研究内容
- 7. GDC ①Lot No.C2001
②Lot No.081010U1
YSZ ③Lot No.TZ-8YS
④GDC C2001 & GDC 081010U1
⑤GDC C2001 & YSZ TZ-8YS
⑥GDC 081010U1 & YSZ TZ-8YS
材
料
膜
形
状
焼
成
条
件
①自立膜(膜厚400μm程度)
②多孔質支持体共焼成型
③高強度多孔質支持体型
④PCP型
薄
膜
・最高焼成温度 1200~1500℃
・最高焼成温度保持時間 2h~6h
多孔質支持体
多孔質支持体
緻密質層50µm
- 11. 温度
反応部 340℃
フィルター部 200℃
管路部 300℃
圧力
反応部 飽和蒸気圧以上
フィルター部 ⊿P<1.0MPa
溶媒 Decaline 20cc
触媒
Pt担持アルミナ触媒
4.45g
PCP-YSZ薄膜分離膜(焼成条件)
1500℃(2h)焼成
1525℃(2h)焼成 1525℃(6h)焼成
- 12. 最高焼成温度
(保持時間)
1500℃(2h) 1525℃(2h) 1525℃(6h) Non-Filter
水素生成量 [cc] 9250 10230 10400 6880
溶媒リーク量 [g] 1.768 1.221 1.053 6.863
反応率 [%] 66.55 73.59 74.50 49.52
PCP-YSZ薄膜分離膜(焼成条件)
0
2
4
6
8
10
12
14
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
1500℃(2h) 水素生成量
1525℃(2h) 水素生成量
1525℃(6h) 水素生成量
Non Filter 水素生成量
水素生成量[L]
時間 [h]
0
50
100
150
200
250
300
350
400
0
1
2
3
4
5
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
1500℃(2h) 反応部温度
1525℃(2h) 反応部温度
1525℃(6h) 反応部温度
Non Filter 反応部温度
1500℃(2h) 反応部圧力
1525℃(2h) 反応部圧力
1525℃(6h) 反応部圧力
Non Filter 反応部圧力
反応部温度 [℃]
反応部圧力 [MPa]
時間 [h]
- 13. 分離膜部温度 常温 100℃ 200℃
水素生成量 [cc] 12750 11080 10400
溶媒リーク量 [g] 0.000 0.709 1.221
反応率 [%] 92.39 79.20 74.50
分離膜部温度が及ぼす影響
0
50
100
150
200
250
300
350
400
0
1
2
3
4
5
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
常温 反応部温度
100℃ 反応部温度
200℃ 反応部温度
常温 反応部圧力
100℃ 反応部圧力
200℃ 反応部圧力反応部温度 [℃]
反応部圧力 [MPa]時間 [h]
0
2
4
6
8
10
12
14
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
常温 水素生成量
100℃ 水素生成量
200℃ 水素生成量
水素生成量[L]
時間 [h]
分離膜部での凝縮作用向上→溶媒リーク量の低減 (気液分離効果)
- 14. 反応部温度 260℃ 300℃ 340℃ 380℃ 420℃
水素生成量 [cc] 4050 6470 10400 11680 12420
溶媒リーク量 [g] 2.823 2.197 1.221 0.696 0.332
反応率 [%] 28.95 46.52 74.50 84.50 89.27
反応部温度が及ぼす影響
0
2
4
6
8
10
12
14
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
260℃ 水素生成量
300℃ 水素生成量
340℃ 水素生成量
380℃ 水素生成量
420℃ 水素生成量
水素生成量[L] 時間 [h]
0
100
200
300
400
500
0
2
4
6
8
10
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
260℃ 反応部温度
300℃ 反応部温度
340℃ 反応部温度
380℃ 反応部温度
420℃ 反応部温度
260℃ 反応部圧力
300℃ 反応部圧力
340℃ 反応部圧力
380℃ 反応部圧力
420℃ 反応部圧力
反応部温度 [℃]
反応部圧力 [MPa]
時間 [h]
- 17. 有機ハイドライド Decaline Bicyclohexyl
反応部温度 260℃ 300℃ 340℃ 260℃ 300℃ 340℃
水素生成量 [cc] 4050 6470 10400 6800 9190 13950
溶媒リーク量 [g] 2.823 2.1973 1.221 0.955 0.927 0.874
反応率 [%] 28.95 46.52 74.50 48.84 66.63 101.48
0
50
100
150
200
250
300
350
400
0
1
2
3
4
5
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
Decaline-260℃ 反応部温度
Decaline-300℃ 反応部温度
Decaline-340℃ 反応部温度
Bicyclohexyl-260℃ 反応部温度
Bicyclohexyl-300℃ 反応部温度
Bicyclohexyl-340℃ 反応部温度
Decaline-260℃ 反応部圧力
Decaline-300℃ 反応部圧力
Decaline-340℃ 反応部圧力
Bicyclohexyl-260℃ 反応部圧力
Bicyclohexyl-300℃ 反応部圧力
Bicyclohexyl-340℃ 反応部圧力
反応部温度 [℃]
反応部圧力 [MPa]
時間 [h]
0
2
4
6
8
10
12
14
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
Decaline-260℃ 水素生成量
Decaline-300℃ 水素生成量
Decaline-340℃ 水素生成量
Bicyclohexyl-260℃ 水素生成量
Bicyclohexyl-300℃ 水素生成量
Bicyclohexyl-340℃ 水素生成量
水素生成量[L]
時間 [h]
高反応性有機ハイドライドの模索
- 18. まとめ
小型
シンプル
廉価
高効率
熱効率 触媒効率 反応率
YSZ(セラミックス) ○ ◎
PCP型薄膜分離膜 ◎
反応部
高温 × ◎(活性) ○
液相反応 △ ◎ ◎ ◎
分離膜 低温・高圧 ◎
ビシクロヘキシル ◎ ◎
各種パラメータが及ぼす効果
水素生成速度 → 40,000cc/min・gPt(ビシクロヘキシル340℃)
溶媒反応率→ 100%(ビシクロヘキシル340℃)
セラミックス製分離膜,液相反応の効果を確認
- 19. 2008年 2009年 2010年
有機ハイドライド デカリン 15cc デカリン 20cc ビシクロヘキシル 20cc
分離器 循環型気液分離 GDC 自立膜 PCP-YSZ薄膜
リーク量 [g] ー 0.918 0.000
反応率 [%] 74.12 6.86 104.65
生成速度 [cc/min] 45.78 6.79 442.33
0
5
10
15
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
2008(循環)水素生成量
2009 水素生成量
2010 水素生成量
水素生成量[L]
時間 [h]
0
100
200
300
400
500
0
2
4
6
8
10
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
2008(循環)反応部温度
2009 反応部温度
2010 反応部温度
2008(循環)反応部圧力
2009 反応部圧力
2010 反応部圧力
反応部温度 [℃]
反応部圧力 [MPa]時間 [h]
- 24. 補足資料 常温時の分離膜有無による影響
0
50
100
150
200
250
300
350
400
0
1
2
3
4
5
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
常温 PCP-YSZ 反応部温度
100℃ PCP-YSZ 反応部温度
常温 non-filter 反応部温度
100℃ non-filter 反応部温度
常温 PCP-YSZ 反応部圧力
100℃ PCP-YSZ 反応部圧力
常温 non-filter 反応部圧力
100℃ non-filter 反応部圧力
反応部温度 [℃]
反応部圧力 [MPa]
時間 [h]
分離膜 PCP-YSZ薄膜 Non Filter
分離膜部温度 常温 100℃ 常温 100℃
水素生成量 [cc] 12750 11080 9180 8170
溶媒リーク量 [g] 0.000 0.709 0.000 3487
反応率 [%] 92.393 79.204 65.87 58.43
0
5
10
15
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
常温 PCP-YSZ 水素生成量
100℃ PCP-YSZ 水素生成量
常温 non-filter 水素生成量
100℃ non-filter 水素生成量
水素生成量[L]
時間 [h]
- 30. 補足資料 2008年度循環型気液分離装置
0
5
10
15
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
2008(循環)水素生成量
2009 水素生成量
2010 水素生成量
水素生成量[L]
時間 [h]
0
100
200
300
400
500
0
2
4
6
8
10
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
2008(循環)反応部温度
2009 反応部温度
2010 反応部温度
2008(循環)反応部圧力
2009 反応部圧力
2010 反応部圧力反応部温度 [℃]
反応部圧力 [MPa]時間 [h]
2008年 2009年 2010年
有機ハイドライド デカリン 15cc デカリン 20cc ビシクロヘキシル 20cc
分離器 循環型気液分離 GDC 自立膜 PCP-YSZ薄膜
リーク量 [g] ー 0.918 0.000
反応率 [%] 74.12 6.86 104.65
生成速度 [cc/min] 45.78 6.79 442.33
- 32. 補足資料 電力貯蔵技術のエネルギー貯蔵密度比較
1.0 3.3 50 160 635
揚水発電
京極発電所
北海道電力㈱
(落差369m)
レドックスフロー
バッテリー
苫前発電所
鉛蓄電地
NAS電池
大仁変電所
東京電力㈱
有機ハイドライド
MCH
出典:水素利用技術集成 Vol.3
さまざまな電力貯蔵技術のエネルギー貯蔵密度の比較 (kWh/m3)