Fabricacion De Chips http://fisicamoderna9.blogspot.com/

Índice ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Introducción ,[object Object],[object Object]

Chip (Descripción) ,[object Object]

Popularidad de los CI ,[object Object]

Clasificación ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Limitaciones de los circuitos integrados ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Disipación de potencia Evacuación del calor ,[object Object]

Capacidades y autoinducciones parásitas ,[object Object]

Límites en los componentes ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Densidad de integración ,[object Object],[object Object]

PASOS NECESARIOS PARA FABRICAR UN CHIP

PASO 1 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

PASO 3 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

[object Object],[object Object],[object Object],PASO 7

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],PASO 8

PROCESOS QUE PUEDEN INTERVENIR EN LA FABRICACIÓN DE CIRCUITOS INTEGRADOS

EPITAXIA ,[object Object],[object Object]

Oxidación en semiconductores ,[object Object],[object Object],[object Object]

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Implantación de iones ,[object Object],[object Object]

DIFUSION EN ESTADO SÓLIDO ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

DIFUSION EN ESTADO SÓLIDO ,[object Object],TIPOS DE DIFUSION ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

DESCOMPOSICION EN SEMICONDUCTORES ,[object Object]

DESCOMPOSICION EN SEMICONDUCTORES MATERIAL DEPOSITADO ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],El proceso se suele realizar en un horno a alta temperatura y presión controlada. Por medio de los gases que se introducen en el horno se logra una reacción química de la que se obtiene el nuevo material .

CONCLUSIONES ,[object Object],[object Object],[object Object]

BIBLIOGRAFIA ,[object Object],[object Object],[object Object]

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