Successfully reported this slideshow.
We use your LinkedIn profile and activity data to personalize ads and to show you more relevant ads. You can change your ad preferences anytime.
‫رضا‬ ‫محمد‬‫گواهــــــــــــی‬
‫بخار‬ ‫فاز‬ ‫از‬ ‫شیمیایی‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬
‫و‬ ‫فلزی‬ ‫های‬ ‫الیه‬ ‫رسوب‬ ‫برای‬ ‫فراگیر‬ ‫فرایندی‬
‫باشد‬ ‫می‬ ‫سرامیکی‬...
‫کاربردهای‬CVD
‫الکترونیکی‬ ‫تجهیزات‬ ‫و‬ ‫ها‬ ‫هادی‬ ‫نیمه‬ ‫تولید‬
‫سایش‬ ‫به‬ ‫مقاوم‬ ‫قطعات‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬
‫نوری‬ ‫ف...
‫کاربرد‬ ‫های‬ ‫زمینه‬CVD
‫پلی‬ ،‫ها‬ ‫کریستال‬ ‫تک‬ ‫فابریکیشن‬ ‫میکرو‬
‫کریستالهای‬ ‫تک‬ ‫و‬ ‫آمورف‬ ‫مواد‬ ،‫ها‬ ‫کریس...
‫روشهای‬ ‫بندی‬ ‫کالس‬CVD
‫روشهای‬ ‫بندی‬ ‫طبقه‬CVD‫فشار‬ ‫اساس‬ ‫بر‬
AP-CVD:CVD‫اتمسفر‬ ‫فشار‬ ‫با‬
LP-CVD:CVD‫کم‬ ‫فشار‬ ‫با‬
UHV-CVD:CVD‫زیاد‬...
‫بندی‬ ‫طبقه‬‫روشهای‬CVD‫دما‬ ‫اساس‬ ‫بر‬
HT-CVD:‫از‬ ‫باالتر‬ ‫دماهای‬ ‫در‬ ‫دهی‬ ‫رسوب‬
900‫سانتیگراد‬ ‫درجه‬
MT-CVD:‫...
‫روشهای‬CVD‫و‬ ‫فشار‬ ‫اساس‬ ‫بر‬
‫کاربرد‬ ‫دمای‬
‫های‬ ‫تکنولوژی‬ ‫انواع‬CVD
Thermal CVD:‫حرارتی‬ ‫روش‬
Plasma CVD:‫پالسما‬ ‫روش‬
Laser CVD:‫لیزر‬ ‫روش‬
Metal-Organic ...
‫فرآیندهای‬ ‫فراوانی‬ ‫درصد‬CVD‫صنعتی‬
‫های‬ ‫واکنش‬ ‫کننده‬ ‫کنترل‬ ‫عوامل‬CVD
‫واکنش‬ ‫شیمی‬
‫ترمودینامیکی‬ ‫پارامترهای‬(‫و‬ ‫جرم‬ ‫انتقال‬)...
‫دما‬
‫فشار...
‫حرارتی‬ ‫روش‬Thermal CVD
‫از‬ ‫باالتر‬ ‫دمای‬ ‫در‬ ‫واکنش‬ ‫حرارتی‬ ‫روش‬ ‫در‬
900c‫های‬ ‫روش‬ ‫جز‬ ‫و‬ ‫شود‬ ‫می‬ ‫فعال...
‫رآکتور‬ ‫شماتیک‬CVD‫حرارتی‬
‫رآکتورهای‬ ‫انواع‬CVD‫حرارتی‬
‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫رآکتور‬CVD‫حرارتی‬
CVD‫حرارتی‬
CVD‫پالسما‬
‫بین‬ ‫دماهای‬ ‫در‬ ‫روش‬ ‫این‬300‫تا‬700‫درجه‬
‫سانتیگراد‬(‫فوالدها‬ ‫یوتکتویید‬ ‫خط‬ ‫زیر‬)‫انجام‬
‫های‬ ‫ر...
‫رآکتور‬CVD‫پالسما‬
‫دستگاه‬CVD‫پالسما‬
‫دمای‬CVD‫چند‬ ‫برای‬ ‫پالسما‬ ‫و‬ ‫حرارتی‬
‫تجاری‬ ‫مهم‬ ‫پوشش‬
‫رادیویی‬ ‫فرکانس‬ ‫رآکتور‬RF-CVD
‫های‬ ‫سیستم‬ ‫بیشتر‬Plasma CVD‫از‬
‫محدوده‬ ‫در‬ ‫رادیویی‬ ‫فرکانس‬450KHz‫تا‬
113.5MHz...
‫رآکتور‬CVD‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫از‬ ‫قبل‬ ‫زیرالیه‬ ‫و‬
‫رآکتور‬CVD‫زیاد‬ ‫خال‬ ‫تحت‬ ‫حرارتی‬
(UHV-CVD)
‫در‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫مواد‬CVD
‫الکتریکها‬ ‫دی‬ ‫و‬ ‫ها‬ ‫خازن‬:SiN, SiO2
‫فلزات‬:W,Mo,Cu,Al,Ti,Ni,Re
‫ها‬ ‫هادی‬ ‫نیمه‬:E...
‫مولیبدن‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫واکنش‬
1-‫مولیبدن‬ ‫کلرید‬ ‫احیای‬:‫دمای‬ ‫بین‬400‫تا‬
1350‫از‬ ‫کمتر‬ ‫فشار‬ ‫در‬ ‫و‬ ‫سانتیگر...
‫نیکل‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫واکنش‬
‫نیکل‬ ‫کربونیل‬ ‫تجزیه‬:‫دماهای‬ ‫بین‬180c-
200c‫از‬ ‫کمتر‬ ‫فشار‬ ‫و‬760Torr
‫تنگستن‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫واکنش‬
‫هیدروژن‬ ‫توسط‬ ‫تنگستن‬ ‫هالید‬ ‫احیای‬:
‫بین‬ ‫دمایی‬ ‫محدوده‬300‫تا‬700c‫محدوده‬ ‫و‬
...
‫تکنولوژی‬ ‫تاریخچه‬CVD
‫خوردگی‬ ‫و‬ ‫سایش‬ ‫به‬ ‫مقاوم‬ ‫های‬ ‫پوشش‬ ‫مشخصات‬CVD
‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬ ‫ترین‬ ‫مهم‬CVD
‫فلزات‬ ‫دهی‬ ‫شکل‬ ‫صنعت‬:
•‫سیم‬ ‫کشش‬ ‫قالبهای‬(TiC)
•‫سکه‬ ‫تولید‬ ‫ابزارهای‬(TiC)...
‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬ ‫ترین‬ ‫مهم‬CVD
‫شیمیایی‬ ‫مواد‬ ‫تولید‬ ‫صنایع‬:
•‫خورنده‬ ‫مایعات‬ ‫حامل‬ ‫های‬ ‫سوپاپ‬ ‫و‬ ‫ها‬ ‫پم...
‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬ ‫ترین‬ ‫مهم‬CVD
‫ای‬ ‫هسته‬ ‫صنایع‬:
•‫ای‬ ‫هسته‬ ‫رآکتور‬ ‫در‬ ‫نوترون‬ ‫فالکس‬ ‫کنترل‬ ‫برای‬ ‫پوشش‬...
‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬CVD‫با‬ ‫مته‬ ‫برش‬ ‫ابزار‬ ‫در‬
‫تجاری‬ ‫نام‬ ‫با‬ ‫مصنوعی‬ ‫الماس‬ ‫پوشش‬
“DiaBide”
‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫های‬ ‫مته‬ ‫انواع‬
‫روش‬ ‫به‬ ‫مصنوعی‬ ‫الماس‬ ‫با‬CVD
‫نازک‬ ‫های‬ ‫پوشش‬ ‫با‬ ‫برش‬ ‫ابزار‬ ‫انواع‬
‫سرامیکی‬(Thin Film)‫سایش‬ ‫به‬ ‫مقاوم‬
‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫صنعتی‬ ‫قطعات‬
‫روش‬ ‫به‬CVD
‫روش‬ ‫به‬ ‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫قطعات‬CVD
‫روش‬ ‫مزایای‬CVD
.1‫دمای‬ ‫از‬ ‫کمتر‬ ‫دمایی‬ ‫در‬ ‫دیرگداز‬ ‫مواد‬
‫شوند‬ ‫می‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫زینترشان‬.
.2‫تئوری‬ ‫دان...
‫روش‬ ‫های‬ ‫محدودیت‬CVD
.1‫باال‬ ‫کاربری‬ ‫دمای‬(‫مواد‬ ‫از‬ ‫خاصی‬ ‫محدوده‬
‫بود‬ ‫خواهند‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫قابلیت‬)
.2‫ب...
‫الماس‬ ‫توسط‬ ‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫مته‬
‫روش‬ ‫به‬ ‫مصنوعی‬CVD‫شرکت‬ ‫سفارش‬ ‫به‬
‫مارتین‬ ‫النکهید‬
‫روش‬ ‫به‬ ‫شده‬ ‫تولید‬ ‫مصنوعی‬ ‫الماس‬CVD
‫الیه‬ ‫چند‬ ‫های‬ ‫پوشش‬CVD
‫حافظه‬ ‫یک‬ ‫خورده‬ ‫برش‬ ‫مقطع‬
‫میکروالکتریکی‬-‫پوششهای‬CVD
‫های‬ ‫چرخدنده‬ ‫ریز‬ ‫سیلیکونی‬ ‫پوشش‬
‫شده‬ ‫کاری‬ ‫میکروماشین‬
‫ایندیوم‬ ‫های‬ ‫دات‬ ‫کوانتوم‬-‫داده‬ ‫رسوب‬ ‫آرسناید‬
‫ها‬ ‫هادی‬ ‫نیمه‬ ‫در‬ ‫آرسناید‬ ‫گالیم‬ ‫روی‬ ‫شده‬
‫رآکتور‬UHV-CVD
‫منابع‬ ‫و‬ ‫مراجع‬
 ASM Handbook Vol 5, Surface
Engineering
 Wikipedia.com
 Wikipg.org
 diamondtc.com
 endmill.com
...
‫شما‬ ‫توجه‬ ‫از‬ ‫تشکر‬ ‫با‬
Upcoming SlideShare
Loading in …5
×

CVD-Chemical Vapor Deposition by Mr.Govahi

665 views

Published on

Language: Perian/Farsi
Title: CVD, Chemical Vapor Deposition
Farsi Title: رسوب دهی از فاز بخار
Editor: Mohamadreza Govahi
Mentor: Eng. Parviz Mirakhourli
Faculty of Engineering & Technology, Islamic Azad University Karaj Branch (KIAU), 2014.

Published in: Engineering
  • سلام. من برای لایه نشانی نیاز به دستگاه ماکرویوپلاسا دارم. کجا میتونم این کار رو انجام بدم جایی سراغ دارین؟
       Reply 
    Are you sure you want to  Yes  No
    Your message goes here

CVD-Chemical Vapor Deposition by Mr.Govahi

  1. 1. ‫رضا‬ ‫محمد‬‫گواهــــــــــــی‬
  2. 2. ‫بخار‬ ‫فاز‬ ‫از‬ ‫شیمیایی‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫و‬ ‫فلزی‬ ‫های‬ ‫الیه‬ ‫رسوب‬ ‫برای‬ ‫فراگیر‬ ‫فرایندی‬ ‫باشد‬ ‫می‬ ‫سرامیکی‬. ‫واکنش‬ ‫از‬ ‫جامد‬ ‫ماده‬ ‫یک‬ ‫فرایند‬ ‫این‬ ‫طی‬ ‫آید‬ ‫می‬ ‫بوجود‬ ‫بخار‬ ‫فاز‬ ‫در‬ ‫شیمیایی‬. ‫داغ‬ ‫زیرالیه‬ ‫یک‬ ‫روی‬ ‫بر‬ ‫شیمیایی‬ ‫واکنش‬ ‫این‬ ‫افتد‬ ‫می‬ ‫اتفاق‬ ‫سرد‬ ‫یا‬ ‫و‬.
  3. 3. ‫کاربردهای‬CVD ‫الکترونیکی‬ ‫تجهیزات‬ ‫و‬ ‫ها‬ ‫هادی‬ ‫نیمه‬ ‫تولید‬ ‫سایش‬ ‫به‬ ‫مقاوم‬ ‫قطعات‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫نوری‬ ‫فیبرهای‬ ‫مانند‬ ‫ُپتیکی‬‫ا‬ ‫مواد‬ ‫خوردگی‬ ‫به‬ ‫مقاوم‬ ‫مواد‬ ‫باال‬ ‫استحکام‬ ‫فیبرهای‬ ‫نانو‬ ‫های‬ ‫پوشش‬ ‫نازک‬ ‫های‬ ‫پوشش‬(Thin Films)
  4. 4. ‫کاربرد‬ ‫های‬ ‫زمینه‬CVD ‫پلی‬ ،‫ها‬ ‫کریستال‬ ‫تک‬ ‫فابریکیشن‬ ‫میکرو‬ ‫کریستالهای‬ ‫تک‬ ‫و‬ ‫آمورف‬ ‫مواد‬ ،‫ها‬ ‫کریستال‬ ‫محور‬ ‫هم‬(Epitaxial) ،‫کربنی‬ ‫فیبرهای‬ ‫نانو‬ ،‫کربنی‬ ‫فیبر‬ ،‫سیلیکون‬ ‫ها‬ ‫خازن‬ ،‫کربنی‬ ‫های‬ ‫لوله‬ ‫نانو‬ ،‫ها‬ ‫فالمنت‬ W, SiO2, SiC, SiN, TiN,Si-Ge ‫مصنوعی‬ ‫های‬ ‫الماس‬ ‫تولید‬(Synthetic Diamonds)
  5. 5. ‫روشهای‬ ‫بندی‬ ‫کالس‬CVD
  6. 6. ‫روشهای‬ ‫بندی‬ ‫طبقه‬CVD‫فشار‬ ‫اساس‬ ‫بر‬ AP-CVD:CVD‫اتمسفر‬ ‫فشار‬ ‫با‬ LP-CVD:CVD‫کم‬ ‫فشار‬ ‫با‬ UHV-CVD:CVD‫زیاد‬ ‫بسیار‬ ‫خالء‬ ‫تحت‬ (0.000001 atm)
  7. 7. ‫بندی‬ ‫طبقه‬‫روشهای‬CVD‫دما‬ ‫اساس‬ ‫بر‬ HT-CVD:‫از‬ ‫باالتر‬ ‫دماهای‬ ‫در‬ ‫دهی‬ ‫رسوب‬ 900‫سانتیگراد‬ ‫درجه‬ MT-CVD:‫دماهای‬ ‫بین‬ ‫دهی‬ ‫رسوب‬600‫تا‬ 900‫سانتیگراد‬ ‫درجه‬ LT-CVD:‫زیر‬ ‫دماهای‬ ‫برای‬ ‫دهی‬ ‫رسوب‬ 600‫سانتیگراد‬ ‫درجه‬
  8. 8. ‫روشهای‬CVD‫و‬ ‫فشار‬ ‫اساس‬ ‫بر‬ ‫کاربرد‬ ‫دمای‬
  9. 9. ‫های‬ ‫تکنولوژی‬ ‫انواع‬CVD Thermal CVD:‫حرارتی‬ ‫روش‬ Plasma CVD:‫پالسما‬ ‫روش‬ Laser CVD:‫لیزر‬ ‫روش‬ Metal-Organic CVD:‫های‬ ‫کانی‬ ‫روش‬ ‫فلزی‬ ‫و‬....
  10. 10. ‫فرآیندهای‬ ‫فراوانی‬ ‫درصد‬CVD‫صنعتی‬
  11. 11. ‫های‬ ‫واکنش‬ ‫کننده‬ ‫کنترل‬ ‫عوامل‬CVD ‫واکنش‬ ‫شیمی‬ ‫ترمودینامیکی‬ ‫پارامترهای‬(‫و‬ ‫جرم‬ ‫انتقال‬)... ‫دما‬ ‫فشار‬ ‫فرآیند‬ ‫شیمیایی‬ ‫اکتیویته‬
  12. 12. ‫حرارتی‬ ‫روش‬Thermal CVD ‫از‬ ‫باالتر‬ ‫دمای‬ ‫در‬ ‫واکنش‬ ‫حرارتی‬ ‫روش‬ ‫در‬ 900c‫های‬ ‫روش‬ ‫جز‬ ‫و‬ ‫شود‬ ‫می‬ ‫فعال‬HT- CVD‫باشد‬ ‫می‬. ‫رآکتور‬ ‫گاز؛‬ ‫تزریق‬ ‫واحد‬ ‫به‬ ‫مجهز‬ ‫دستگاه‬ (‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫محفظه‬)‫گاز‬ ‫خروج‬ ‫سیستم‬ ‫و‬ ‫باشد‬ ‫می‬.
  13. 13. ‫رآکتور‬ ‫شماتیک‬CVD‫حرارتی‬
  14. 14. ‫رآکتورهای‬ ‫انواع‬CVD‫حرارتی‬
  15. 15. ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫رآکتور‬CVD‫حرارتی‬
  16. 16. CVD‫حرارتی‬
  17. 17. CVD‫پالسما‬ ‫بین‬ ‫دماهای‬ ‫در‬ ‫روش‬ ‫این‬300‫تا‬700‫درجه‬ ‫سانتیگراد‬(‫فوالدها‬ ‫یوتکتویید‬ ‫خط‬ ‫زیر‬)‫انجام‬ ‫های‬ ‫روش‬ ‫جز‬ ‫و‬ ‫شود‬ ‫می‬MT-CVD‫است‬. ‫روش‬ ‫این‬ ‫در‬ ‫حرارتی‬ ‫پسماند‬ ‫تنشهای‬ ‫کیفیت‬ ‫و‬ ‫بوده‬ ‫کمتر‬ ‫حرارتی‬ ‫روش‬ ‫به‬ ‫نسبت‬ ‫است‬ ‫بهتر‬. ‫ذوب‬ ‫نقطه‬ ‫با‬ ‫فلزات‬ ‫توان‬ ‫می‬ ‫دماها‬ ‫این‬ ‫در‬ ‫نمود‬ ‫دهی‬ ‫رسوب‬ ‫نیز‬ ‫را‬ ‫پلیمرها‬ ‫و‬ ‫پایین‬.
  18. 18. ‫رآکتور‬CVD‫پالسما‬
  19. 19. ‫دستگاه‬CVD‫پالسما‬
  20. 20. ‫دمای‬CVD‫چند‬ ‫برای‬ ‫پالسما‬ ‫و‬ ‫حرارتی‬ ‫تجاری‬ ‫مهم‬ ‫پوشش‬
  21. 21. ‫رادیویی‬ ‫فرکانس‬ ‫رآکتور‬RF-CVD ‫های‬ ‫سیستم‬ ‫بیشتر‬Plasma CVD‫از‬ ‫محدوده‬ ‫در‬ ‫رادیویی‬ ‫فرکانس‬450KHz‫تا‬ 113.5MHz‫کنند‬ ‫می‬ ‫استفاده‬.
  22. 22. ‫رآکتور‬CVD‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫از‬ ‫قبل‬ ‫زیرالیه‬ ‫و‬
  23. 23. ‫رآکتور‬CVD‫زیاد‬ ‫خال‬ ‫تحت‬ ‫حرارتی‬ (UHV-CVD)
  24. 24. ‫در‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫مواد‬CVD ‫الکتریکها‬ ‫دی‬ ‫و‬ ‫ها‬ ‫خازن‬:SiN, SiO2 ‫فلزات‬:W,Mo,Cu,Al,Ti,Ni,Re ‫ها‬ ‫هادی‬ ‫نیمه‬:Epitaxial Silicon, Germanium Arsenide, Poly Silicon,…
  25. 25. ‫مولیبدن‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫واکنش‬ 1-‫مولیبدن‬ ‫کلرید‬ ‫احیای‬:‫دمای‬ ‫بین‬400‫تا‬ 1350‫از‬ ‫کمتر‬ ‫فشار‬ ‫در‬ ‫و‬ ‫سانتیگراد‬ ‫درجه‬ 20Torr 2-‫مولیبدن‬ ‫کربونیل‬ ‫تجزیه‬:‫دمای‬ ‫در‬300‫تا‬ 700‫بین‬ ‫فشاری‬ ‫و‬ ‫سانتیگراد‬ ‫درجه‬1-700 Torr‫هیدروژنی‬ ‫اتمسفر‬ ‫در‬
  26. 26. ‫نیکل‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫واکنش‬ ‫نیکل‬ ‫کربونیل‬ ‫تجزیه‬:‫دماهای‬ ‫بین‬180c- 200c‫از‬ ‫کمتر‬ ‫فشار‬ ‫و‬760Torr
  27. 27. ‫تنگستن‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫واکنش‬ ‫هیدروژن‬ ‫توسط‬ ‫تنگستن‬ ‫هالید‬ ‫احیای‬: ‫بین‬ ‫دمایی‬ ‫محدوده‬300‫تا‬700c‫محدوده‬ ‫و‬ ‫بین‬ ‫فشاری‬10-760Torr ‫هیدروژن‬ ‫توسط‬ ‫تنگستن‬ ‫کلراید‬ ‫احیای‬: ‫بین‬ ‫دمایی‬ ‫محدوده‬900-1300c‫محدوده‬ ‫و‬ ‫بین‬ ‫فشاری‬15-20Torr
  28. 28. ‫تکنولوژی‬ ‫تاریخچه‬CVD
  29. 29. ‫خوردگی‬ ‫و‬ ‫سایش‬ ‫به‬ ‫مقاوم‬ ‫های‬ ‫پوشش‬ ‫مشخصات‬CVD
  30. 30. ‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬ ‫ترین‬ ‫مهم‬CVD ‫فلزات‬ ‫دهی‬ ‫شکل‬ ‫صنعت‬: •‫سیم‬ ‫کشش‬ ‫قالبهای‬(TiC) •‫سکه‬ ‫تولید‬ ‫ابزارهای‬(TiC) •‫عمیق‬ ‫کشش‬ ‫های‬ ‫قالب‬(TiC) •‫آسیاب‬ ‫های‬ ‫چرخ‬ ‫پوشش‬(B4C) ‫سرامیک‬ ‫و‬ ‫پالستیک‬ ‫تولید‬ ‫صنایع‬: •‫اکستروژن‬ ‫های‬ ‫قالب‬(TiC)
  31. 31. ‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬ ‫ترین‬ ‫مهم‬CVD ‫شیمیایی‬ ‫مواد‬ ‫تولید‬ ‫صنایع‬: •‫خورنده‬ ‫مایعات‬ ‫حامل‬ ‫های‬ ‫سوپاپ‬ ‫و‬ ‫ها‬ ‫پمپ‬(SiC) •‫ساینده‬ ‫مایعات‬ ‫حامل‬ ‫های‬ ‫لوله‬(TiB2) •‫ساینده‬ ‫مواد‬ ‫انتقال‬ ‫های‬ ‫لوله‬(WC) •‫کاغذ‬ ‫تولید‬ ‫های‬ ‫شافت‬ ‫و‬ ‫غلطک‬(TiC) •‫سندبالست‬ ‫های‬ ‫نازل‬(TiC,TiB2,B4C)
  32. 32. ‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬ ‫ترین‬ ‫مهم‬CVD ‫ای‬ ‫هسته‬ ‫صنایع‬: •‫ای‬ ‫هسته‬ ‫رآکتور‬ ‫در‬ ‫نوترون‬ ‫فالکس‬ ‫کنترل‬ ‫برای‬ ‫پوشش‬ (B4C) •‫نوترونی‬ ‫های‬ ‫اشعه‬ ‫دربرابر‬ ‫محافظ‬ ‫ورقهای‬ ‫پوشش‬ (B4C) •‫ای‬ ‫هسته‬ ‫شکاف‬ ‫رآکتور‬ ‫پوشش‬(SiC) •‫اتمی‬ ‫زباله‬ ‫حمل‬ ‫کانتینرهای‬ ‫پوشش‬(SiC) •‫تشعشعی‬ ‫سنسورهای‬(SiC)
  33. 33. ‫پوششهای‬ ‫کاربرد‬CVD‫با‬ ‫مته‬ ‫برش‬ ‫ابزار‬ ‫در‬ ‫تجاری‬ ‫نام‬ ‫با‬ ‫مصنوعی‬ ‫الماس‬ ‫پوشش‬ “DiaBide”
  34. 34. ‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫های‬ ‫مته‬ ‫انواع‬ ‫روش‬ ‫به‬ ‫مصنوعی‬ ‫الماس‬ ‫با‬CVD
  35. 35. ‫نازک‬ ‫های‬ ‫پوشش‬ ‫با‬ ‫برش‬ ‫ابزار‬ ‫انواع‬ ‫سرامیکی‬(Thin Film)‫سایش‬ ‫به‬ ‫مقاوم‬
  36. 36. ‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫صنعتی‬ ‫قطعات‬ ‫روش‬ ‫به‬CVD
  37. 37. ‫روش‬ ‫به‬ ‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫قطعات‬CVD
  38. 38. ‫روش‬ ‫مزایای‬CVD .1‫دمای‬ ‫از‬ ‫کمتر‬ ‫دمایی‬ ‫در‬ ‫دیرگداز‬ ‫مواد‬ ‫شوند‬ ‫می‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫زینترشان‬. .2‫تئوری‬ ‫دانسیته‬ ‫به‬ ‫نزدیک‬ ‫پوشش‬ ‫دانسیته‬ ‫است‬ ‫آن‬. .3‫و‬ ‫پوشش‬ ‫های‬ ‫دانه‬ ‫گیری‬ ‫جهت‬ ‫کنترل‬‫اندازه‬ ‫آنها‬ .4‫جو‬ ‫فشار‬ ‫در‬ ‫فرآیند‬ ‫انجام‬ ‫امکان‬. .5‫است‬ ‫مناسب‬ ‫بسیار‬ ‫پوشش‬ ‫و‬ ‫زیرالیه‬ ‫پیوند‬.
  39. 39. ‫روش‬ ‫های‬ ‫محدودیت‬CVD .1‫باال‬ ‫کاربری‬ ‫دمای‬(‫مواد‬ ‫از‬ ‫خاصی‬ ‫محدوده‬ ‫بود‬ ‫خواهند‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫قابلیت‬) .2‫بکار‬ ‫شیمیایی‬ ‫مواد‬ ‫بودن‬ ‫سمی‬ ‫و‬ ‫خطرناک‬ ‫شده‬ ‫برده‬ .3‫که‬ ‫پوشش‬ ‫الیه‬ ‫از‬ ‫غیر‬ ‫محصوالتی‬ ‫ایجاد‬ ‫اند‬ ‫خورنده‬ ‫یا‬ ‫سمی‬ ‫بسیار‬ .4‫باال‬ ‫دما‬ ‫گذاری‬ ‫رسوب‬ ‫برای‬ ‫باال‬ ‫بسیار‬ ‫هزینه‬
  40. 40. ‫الماس‬ ‫توسط‬ ‫شده‬ ‫دهی‬ ‫پوشش‬ ‫مته‬ ‫روش‬ ‫به‬ ‫مصنوعی‬CVD‫شرکت‬ ‫سفارش‬ ‫به‬ ‫مارتین‬ ‫النکهید‬
  41. 41. ‫روش‬ ‫به‬ ‫شده‬ ‫تولید‬ ‫مصنوعی‬ ‫الماس‬CVD
  42. 42. ‫الیه‬ ‫چند‬ ‫های‬ ‫پوشش‬CVD
  43. 43. ‫حافظه‬ ‫یک‬ ‫خورده‬ ‫برش‬ ‫مقطع‬ ‫میکروالکتریکی‬-‫پوششهای‬CVD
  44. 44. ‫های‬ ‫چرخدنده‬ ‫ریز‬ ‫سیلیکونی‬ ‫پوشش‬ ‫شده‬ ‫کاری‬ ‫میکروماشین‬
  45. 45. ‫ایندیوم‬ ‫های‬ ‫دات‬ ‫کوانتوم‬-‫داده‬ ‫رسوب‬ ‫آرسناید‬ ‫ها‬ ‫هادی‬ ‫نیمه‬ ‫در‬ ‫آرسناید‬ ‫گالیم‬ ‫روی‬ ‫شده‬
  46. 46. ‫رآکتور‬UHV-CVD
  47. 47. ‫منابع‬ ‫و‬ ‫مراجع‬  ASM Handbook Vol 5, Surface Engineering  Wikipedia.com  Wikipg.org  diamondtc.com  endmill.com  sp3diamondtech.com  Raskhoon.com
  48. 48. ‫شما‬ ‫توجه‬ ‫از‬ ‫تشکر‬ ‫با‬

×