1. 奈米製程技術概論
張瑞慶

2. 製程技術
旋鍍 化學氣相沉積
曝光微影 溶膠-凝膠法
蒸鍍
濺鍍
高溫爐
蝕刻

3. 1.微影製程(旋鍍、曝光、顯影)

4. (1)旋鍍

5. (2)曝光

6. (3)顯影

7. 顯影目的

8. 蝕刻目的

9. 2.蒸鍍
蒸鍍：將蒸鍍材料加熱至高溫(接近其熔點)，
使鍍材由固體轉為液體進而汽化成蒸氣，沉積
在被鍍物上形成薄膜。
蒸鍍是以物理現象的方式，進行薄膜沉積的技
術，此種技術又稱為物理氣相沉積(Physical
Vapor Deposition，簡稱PVD)。
加熱 加熱
固 體 液 體 蒸 氣