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宏麗水處理有限公司 /志純/宏秝科技有限公司═
工程、設備、維護&耗材及化學藥品
‧公司聯絡.
‧ 高雄總公司:高雄市811楠梓區鳳楠路108巷23號
‧ Tel:07-3536048 Fax:07-3534156
‧ 宏秝屏東:屏東縣萬丹鄉成功街2段11巷2號
‧ Tel:08-8686753 Fax:08-8685469
‧ 宏麗台南:台南縣731後壁鄉烏樹村132之10號1F
‧ Tel:06-6831658 Fax:06-6831716
‧ 志純台中:台中縣414烏日鄉長春街132巷6號1F
‧ Tel:04-23366447 Fax:04-23363885
‧ 崑山岱德:江蘇省昆山市張浦鎮花苑路588號
‧ Tel:(0512)-57454390 Fax: (0512)-57445416
‧ 通訊 聯絡:
‧ 高雄縣鳳山市五甲二路294巷25號
‧ E-mail:hl.water@msa.hinet.net
廢水處理技術背景資料
PPhoeniXhoeniX
半導體業化學機械研磨漿液分類
廢水處理方法的基本類型 PPhoeniXhoeniX
基本原理 新型技術 調整搭配技術 傳統技術
物 化 磁聚固液分離
上浮式過濾
催化混凝技術(磁催化,電磁波
極性分子催化)
脫水技術(螺桿式,電解胞膜式)
淺層零速氣浮
高效混凝劑(脫色,銅
捕劑)
超聲波強化化學反應
粗細篩分離網
傳統沉澱,氣浮,過
濾及污泥脫水(帶濾,
板框,離心式)
生 化 高效懸浮濾床反應器
新型厭氧折流板反應器
膜離生物技術(MBR)
磁致生物效應
人工溼地
新型生物擔體,BAC
輸氧技術
馴化菌種
釋氧酵素
純氧/O3強化
各種分槽式生物反應
槽:AO,A2O,UASB,
SBR,氧化溝
高級氧化 高電效鈦電極電解
石英雙套管臭氧(+UV)
催化氧化技術
超臨界氧化
鐵炭微電解
新型電極(三維半導
體催化陶瓷電極)
强氧化劑添加
電解,電凝,電集
FENTON法
奈米單石吸附氧化技術
離子交換,EDI/EDR,電容吸附
薄膜分離(UF,NF,RO)
機 能 化 磁化、礦化、遠紅、電解。
功能性微生物。
超聲波降藻
旁流去硬度
景觀,植生
顆粒活性碳吸附高級淨化
水體中物質的混合與反應時間
PPhoeniXhoeniX
類型 舉例 一般反應時間
快速 加藥混合(依流場設計)
混凝反應
化學反應(氧化還原、沉澱)
電磁波(場)
超音波空穴爆破
紫外光UV
<5s
<0.3s
0.1-1s
<0.01s
<0.01s
<0.01s
慢速 絮凝反應(依流場設計,水温)
臭氧接觸(依濃度)
極板式電解反應(依電流密度)
20-45s
1-2min
2-5min
傳統方法的困難:
酸鹼值的調整看似簡單,實則非常容易產生抵消加藥及追逐加藥的現
像,尤其當反應槽內控制點數不多時,一批批的廢水 pH 落差造成加藥
幫浦時而加酸時而加鹼,不僅浪費加藥且造成廢水鹽度上升
快慢混調控反應器模組流程原理示意圖
進流污水 一次加
藥混合
加藥取樣
二次加
藥混合
三次加
藥混合
N次加
藥混合
慢混
絮凝
加藥取樣 加藥取樣 加藥取樣 取樣 取樣
調控反應噐
反應器的設計理念:
混合、混凝、絮凝和反應流場的高度整合
原理比較 調控反應器 一般傳統方式
混絮凝裝
置動力學
原理
1.推流密閉式反應器
2.無動力管道式混合結構
1.分槽開放式CSTR反應器
2.動力攪拌混合結構
PPhoeniXhoeniX
快慢混調控反應器特色
1.兼具多道快速混合反應與慢速反應的全密閉推流一體反應結構,二者可
互為前後或交錯運行
2.全程所有混合反應動力只由唯一的進料動能壓降提供
3.快速反應流道環繞於慢速反應桶外環,反應攪拌强度及時間,可藉由管
徑及環繞長度調整,以達到最簡且最小空間化
4.任一道快速反應流程可同時具有加藥,溶入氣體,取樣,流體參數偵測
及插入適宜流道置入式的反應模組,如:各型加熱器、磁化器、紫外光照
射、超聲波照射、微波輻射等,以強化其化學反應
5.慢速反應桶內部隔板遵循流體於某速率區間,維持持續改變向量(速度
及方向)的絮凝反應原則而佈置
6.上述結構將水處理上全流程所需所有快速、慢速反應之流程空間及其配
套功能整合於一可調整的最小空間中,一般每道快速反應過程小於10秒,
每道慢速反應過程小於60秒,全程小於2分鐘
PPhoeniXhoeniX
快慢混調控反應器應用領域摘要
1.應用於環工,工業水處理,化工之各式混合,攪拌,快速反
應,慢速反應之單一或串連反應桶槽
2.尤其最適用於水處理上之化學混絮凝反應
3.快速反應部份極適合於原水槽,中間槽及出水槽之pH酸鹼
調控,可於極小的空間和時間內,將pH穩定而精確的調控於
目標值範圍內
4.快速反應部份管道可搭配置入各型加藥、溶氣、加熱器、磁
化器、紫外光照射、超聲波照射、微波輻射等
5.慢速反應部份桶體可搭配置入各型加熱器、超聲波照射、電
解處理等
PPhoeniXhoeniX
快慢混調控反應器的組合應用
PPhoeniXhoeniX
項目 說明 選項
控制迴路之自控
機構
依原水變異幅度
和目標調控精確
度而選擇
1.回饋控制
2.回饋控制+前饋控制
控制迴路級數 當原水變異幅度
偏大或調節槽容
積過小時
採串連二級以上控制(前置
預調整)
偵測與加藥穩定
性
1.偵測:單偵測或雙偵測器
2.加藥機:單泵或双泵交替
警報與歷史記錄 1.電腦級圖控
異常控制機制 事件觸發 (增設
電動閥)
1.異常原水切換暫存
2.異常出水回流再處理
其他選項 1.多種藥劑來源(酸鹼,濃
度,廢液)
2.流量計與流量比例閥控制
機構
螺桿式污泥脫水機
原污水
廢水處理及回用技術模組(舉例)
磁聚快
速固液
分離
緩
衝
調
節
槽
電容吸附
去離子
RO膜
技術
中
間
槽
優於自來
水水質
半乾污泥
PPhoeniXhoeniX
乾污泥
奈
米
單
石
吸
附
氧
化
電
磁
波
催
化
絮
凝
上
浮
式
過
濾
懸浮
濾床
生物
反應
器
污泥水
濃縮離子水排放
或蒸發回收
31 4 5
8
72 6
水質項目 1 2 3 4 6 8 9
極低 極低
低溶解度 極低
高溶低生化性
高溶高生化性
極低
極低
高
極低
極低
高 中 中 低 低 極低 極低 極低
鹽類離子(電導度) 高 高 高 高 高 高 極低 極高
極低
極低
極低
低
低
低
低
低
中
5 7
SS懸浮固體,油脂 高 低 極低 極低
高 低 低 極低
高 低 低 極低
COD
加藥 氧化劑
羥
基
催
化
氧
化
9
磁聚機構造
內部電控箱
與加藥電機
取樣口
PH計
磁聚分離機全機結構設計示意圖
快慢混區
磁分離區
進水壓力計
加藥預混器
加藥泵浦
取樣口
PH酸鹼偵測器
進水分配槽
人機界面
PH顯示計
快、慢混區
電控箱
磁聚分離區
掃泥片調速器
磁盤調速變頻器
啟動/停止鈕
快、慢混區
磁聚分離區
電控箱
淨水出水管
淨水集水槽
掃泥片減速機
淨水出水管
自來水進水管
流量計
加藥泵浦
異常排放管
原水進水管
磁聚快速固液分離技術
PPhoeniXhoeniX
物化混凝法是淨化廢水的適當方法
一、無機廢水污染特性
1.高濃度COD及高SS,且BOD/COD較低,一般不易進行生化處理
2.有時同時含高量油脂(機油,潤滑油,切削油,脫模劑)
3.含大量金屬粉末或金屬離子
二、有機高油脂廢水污染特性
1.高濃度COD及高SS,且BOD/COD較高
2.食物油脂含量高常是COD高的主因
3.含較高量界面活性劑及消毒殺菌劑
三、物化混凝法可去除 1nm-100um 之膠質微顆粒,包括微生物、病毒、乳化
油、金屬離子(先調整酸鹼析出低溶物)等,但對小分子及高極性有機物
則不易去除(適合採需較長時間作用的生化法處理)
四、物化上,將污染微顆粒化的方法有:
1.化學沉澱反應 去除重金屬之搭配技術
2.混凝絮凝反應 主要技術
3.新型重金屬捕集和破螯合藥劑 去除特殊微量物質之搭配技術
4.奈米吸附反應 去除硬度之搭配技術
五、而將水體中微顆粒移除的方式則有:
1.沉澱
2.浮除
3.過濾 SS量少時之技術
4.磁聚 主要技術
PPhoeniXhoeniX
物化混凝沉澱固液分離法 PPhoeniXhoeniX
磁聚快速固液分離機的簡要說明
磁聚分離機主要由加藥混絮凝裝置和磁聚分離裝置組成。
加藥混絮凝裝置是將投加PH調節劑和專用助凝劑的污水在裝
置中形成微絮凝團,再由分離裝置將污水中的懸浮物等雜質從
液態中以固體形態析離出來。
其原理為:各種物質在高磁力作用下,都有變化,而且我們
還加入一些微細的磁性助凝物質,更增強了凝聚力和磁場的作
用力,使含水懸浮物在強力磁場的作用下發生擠壓和快速凝聚
作用。
採用磁聚機為主的水處理技術,由於不需傳統的混絮凝池、
沉澱池、過濾、濃縮和專用脫水機等一系列設備、全部處理時
間只需短短3分鐘,占地面積和投資費用大大節省,且運轉費用
也不高,具有很明顯的經濟效益。
PPhoeniXhoeniX
磁聚淨化系統特點
• 適合多種不同類別( SS、油脂、重金屬、膠體、色度、細
菌、大部份溶解性COD )之污水處理。
• 移除微細顆粒更徹底,出水清澈度遠優於沈澱或浮除技術
• 處理時間短,全程僅約 2 分鐘,可省掉沉澱槽、濃縮槽及
壓濾機,佔地少(1/15以下)。
• 省電(每噸水耗電<0.2度)、耐用、特低的維護費。
• 模組化人機界面全自動控制設備,施工容易,安裝迅速。
• 移動式設備,可配合製程改變或廠房遷移搬動繼續使用。
磁聚技術和傳統沉澱技術的比較 PPhoeniXhoeniX
方式
項目
磁聚分離技術 傳統沉澱技術
主要原理 磁聚吸附分離
>95%(出水<30mg/L)
70%~80%
進水SS濃度限制 50ppm-5% <5000ppm
極少
全程3分鐘
中價位(耐用10年以上)
較低(磁絮凝原理可減少混
凝劑及脫水高分子藥耗)
電力成本 極低(核心原理不耗電) 較高
設備遷移 輕鬆移動 工程浩大
極低(動力元件少)
全自動控制
管中處理無異味
重力沉降分離
SS去除效率 依微顆粒懸浮特性而異
污泥含水率 脫水前 >98%,需經脫水
佔地面積 大
處理時間
混絮凝0.5-1小時
沉澱1-3小時
設備成本 中-高價位(依品質)
藥耗成本 一般
維護成本 較高
人工管理
藥劑調整較不易掌控及較多
設備維護
環境異味
開放式兼部份曝氣攪動易散
發異味
金屬加工業廢水
中濃度金屬酸洗廢水 高濃度金屬酸洗廢液
收集產水
污泥排放
科技公司高濃難降解COD廢水
實場運轉示範
PPhoeniXhoeniX
高油脂廢水混凝磁聚實場處理成效
PPhoeniXhoeniX
原水 自來水 產水產水取水乾污泥出口
小型示範機台 PPhoeniXhoeniX
可移動式示範機台
及載具,接受客户
實場驗証要求
竹科某科技公司機台50CMD
PPhoeniXhoeniX
竹南某科技公司機台100CMD
PPhoeniXhoeniX
龍潭渴望園區某公司機台200CMD
PPhoeniXhoeniX
高級飯店生活污廢水機台 400CMD
人機界面PLC控制
電子印刷電路板(PCB)廢水機台 PPhoeniXhoeniX
含銅重金屬廢水瞬間清澈
混凝磁聚排放污泥 PPhoeniXhoeniX
3.初入袋待滲漏污泥1. 初分離污泥
4.經靜置一天,已進一步乾化之污泥2.排泥瀝水流道上滑動污泥
排放污泥的收集與搬移 PPhoeniXhoeniX
小型污泥子車
(內置小型污泥袋)
污泥太空包
CMP廢水的磁聚研究
研磨廢水中的奈米顆粒由於粒徑小且帶有高電荷,以致於其凝聚效率不佳。本
研究利用磁種凝絮作用處理實場的CMP廢水,使廢水中的懸浮顆粒與合成的Fe3O4磁
性顆粒碰撞凝聚(“成核效應"(nucleation effect)),針對其操作條件加以探
討其對處理效率的影響。
由於市售的磁性顆粒粒徑較大,所以單位重量所含的顆粒數較少,以致磁性顆
粒與廢水中的顆粒碰撞有限,為達到較高的碰撞效率並基於操作成本之考量,本研
究採用化學共沈法以[OH-]/[Cl-]=1,[Fe2+]/[Fe3+]=2/3的比例、加入
40ml的SDS(×10-5M),同時在不加熱的反應環境下製得高達90%粒徑小於
190nm(Fe3O4為近似長方體的顆粒,大小約為100nm),而飽和磁化率則為
55.56emu/g的Fe3O4磁性奈米顆粒。
由實驗結果發現,在操作條件控制上以pH~6,NaCl=0(在沒有電解質
(NaCl=0M)存在下,Fe3O4與SiO2電性相反且帶電位較高,靜電吸引力也較強),並
且G值在30~60之間時(G為47(/sec)時最佳),其濁度去除效率為最佳可達到95%
甚或更高。
同時,凝聚物沈降時,若加入磁場時,由於Fe3O4為磁性顆粒,所以Fe3O4 -
SiO2相互碰撞附著的顆粒不僅只受到重力的沈降,也受到磁力的作用使得去除率提
高且沈降也更快速(無外加磁場下靜置50分鐘的殘餘濁度為5.9NTU,但是在
1,300Gauss的外加磁場環境下靜置,僅需5分鐘即可達到低於5.9NTU(濁度去除率達
95.6%))。對於CMP廢水的處理,可說是發展了一個既方便又經濟的處理程序。
利用Fe3O4磁性奈米顆粒處理化學機械研磨廢水 (中央大學環工所研究計劃2004/11)
氫氟酸(HF)廢水處理技術簡介
-奈米鈣結合磁聚技術淨化系統-
PPhoeniXhoeniX
技術背景簡介
PPhoeniXhoeniX
氫氟酸廢水的傳統處理方法
(一)化學混凝沈澱法
化學沉澱法為利用化學藥劑與溶解的離子發生化學反應產生不溶解性
沉澱物,含氟廢水的處理即利用鈣離子與氟離子發生反應結合成氟化
鈣粒子沉澱去除之。
反應化學式
Ca2+ + 2F- → CaF2↓ Ksp = 3.4*10-11
(二)流體化結晶床處理法
流動床式的氟化鈣結晶法,即加強含氟廢水與一般酸性廢水的分流,
使氟離子濃度提高,並於鈣離子與氟離子反應之時加入晶種,在流動
床式反應器中使氟化鈣結晶析出,以去除氟離子。
PPhoeniXhoeniX
‧ 氟系廢水處理後需達氟離子15ppm以下之排放水標準,若考慮回用還希望能
有更佳的去除效果。
‧ 業界普遍採取監控氟離子殘留量,並過量添加氯化鈣、或熟石灰之策略,以
確保水質處理品質,但如此會造成後段污泥量的遽增,增加污泥處置的費用
和環境的衝擊。
‧ 由於氟離子的粒徑為1.36*10-10m,經反應形成之氟化鈣非常細小,在水中沉
澱速度很慢,常有排放水質S.S.偏高或不穩定,而增加水污費用。
氫氟酸廢水傳統處理方法的困擾
過量加藥背景:理論上以溶解性鈣鹽處理後的處理水中,氟離子殘留濃度為
7.8mg/L(依CaF2溶解度積),但是由於影響氟離子殘留濃度的主要因素很多,如
Ca2+濃度、pH值、溫度、離子效應、離子強度、及與F-形成的溶解性複合物離子
(如Si2+、Al3+、Fe3+等等),而各種因素中能由廢水處理現場操作控制者只有Ca2+
與pH值兩者。理論上溶解度積是鈣離子強度乘上氟離子強度為一固定值,添加的
鈣離子越多,與氟離子反應沉澱量也越多,如果加入超量的鈣離子,則可藉共同
離子效應而使水中的殘存氟離子減少。
為了降低氟離子殘存濃度,理論可以提高所添加的鈣離子濃度以達到預期處理
效果,但…。
PPhoeniXhoeniX
若利用粉體形態之熟石灰處理:
‧ 容易調整至較高鹼度
‧ 產生的氟化鈣或磷酸鈣沉降分離性佳
‧ 溶解度差,使用量大
‧ 未利用污泥量亦大
‧ 硬體上需作迴流等複雜設計,改善其接觸反應機率。
若利用37% 溶液形式之氯化鈣處理:
‧ 操作簡易方便
‧ 反應性良好
‧ 需調整至最佳反應之pH值範圍 (8~9間),否則反應及分離沉降性不佳
‧ pH值的調整,需借助液鹼作調整
‧ 受限於化性平衡常數的關係,當到達平衡,不論氯化鈣濃度如何追
加,氟離子將不易進一步降低
早期添加至氫氟酸廢水的鈣常用熟石灰,但因溶解性極低,在習慣過量加藥下,生
成污泥量多,後續處理不易,故近年來科學園區新成立之工廠,其廢水處理逐步改
用溶解性佳而相對污泥生成量低之氯化鈣
氫氟酸廢水處理藥劑的選用 PPhoeniXhoeniX
奈米鈣產品簡介
PPhoeniXhoeniX
「奈米鈣」的產品特色
‧增加反應比表面積,使反應速率加速,單位重量
之鈣鹽可發揮最大的作用效能
‧減少鈣鹽與液鹼使用量(30%)
‧減少相關藥劑使用量,如PAC等
‧大量降低污泥量(25%)
‧在磷酸共存下,可破除磷酸緩衝性,大量降低液
鹼使用量
‧以半流體膏狀形式供應,無粉塵、氣爆危險。
PPhoeniXhoeniX
‧ 以1000ppm氫氟酸溶液(1L)測試,比較氯化鈣及「奈米鈣」
加藥量及殘留氟離子濃度
奈米鈣 CaCl2
加藥量(g) F-離子濃度 加藥量(g) F-離子濃度
0 1000 0 1000
1 700 1 850
2 540 2 700
3 340 3 560
4 200 4 430
5 150 5 300
6 80 6 250
7 30 7 180
8 10 8 100
9 100
10 100
「奈米鈣」和氯化鈣的杯瓶比較
PPhoeniXhoeniX
奈米鈣滴定曲線
0
200
400
600
800
1000
1200
0 2 4 6 8 10
加藥量(g)
F殘存濃度(ppm)
氯 化 鈣 滴 定 曲 線
0
200
400
600
800
1000
1200
0 2 4 6 8 10 12
加 藥 量 (g)
氟殘存濃度(ppm)
「奈米鈣」與氯化鈣處理1000ppm氫氟酸(1L)之滴定曲線比較
「奈米鈣」和氯化鈣的滴定曲線PPhoeniXhoeniX
應用實例
‧以每日1000噸,含濃度500ppm氫氟酸之酸性
廢水為例 :
氯化鈣的添加量約為6000公斤/日
「奈米鈣」的使用用量約在4200公斤/日,
為氯化鈣用量之70% ,液鹼用量節省30 %
PPhoeniXhoeniX
附:含磷酸等酸性廢水的應用
‧ 磷酸、硫酸會競爭性的與鈣鹽反應產生不溶性鈣鹽。
‧ 磷酸會競爭三個鈣離子,大量消耗鈣離子
‧ 磷酸具有強大的酸鹼緩衝能力。使用氯化鈣作為中和鈣鹽時,在反應前、後
調整pH值時需加入大量液鹼。
‧ 在液晶面板廠,目前採行之濕式蝕刻液以磷酸系統為主,廢水中殘有大量的
磷酸。
‧ 為調整廢水之酸鹼度,往往需耗用大量液鹼去克服磷酸強大的緩衝現象。
「奈米鈣」可快速的與磷酸反應
★「奈米鈣」可排除磷酸對加入液鹼時所形成
的緩衝現象,從而大量降低液鹼的使用
量。
★「奈米鈣」作磷酸系統廢水處理時 :
1.可較氯化鈣有效捉取磷酸根,減少2.5倍
的加藥量
2.可減少高達4/5液鹼的使用量
氯化鈣 「奈米鈣」
使用量 2.5單位 1單位
液鹼用量 5單位 1單位
PPhoeniXhoeniX
採奈米鈣配合傳統沉澱技術的困難
1.奈米級的顆粒不易沉澱,微細顆粒極易夾帶於出流
水中,奈米鈣所生成之鈣鹽更極細微,於批次靜態
實驗下可呈現的沉降特性,在動態下便極困難有效
沉降
2.若採更大的沉澱池面積,代表更高的佔地和成本
3.一般廢水中同時含有部分可生物降解的有機物,在
沉澱池底部容易發生厭氧發酵,沉澱時間變久,易
產生氣泡(甲烷,硫化氫)將好不容易才沉降下來
的顆粒又帶到出流水去了
奈米鈣可以敗部復活嗎?
PPhoeniXhoeniX
建議HF廢水處理流程與功能示意圖PPhoeniXhoeniX
前調節及
HF反應槽
調節槽
生物曝氣
濾池
高濃度
HF廢水
低濃度HF廢水
(+研磨廢水) 排放水
污泥
磁聚固液分離機
加藥系統(奈米鈣)
污泥脫水機
上浮式過濾機A 上浮式過濾機B
1.主體採磁聚固液分離機(或取代原混凝沉澱系統,原系統作為備用),作為中和HF及化混
分離微顆粒之主要核心功能
2.設上浮式過濾機A模組,可進一步濾除殘餘微量SS,而減輕後續生物池之負擔
3. 一般廢水中還含有化混後殘留之有機成份(COD<100),可採生物曝氣濾池方式降解,因不
必設置沉澱池,相對高效而極省空間
4.增設上浮式過濾機B模組,可取代原砂濾系統,而有高過濾效率及低耗水的特色,亦可將
含少量SS之一般酸鹼廢水納入,進一步穩定排放水或回用水水質。
乾污泥
PH調整
反應槽
一般酸鹼
廢水
含細微顆粒廢水採磁聚系統處理之特色 PPhoeniXhoeniX
細微顆粒廢水傳統處理困擾:
1.氟系廢水一般使用CaCl2(或奈米鈣)作為鈣鹽來源,可以降低污泥產量,但CaF2顆粒極
為細小,沉降性不佳,經混絮凝後,沉澱池之平均上昇流速宜控制在<0.3M/hr才會獲得
較佳的顆粒分離效果,這代表需要更大面積的處理空間。當採用斜板沉澱池時,仍然會
不斷有積泥及翻池困擾。
2.研磨及切割廢水,平均顆粒粒徑< 0.2 μm (CMP),同樣是採傳統沉澱處理極為棘手的問
題。
3.傳統加藥控制不夠精確或混合機構流場設計不善,會導致不同槽間追逐加藥,或同一槽
中酸鹼抵消加藥,導致加藥浪費;過量的加藥會導致上澄液含有大量鈣離子,遇到後續
酸鹼廢水中的SO4
-2、PO4
-3等,又會形成硫酸鈣、磷酸鈣的微粒。
採磁聚系統特色:
採磁聚系統最大特色是高分離效率;節省空間;耐用長久、低維護費及人事費用;及對產
能及污染變化的高調節彈性。
1.高分離效率方面,磁聚技術採用新一代科技,藉由於磁力絮凝作用及磁粉之核種效應,
出水中絕大部份的微細顆粒都被有效移除,故特別適用於奈米級之微污染處理領城。
2.節省空間方面,磁聚技術由過去傳統需(沉澱反應、快混、慢混、沈澱、污泥濃縮,一
般要2-5hr)到只需2分鐘,佔地面積小,且由於磁力絮凝作用及磁粉之核種效應,出水
中絕大部份的微細顆粒都被有效移除,故特別適用於奈米級之微污染處理領城。設備可
安置於槽體上方,在節省空間上,非傳統技術可達成。
3.耐用部分,關鍵技術的核心為永磁磁體,可耐用數十年,系統只有馬達動力設備等需依
使用狀況定期更換,故折舊及維護費較低,人員操作及維護也都較簡易。
4.系統為模組組合式概念,當水量變化,水質變異時,(製程更改,廠房擴充)較易調整
以維持最佳的條件,平時且可依污染水質特性改變採用最適合的藥劑或劑量,而可合乎
長遠性的最佳成本效益。
磁聚技術結合奈米鈣的
實埸應用示範
PPhoeniXhoeniX
某光電大廠
以磁聚快速固液分離系統
處理高濃度HF廢水
DEMO報告(2007.5)
DEMO目的:評估將高濃度HF廢液部分導入一
般HF廢水中合併處理之可行性
PPhoeniXhoeniX
DEMO水質濃度背景與模擬調製
1. 廠內現有HF廢水/廢液條件
(1)低濃度一般廢水,濃度約100ppm
(2)中濃度一般廢水,濃度約1000ppm
目前中低濃度廢水合併處理,混合濃度約600ppm
(3)高濃度廢液,濃度約8~13%
目前高濃度廢液委外處理
2. 評估規劃:將高濃度HF廢液部分導入一般廢水混合處理之可行性
處理濃度將由目前600ppm提高至1500~2000ppm
3. DEMO模擬條件:以中濃度1000ppm廢水為基礎,加入高濃度8%廢
液混合,調製濃度約為2000ppm之混合廢水作為DEMO之模擬原水
PPhoeniXhoeniX
DEMO模擬原水之濃度調配
取現場抽取中濃度HF(約1000ppm)
廢水500L至混合槽,
加入6.35L之高濃度HF(約8%)廢液,
調製濃度約2000ppm之混合廢水
作為DEMO之模擬原水,混合後原水
濃度實測為2500ppm
PPhoeniXhoeniX
DEMO磁聚系統處理成效
出
水
氟
離
子
測
試
數
據
出
水
︵
放
流
︶
取
水
原水與出水比較
PPhoeniXhoeniX
處理水質結果:
處理後出水氟離子濃度:4.43ppm
處理前原水HF濃度:2500ppm
噸水處理成本低於傳統處理方法
研磨廢水中水回用技術評價
PPhoeniXhoeniX
上浮式
過濾機
研磨廢水處理及回收流程規劃
調節槽
磁聚機
浮動濾床式
生物反應器
排
放
泥
水
低導電度
混凝加藥
中水
回用槽
現階段規劃
依實場需求
規劃
未來回收水規劃
上浮式
過濾機
奈米單石
吸附氧化
RO逆滲
透膜
UF/SUF
膜
界達
電棒
慢速精濾
A B
C D
慢速精濾
PPhoeniXhoeniX
SDI<5 COD<20
COD<3
NTU<1
乾污泥
化學混凝技術的研發進展
類別 項目 優勢
程序設施
技術
傳統化學混凝沉澱,過濾 磁聚技術 極省空間
易調控操作
出水穩定高效
重金屬螯捕劑 同時移除重金屬
電混凝法(Al/Fe犧牲陽極) 減少藥耗(但耗電)
低導電度
礦物型配方混絮凝劑(DCB
技轉)
低導電度
低污泥量
低藥耗
奈米粒子移除
有助於混凝效果
同時降解COD
有機陽離子絮凝劑取代PAC
(園區半導體大廠採用中)
化學藥劑面
物理埸催化
面
磁埸催化
界達電埸催化
配合高級氧
化(前置)
氧化劑添加(H2O2,O3)
電解催化(Ti電極)
電磁波催化
化學混凝
機制
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Q&A
謝謝各位寶貴的時間
PPhoeniXhoeniX

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