF
                                                                                                                                      1 5
                                                                                                                                       2
                                                                                                                                                                     z n im e rb ta
                                                                                                                                                                      o a p rtu a




                                                                                                               G tin D m te [m ro ]
                                                                                                                ra g ia e r ic n
                                                                                                                                      1 0
                                                                                                                                       2                             z n p rtu a
                                                                                                                                                                      o a e rb ta


                                      Spostamento delle Lunghezze                                                                     1 5
                                                                                                                                       1

                                      d’onda centrali e Variazione                                                                    1 0
                                                                                                                                       1

                                      della Trasmittività al variare del                                                              1 5
                                                                                                                                       0
                                      tempo di Etching con SRI=1
                                                                                                                                      1 0
                                                                                                                                       0

                     1600                                                                                                              95
                                                                                                                                         0         20         40      6 0       80
                                                                                                                                                        E h g T e [m u s
                                                                                                                                                         tc in im   in te ]
Wavelength[nm]




                     1580                                                                               0

                     1560                                                                               -5

                     1540                                                                              -10
                         0                20       40         60        80   100   transmission [dB]
                                                                                                       -15
                                0
                                                                                                       -20
                               -10
          Trasmittivity [dB]




                               -20                                                                     -25                            Bare
                                                                                                                                      30 minuti
                               -30                                                                     -30                            60 minuti
                                                                                                                                      90 minuti
                               -40                                                                     -35
                                  0       20       40         60        80   100                        1500                          1520        1540     1560          1580         1600
                                               Etching Time [minutes]                                                                             Wavelength [nm]
Lambda Baricentrale
                                                 Delta Lambda Baricentrale Modo LP03
                       0


                    -2
                                                                                                Andamento della lunghezza d’onda
                                                                                                centrale in funzione dell’indice di
 avelenght [nm]




                    -4                                                                          rifrazione del mezzo esterno e per
                                            bare
                                            30 min Etch                                         diversi valori del diametro della fibra
                    -6                      60 min Etch
W




                                            90 min Etch

                    -8


             -10
                1                          1.1             1.2              1.3          1.4
                                                                  SRI
                                                           Sensitivity -LP03
                            0.35

                             0.3
                                          bare
                                                                                                Durante il processo di etching si
                                          30 min Etch
                                                                                                osserva che:
                            0.25          60 min Etch
                                                                                                La sensibilità ha un punto di
                                                                                                massimo per il 60°esimo minuto di
                             0.2          90 min Etch
              Sensitivity




                            0.15
                                                                                                etching pari a 0.3 per SRI=1.45
                             0.1

                            0.05

                              0
                                   1.34          1.36     1.38        1.4         1.42   1.44
-4
                                           Analisi della Sensibilità
                         x 10
                    7
                          SRI=1
                   6.5

                    6                                                               Dopo 60 minuti di etching si ha un
                   5.5                                                             aumento della sensibilità di un fattore
Sensitivity




                    5                                                                        2 per SRI=1.45
                   4.5                                                                     1.75 per SRI=1.33
                    4
                                                                                             1.7 per SRI=1
                   3.5

                    3
                     0               20        40        60        80   100
                         x 10
                                -3        Etching Time [minutes]
                     7                                                                      0.3
                                SRI=1.33                                                           SRI=1.45
                   6.5

                                                                                      0.25
                     6


                                                                              Sensitivity
     Sensitivity




                   5.5
                                                                                            0.2
                     5

                   4.5
                                                                                      0.15
                     4

                   3.5                                                                      0.1
                      0              20         40   60            80   100                    0       20          40        60        80   100
                                           Etch Tim [m u
                                               ing e in tes]                                                  Etching Time [minutes]
Reticolo Standard: effetto della riduzione del diametro
                                                                                   CARATTERIZZAZIONE IN SRI:
                                                                               Al diminuire del diametro della fibra si ha
                                                                                uno spostamento maggiore delle bande
                                                                                     di attenuazione in funzione dell’SRI.
                       Spettro del Reticolo Standard                                                                              w velength shift LP
                                                                                                                                   a
                                                                                                                                                      06


                    In Funzione dei vari step di Etching




                                                                                        avelength Shift (nm)
                                                                                                               -10

                                                                                                               -20

                     0                                                                                                      D L=125 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                      icron
                                                                                                               -30
                                                                                                                            D L=123.7 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron
                                                                                                                            D L=121.4 m icron
                                                                                                               -40           C
                                                                                                                            D L=119.7 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron
                     -5                                                                                        -50          D L=117 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                      icron




                                                                                       W
                                                                                                                            D L=112.9 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron
                                                                                                               -60          D L=110.8 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron
Transmission [dB]




                                                                                                                            D L=108.2 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron
                    -10                                                                                        -70          D L=103.8 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron

                                                                                                                     1.34     1.36     1.38     1.4   1.42   1.44   1.46
                                                                                                                                              SRI
                                                     LP
                          LP                               06
                    -15        04                                                                                                    w velength shift LP
                                                                                                                                      a
                                                                                                                0                                       05




                                                                                     avelength Shift (nm)
                                                    bare        D = 125µm                                       -2
                    -20                                          CL
                                                    20 min      D = 121.4µm
                                                                 CL
                                    LP              50 min      DCL= 117.0µm                                    -4
                                         05
                                                    80 min      DCL= 110.8µm                                                D L=125 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                      icron
                                                                                                                -6          D L=123.7 m icron
                    -25                                                                                                      C
                                                                                                                            D L=121.4 m icron
                     1200 1250 1300 1350 1400 1450 1500 1550 1600 1650                                                       C
                                                                                                                -8          D L=119.7 m icron
                                        Wavelength [nm]                                                                      C
                                                                                                                            D L=117 m icron
                                                                                    W

                                                                                                                             C
                                                                                                               -10          D L=112.9 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron
                                                                                                                            D L=110.8 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                                        icron
                                    Periodo Λ = 360 μm
                                        Wavelength [nm]                                                        -12          D L=108.2 m
                                                                                                                             C
                                                                                                                            D L=103.8 m
                                                                                                                                        icron
                                                                                                                                        icron
                                                                                                                             C
                                                                                                               -14
                                                                                                                     1.34     1.36     1.38     1.4   1.42   1.44   1.46
                                                                                                                                              SRI
-3
                           x 10
                                                        Confronti di sensibilità
                      5
                                   LP
                                     06
                                   LP         sensitivity per SRI=1
                                     05
                      4            LP
                                        04
                                                                                                                 La sensibilità:
                      3
      sensitivity




                                                                                   Aumenta con l’ordine del modo
                      2
                                                                                   Aumenta in maniera monotona al
                      1                                                           diminuire del diametro della fibra
                      0
                       0           20        40       60      80      100   120
                                             etching time (minuti)

                    0.06                                                                         1.4
                                   LP                                                                  LP
                                     06       sensitivity per SRI=1.33                                   06
                                   LP                                                            1.2   LP          sensitivity in SRI=1.44
                    0.05             05                                                                  05
                                   LP                                                                  LP
                                        04                                                                  04
                                                                                                  1
                    0.04
                                                                                   sensitivity
sensitivity




                                                                                                 0.8
                    0.03
                                                                                                 0.6
                    0.02
                                                                                                 0.4

                    0.01                                                                         0.2

                      0                                                                           0
                       0           20        40        60     80      100   120                    0   20        40        60     80     100   120
                                             etching time (minuti)                                               etching time (minuti)
Confronto tra due tipi di reticoli
Per entrambi i reticoli la sensibilità al SRI:
     • E’ massima per SRI prossimi a quelli della fibra

                        Differenze tra i due reticoli
        Reticolo Standard                     Reticolo realizzato con Scarica
            (laser UV)                                    ad Arco
  La sensibilità aumenta in maniera             La sensibilità non presenta un
monotona con la riduzione del diametro       andamento monotono con la riduzione
           per tutti i modi                        del diametro della fibra

                                                            1.4
                                                                  LP        UV-Laser
                                                                     06
                                                            1.2   LP        UV-Laser         SRI=1.44
                                                                     05
                                                                  LP        UV-Laser
                                                                     04
                                                             1
  La sensibilità dei reticoli realizzati                          LP
                                                                       02
                                                                            Arc Induced

                                              sensitivity
     con Scarica ad Arco sembra                             0.8

     essere maggiore dei reticoli                           0.6
   standard realizzati con UV-Laser                         0.4

                                                            0.2

                                                             0
                                                              0   20         40        60     80        100   120
                                                                             etching time (minuti)
Conclusioni
   È stata proposta un’ analisi sperimentale delle
    caratteristiche di un reticolo a passo lungo,
    costruito con una nuova tecnica a “Scarica ad
    Arco”, in funzione della variazione del diametro
    della fibra e confrontata con un reticolo standard.
   La riduzione del diametro è stata ottenuta
    mediante una tecnica a basso costo basata su
    attacco chimico in acido HF
   I risultati ottenuti mostrano un        aumento di
    sensibilità in funzione al diminuire   del diametro
    della fibra per entrambi i reticoli.
   Dal confronto dei risultati dei due reticoli si rivela
    che vi sono delle differenze che sono attualmente
    oggetto di studio.
“Long Period Fiber Optic Gratings Realized by Electric Arc Discharge and Laser: Sensibility according to the Diameter of the Fiber"

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  • 1. Università degli Studi del Sannio Facoltà di Ingegneria Corso di Laurea in Ingegneria delle Telecomunicazioni Tesi di Laurea in Optoelettronica Caratterizzazione Spettrale di Reticoli a Passo Lungo realizzati con tecnica Laser e Scarica ad Arco Relatore: Prof. Andrea Cusano Correlatore: Ing. Agostino Iadicicco Candidato: Fabio G. Caso 196/81
  • 2. Indice Obiettivi e Motivazioni Descrizione e applicazioni dei un reticoli in fibra a passo lungo standard Nuovi reticoli a passo lungo realizzati con “Scarica ad Arco” Setup –riduzione del diametro – optoelettronico Caratterizzazione di un Reticolo standard e a Scarica ad Arco in funzione del diametro della fibra Conclusioni
  • 3. Obiettivi  Studio di nuovi tipi di reticoli a passo lungo realizzati mediante “Scarica ad Arco”  Analisi della sensibilità all’indice di rifrazione del mezzo esterno in funzione del diametro della fibra • Reticoli standard • Reticoli realizzati mediante “Scarica ad Arco”
  • 4. Motivazioni I reticoli standard in fibra a periodo lungo (LPG) hanno avuto grande successo nel campo delle TLC e della sensoristica per le loro proprietà spettrali la riduzione del diametro della fibra porta ad un aumento della sensibilità all’indice di rifrazione sterno alla fibra I reticoli realizzati con “Electric Arc Discharge” presentano: - Costi minori - Maggiore flessibilità - Semplicità realizzativa In questo lavoro l’attenzione è focalizzata sull’effetto del diametro della fibra su questi nuovi tipi di reticoli
  • 5. Reticolo a Periodo Lungo (LPG) Un LPG standard consiste in una modulazione periodica dell’indice di rifrazione del core della fibra. 0 Causa un accoppiamento di potenza tra il modo fondamentale LP01 e i modi di cladding LP0m -5 Trasmittivity[dB] Forma delle bande di attenuazione in -10 corrispondenza della condizione di phase matching: -15 -20 -25 1100 1200 1300 1400 1500 1600 1700 Wavelength [nm] La posizione spettrale della bande di attenuazione è dipendente dalle condizioni ambientali: strain, temperatura e SRI
  • 6. Possibili Applicazioni Telecomunicazioni  Sensori  Filtri accordabili per sistemi WDM  Strain (Wavelength Division Multiplexing )  Temperatura  Filtri flatteningAmplificatori EDFAs(Erbium  Bending Doped Fiber Amplifier)  Indice di rifrazione (SRI) Fabbricazione di LPG Standard Il metodo standard di fabbricazione degli LPG prevede l’utilizzo di un Laser UV. Una lente focalizza il raggio del laser su una zona della fibra. Una maschera di fase crea una modulazione periodica, proteggendo periodicamente un determinato periodo (Λ) della fibra. Monitoraggio Real-Time con Sorgente e Optical Spectrum Analyser (OSA).
  • 7. Nuova Tecnica di fabbricazione degli LPG: “Electric Arc Discharge” Deformazioni geometrica della fibra ottenuta mediante “Scarica ad Arco”  (3) Translation stage: Carrello mobile con nanoprecisione (Λ)  (4) Elettrodi: attivano una scarica elettrica  (6) Weight: fissa la fibra e la tiene tesa a strain costante Differenza con la tecnica a radiazione UV: Non utilizza la proprietà di fotosensibilità Non ha bisogno di costose maschere di fase Evita il processo di annealing per stabilizzare il reticolo
  • 8. Reticoli “Electric Arc-Induced” Particolare di un Reticolo costruito mediante tecnica Arc Induced Parametri Standard: Spettro di un Generico LPG “ Arc Induced” Con Λ = 755 μm, L = 20 mm Periodo Λ = da 400-800 μm 0 Lunghezza L = da 10 a 40 mm -5 Tempo di arc discharge Τ= 400ms -10 Arc Current = 9-15mA Trasmittivity[dB] -15 -20 -25 Reticolo Fornito dal: -30 Centro di ricerca di Fotonica, Dipartimentoe d'ingegneria, 1450 1500 1550 Wavelength[nm] 1600 Università del Québec, Canada
  • 9. Setup per la Riduzione del Diametro La Riduzione del diametro è stata effettuata mediante Bassa concentrazione Attacco Chimico in Acido Fluoridrico (HF) al 12%. per avere un maggiore controllo del processo  Confinare l’effetto dell’acido Progetto  Limitare le variazioni dovute allo strain Setup optoelettronico  Analizzatore di spettro ottico (OSA) L’HOLDER è stato costruito presso il Sorgente di Luce laboratorio di optoelettronica Bianca dell’Università degli Studi del Sannio
  • 10. Spettro Originale Reticolo realizzato con “Scarica ad Arco” E’ stato utilizzato un reticolo realizzato con una tecnica con scarica ad Arco in fibra SMF-28 con diametro di 125μm e periodo di Λ=755µm che mostrano la seguente risposta spettrale in aria. 0 Analisi al microscopio ottico per la -5 stima dei diametri -10 Trasmittivity[dB] -15 -20 -25 -30 -35 1400 1450 1500 1550 1600 1650 Wavelength [nm]
  • 11. Analisi del reticolo imperturbato 1 dλres Sensibilità Variazione massima in λres dSRI lunghezza d’onda Max sensibilità (SRI=1.45): 4.8 nm 0 Delta La bda B ricen le m a tra 0.12 -0.5 S n itiv e s ity 0 6 .1 -1 0 4 .1 avelenght [nm] -1.5 0 2 .1 -2 e s ity 0.1 S n itiv -2.5 -3 0 8 .0 W -3.5 0 6 .0 -4 0 4 .0 -4.5 0 2 .0 -5 1 1 5 .0 1.1 1 5 .1 1.2 1 5 .2 1.3 1 5 .3 1.4 1 5 .4 1.5 0 S I R 1 1.1 1.2 13 . 1.4 1.5 S I R dλ res = λ res ⋅ γ ⋅ ΓSRI um = m-esima radice della funzione dn SRI di Bessel del primo tipo di ordine zero rcl ,ncl= raggio e indice di rifrazione del cladding nSRI = indice di rifrazione del mezzo esterno u m λ3 nSRI 2 dove ΓSRI = − res 3 γ= fattore di sensitività generale 8πrcl ncl (nco − ncl ,m )(ncl − nSRI ) 3 eff eff 2 2 2
  • 12. Primo Attacco Chimico (30 minuti): Le bande di attenuazione Bare 30 minuti si muovono verso (nm) Etching(nm) lunghezze d’onda maggiori wavelength 1540 1551 (~11) Zona Zona Perturbata Imperturbata Riduzione 5,1 μm 6,2μm diametro: 0 1552 -5 1550 transmission [dB] -10 ittivity[dB] 1548 -15 1546 rasm -20 1544 T -25 1542 1540 -30 0 5 10 15 20 25 30 W v gh m a ele t[n ] -35 1500 1520 1540 1560 1580 1600
  • 13. Confronto con il reticolo originale Max sensibilità (SRI=1.45): Max Spostamento in Lunghezza d’onda Bare = 0.12 Bare = 4.8 nm Dopo 30 minuti etching = 0.16 Dopo 30 minuti etching = 6.8 nm Sensitivity Delta Lambda Baricentrale 0.2 0 -1 0.15 -2 Wavelenght Shift [nm] Sensitivity -3 0.1 -4 -5 0.05 -6 0 -7 1.34 1.36 1.38 1.4 1.42 1.44 1.46 1 1.05 1.1 1.15 1.2 1.25 1.3 1.35 1.4 1.45 1.5 SRI SRI
  • 14. Successivi Attacchi in Acido HF 1 5 2 z n im e rb ta o a p rtu a G tin D m te [m ro ] ra g ia e r ic n 1 0 2 z n p rtu a o a e rb ta Spostamento delle Lunghezze 1 5 1 d’onda centrali e Variazione 1 0 1 della Trasmittività al variare del 1 5 0 tempo di Etching con SRI=1 1 0 0 1600 95 0 20 40 6 0 80 E h g T e [m u s tc in im in te ] Wavelength[nm] 1580 0 1560 -5 1540 -10 0 20 40 60 80 100 transmission [dB] -15 0 -20 -10 Trasmittivity [dB] -20 -25 Bare 30 minuti -30 -30 60 minuti 90 minuti -40 -35 0 20 40 60 80 100 1500 1520 1540 1560 1580 1600 Etching Time [minutes] Wavelength [nm]
  • 15. Lambda Baricentrale Delta Lambda Baricentrale Modo LP03 0 -2 Andamento della lunghezza d’onda centrale in funzione dell’indice di avelenght [nm] -4 rifrazione del mezzo esterno e per bare 30 min Etch diversi valori del diametro della fibra -6 60 min Etch W 90 min Etch -8 -10 1 1.1 1.2 1.3 1.4 SRI Sensitivity -LP03 0.35 0.3 bare Durante il processo di etching si 30 min Etch osserva che: 0.25 60 min Etch La sensibilità ha un punto di massimo per il 60°esimo minuto di 0.2 90 min Etch Sensitivity 0.15 etching pari a 0.3 per SRI=1.45 0.1 0.05 0 1.34 1.36 1.38 1.4 1.42 1.44
  • 16. -4 Analisi della Sensibilità x 10 7 SRI=1 6.5 6 Dopo 60 minuti di etching si ha un 5.5 aumento della sensibilità di un fattore Sensitivity 5 2 per SRI=1.45 4.5 1.75 per SRI=1.33 4 1.7 per SRI=1 3.5 3 0 20 40 60 80 100 x 10 -3 Etching Time [minutes] 7 0.3 SRI=1.33 SRI=1.45 6.5 0.25 6 Sensitivity Sensitivity 5.5 0.2 5 4.5 0.15 4 3.5 0.1 0 20 40 60 80 100 0 20 40 60 80 100 Etch Tim [m u ing e in tes] Etching Time [minutes]
  • 17. Reticolo Standard: effetto della riduzione del diametro CARATTERIZZAZIONE IN SRI: Al diminuire del diametro della fibra si ha uno spostamento maggiore delle bande di attenuazione in funzione dell’SRI. Spettro del Reticolo Standard w velength shift LP a 06 In Funzione dei vari step di Etching avelength Shift (nm) -10 -20 0 D L=125 m C icron -30 D L=123.7 m C icron D L=121.4 m icron -40 C D L=119.7 m C icron -5 -50 D L=117 m C icron W D L=112.9 m C icron -60 D L=110.8 m C icron Transmission [dB] D L=108.2 m C icron -10 -70 D L=103.8 m C icron 1.34 1.36 1.38 1.4 1.42 1.44 1.46 SRI LP LP 06 -15 04 w velength shift LP a 0 05 avelength Shift (nm) bare D = 125µm -2 -20 CL 20 min D = 121.4µm CL LP 50 min DCL= 117.0µm -4 05 80 min DCL= 110.8µm D L=125 m C icron -6 D L=123.7 m icron -25 C D L=121.4 m icron 1200 1250 1300 1350 1400 1450 1500 1550 1600 1650 C -8 D L=119.7 m icron Wavelength [nm] C D L=117 m icron W C -10 D L=112.9 m C icron D L=110.8 m C icron Periodo Λ = 360 μm Wavelength [nm] -12 D L=108.2 m C D L=103.8 m icron icron C -14 1.34 1.36 1.38 1.4 1.42 1.44 1.46 SRI
  • 18. -3 x 10 Confronti di sensibilità 5 LP 06 LP sensitivity per SRI=1 05 4 LP 04 La sensibilità: 3 sensitivity  Aumenta con l’ordine del modo 2  Aumenta in maniera monotona al 1 diminuire del diametro della fibra 0 0 20 40 60 80 100 120 etching time (minuti) 0.06 1.4 LP LP 06 sensitivity per SRI=1.33 06 LP 1.2 LP sensitivity in SRI=1.44 0.05 05 05 LP LP 04 04 1 0.04 sensitivity sensitivity 0.8 0.03 0.6 0.02 0.4 0.01 0.2 0 0 0 20 40 60 80 100 120 0 20 40 60 80 100 120 etching time (minuti) etching time (minuti)
  • 19. Confronto tra due tipi di reticoli Per entrambi i reticoli la sensibilità al SRI: • E’ massima per SRI prossimi a quelli della fibra Differenze tra i due reticoli Reticolo Standard Reticolo realizzato con Scarica (laser UV) ad Arco La sensibilità aumenta in maniera La sensibilità non presenta un monotona con la riduzione del diametro andamento monotono con la riduzione per tutti i modi del diametro della fibra 1.4 LP UV-Laser 06 1.2 LP UV-Laser SRI=1.44 05 LP UV-Laser 04 1 La sensibilità dei reticoli realizzati LP 02 Arc Induced sensitivity con Scarica ad Arco sembra 0.8 essere maggiore dei reticoli 0.6 standard realizzati con UV-Laser 0.4 0.2 0 0 20 40 60 80 100 120 etching time (minuti)
  • 20. Conclusioni  È stata proposta un’ analisi sperimentale delle caratteristiche di un reticolo a passo lungo, costruito con una nuova tecnica a “Scarica ad Arco”, in funzione della variazione del diametro della fibra e confrontata con un reticolo standard.  La riduzione del diametro è stata ottenuta mediante una tecnica a basso costo basata su attacco chimico in acido HF  I risultati ottenuti mostrano un aumento di sensibilità in funzione al diminuire del diametro della fibra per entrambi i reticoli.  Dal confronto dei risultati dei due reticoli si rivela che vi sono delle differenze che sono attualmente oggetto di studio.