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Aplicação de FiltroQuímico no Sistema de ArCondicionado de Sala LimpaTian Shiai, Yu ZiqiangResumo                         ...
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Concentração ppb                                                                                                          ...
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A absorção é aquela em que as moléculas de gás ou líqui-                mina e resina de troca de íons como materiais de f...
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Na sala limpa, de acordo com os requisitos práticos , o     para distinguir a absorção por forças de Van de Waals que     ...
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filtro quimico - são gabriel - carvão ativado

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Tipo de filtro usado na pesquisa de purificação de Biogás em São Gabriel

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filtro quimico - são gabriel - carvão ativado

  1. 1. Aplicação de FiltroQuímico no Sistema de ArCondicionado de Sala LimpaTian Shiai, Yu ZiqiangResumo desempenho e invalidação. Por exemplo, na indústria de semicondutores, AMC causa na cobertura de formato ‘T’ Em instalações de semicondutores, os programas de da blindagem ótica (Fig. 1), o efeito de corrosão, o cresci-controle de contaminação exigem o uso de filtros de mento não-uniforme da camada de oxidação, a mudançaparticulados no ar de alta eficiência (HEPA) e filtros de ar no caráter da placa de cristal, a diminuição da integrida-de penetração ultra baixa (ULPA) para controlar a quan- de da camada de oxidação da grelha, e assim por diante.tidade de partículas. Contudo, conforme as dimensões [1, 2] Na indústria acima, filtro de ar de particulados dedos chips diminuem, os contaminantes moleculares do ar alta eficiência (HEPA) ou filtro de ar de penetração ultra(AMC) que constituem uma ameaça para o desempenho baixa (ULPA) são os que mais equipam as salas limpas.e confiabilidade do produto, se tornaram a contaminação Estes equipamentos são muito eficientes para filtrar partí-principal nas salas limpas para semicondutores. Este tra- culas cujos tamanhos estiverem acima de 0,05 µm, porém,balho apresenta a classificação e princípios de medição eles não têm efeito sobre partículas para as quais os tama-de AMC, os principios de filtração química e sua aplica- nhos médios vão de 10 Å à 100 Å. Com o propósito deção no condicionamento de ar em sala limpa. Palavras de retirar AMC, os fabricantes estão produzindo diversaschave: Filtro químico / Ar Condicionado de Sala Limpa / categorias de filtros químicos.Contaminantes Moleculares do Ar, Aplicação (Utilização).1. Introdução Nas indústrias de ciência e tecnologia avançadas de Tempo Zero 10 minutos após 20 minutos após 40 minutos apósdispositivos semicondutores, disco rigído e telas decristal líquido, com o aumento dos procedimentos de Figura 1 - Defeitos de fotoresistência por exposição àtrabalho e a diminuição das dimensões dos dispositivos, parte superior T a NH3 (4ppb)(3)a presença dos AMC usualmente resulta na diminuiçãoda porcentagem de produtos acabados, e degeneração de Este trabalho introduz a tecnologia de classificação e detecção de AMC, e o princípio, estrutura e a aplicação de filtro químico no ar condicionado de sala limpa.Trabalho apresentado no 18th ICCCS - International 2. Contaminantes moleculares geradosSymposium on Contamination Control. pelo ar (AMC)Reprodução permitida pela ICCCS paraa Revista da SBCC 2.1. Classificação de AMC Nas normas SEMI F21-95 e SEMI F21-1102, compiladas SBCC julho / agosto 2008 35
  2. 2. artigo técnicopela Associação Internacional de Dispositivos e Materiais Tabela 2 - Fontes típicas de AMC em salas limpasSemicondutores, a classificação de AMC é a seguinte. [3,4] Fontes Classificação Chemical Ácidos Moleculares (MA): Um material corrosivocuja reação química característica é aquela de receptor Plastificante, oxidante, retardante de chama, Equipamentode elétrons, tal como hidrofluorídrico (HF), dióxido de lubrificante, produto de limpezaenxofre (SO2), cloreto de hidrogênio (HCl), brometo de Processo Ácido Sulfúrico, fluoreto de hidrogênio, Amônia,hidrogênio (HBr); Subst. Química gás de purifcação Bases Moleculares (MB): Um material corrosivo cuja Gás de Exaustão Substância Ácida, substância básica ,reação química característica é de um doador de elétron da Fábrica solvente,Composto Orgânico Volátiltal como amônia (NH3), metilamina (CH3 NH2), trimetila- Poluição do Gases do escapamento de automóvel, Gases domina (CH3) 3N Morfolina; Ar externo Tráfego escapamento de aviões Condensável Molecular (MC): Uma substância (diferen- Poluição dos Odores de Combustão, odores de esgoto,te de água) que normalmente tem um ponto de ebulição meios de vida odores de lixoacima da temperatura ambiente na pressão atmosférica Construção Concreto, graxa, armaçõescapaz de condensar sobre uma superfície limpa, tal como Material de Plastificante, retardante a chama, cola, materialsilicone (ponto de ebulição≥ 150°C) e hidrocarboneto Material da planta Construção de isolamento térmico(ponto de ebulição≥ 150°C); Limpeza Produto de Limpeza Inibidores Moleculares (MD): Um elemento químico Secreção Respiração, suor, cosmético Operadoro qual modifica as propriedades elétricas de um material Panos de limpeza Produto de lavanderia, antissépticosemicondutor, tal como boron (usualmente como ácido Filtros HEPA VOC, Be, Pbórico), fósforo (usualmente como organofosfatos), arsêni-co (usualmente como arsenatos). Todos os íons metálicos 2.3 Tecnologia de detecção de AMCtêm a capacidade de adicionar impurezas a um semicondu-tor, tais como K+, NA+, CA2+ e assim por diante. Por meio da detecção de AMC, as pessoas não só A classificação de AMC está listada na Tabela 1 podem saber dos efeitos de AMC no processo e produto, mas também, somente assim podem avaliar a eficiência eTabela 1 - Método de Classificação SEMI F21-1102 duração de um filtro químico. Quando se escolhe o méto-AMC [5] do de detecção, sensibilidade, precisão, anti-interferência, custo e complexidade devem ser considerados. Numa Classe de Material Classificação ( * concentração em ppt) sala limpa a concentração de AMC é geralmente baixa e é principalmente na classe ppb (10-9), ou mesmo na classe 1* 10 * 100 * 1000 * 10000 * ppt (10-12). Então a sensibilidade do instrumento é a pri- Ácidos MA1 MA10 MA100 MA1000 MA10000 meira consideração para a fábrica de semicondutores. Bases MB1 MB10 MB100 MB1000 MB10000 2.3.1. Tecnologia de medição direta Condensável MC1 MC10 MC100 MC1000 MC10000 Com a detecção automática e em tempo real para Inibidores MD1 MD10 MD100 MD1000 MD10000 AMC, mudanças nos AMC podem ser obtidas imediata- mente. Esta tecnologia tem sido aprovada recentemente. Observações: A unidade pptM significa partes por tri- Atuamente, SO2, H2S, NOX e NH3 são os principais gaseslhão molar. 1pptM=10-12 mole de concentração. Se 1012 medidos em tempo real em salas limpas. Princípios demoléculas de gás contêm somente 10 moléculas de gás medição rotineiros incluem luminescência quimica, flu-perigosas, a classe de concentração é MA 10. orescência de UV e Detector de Foto Ionização (PID), Espectrometria de Mobilidade de Íons (IMS) e Sensor Eletroquímico. Numa sala limpa classe 10 de uma fábrica2.2 Fontes de AMC de semicondutores, nós usamos detectores automáticos para medir a concentração de SO2, NO, NO2 e NH3. Os As fontes de AMC estão detalhadamente listadas resultados estão mostrados na Figura 2. A concentraçãona Tabela 2. média de SO2, NO, NO2 e NH3 é respectivamente de SBCC36 julho / agosto 2008
  3. 3. Concentração ppb 2.3.3 Tecnologia de medição indireta 2.3.3.1 Tecnologia de análise de superfície A folha de coleta é colocada dentro Tempo da sala limpa de semicondutores e AMC forma o filme de deposição de depo-21,23 / 25,79 / 47,6 e 83,26 ppb. Isto é muito mais alto do sição atômica e molecular sobre a superfície da folha deque o valor requerido. coleta. Em virtude das tecnologias de análise de superfícieFigura 2 - Concentrações de AMC numa Sala Limpa incluindo AES, XPS e SIMS, o filme de poluição da folha de coleta é medido, e depois a concentração de AMC pode ser conseguida indiretamente. A comparação de tecnolo-2.3.2 Tecnologia de análise por gia de análise de superfície está listada na Tabela 4.amostragem Em algumas empresas de semicondutores, se usa a folha Tecnologia de análise por amostragem é uma medição de prata e AES para analisar a condição de poluição do arem que a amostra é coletada no local, e depois analisada na sala limpa. Os dados da medição mostram-se na Figuraem laboratório. As principais tecnologias de análise por 3. O resultado mostra que o conteúdo de S, O, C, CI e Caamostragem estão listadas na Tabela 3. Em termos das na área poluída é mais alto do que na area não poluída.condições e requisitos atuais, a análise correta de amos- Isto pode ter resultado da poluição AMC no ar.tragem medida é selecionada de acordo com a aplicação.Por exemplo, o gás orgânico volátil é amostrado comtubo de aço inox, e é analisado por cromatografia de fasegasosa e espectrometria de massa (GC/MS); o componen- S / Agte inorgânico é amostrado com a solução de absorção, e éanalisado com cromatografia de íon (IC) e espectrômetrode plasma indutivamente acoplado (ICP/MS).Tabela de - Métodos de análise por amostragem principal Método 3 amostragem Processo Objeto testado Equipamento de teste Espessura (nm) Ânion: F-, CI-, NO3-, NO2-, SO42- Amostragem Cation: NH4+, Ca2+, Mg2+, Solução de com garrafa de IC Na+, K+ absorção impacto e água ICP/MS Ácido Orgânico: CH3COO-; HCOO- Cu / Ag absoluta Boron (B) Amostragem GCTD-GC/MS com carvão Absorção de (Cromatôgrafo de Gás de ativado e Tenax Hidrocarboneto, oxosilane sólidos Desabsorção Térmica / e separação por Espectrômetro de Massa) calor Espessura (nm) Coleta de ar comRecipiente de GC bolsa, frasco e Componentes do ar coleta GC/MS tubo de aço inox Cl / Ag Cromatôgrafo de Tiras de gás de desabsorção cobre, prata ou térmica de plaqueta, Coleta de Componentes orgânicos, silicone para espectrometria de exposição ácidos e básicos absorção de massa) gases no local AES SIMS Espessura (nm) SBCC julho / agosto 2008 37
  4. 4. artigo técnico sura do filme de corrosão depois da correção. De acordo com a norma de classificação emitida pela Associação Americana de Instrumentos e aparelhos, o ambiente pode O / Ag ser classificado de acordo com estes dados. (Tabela 5). [6] O nivel de AMC pode ser obtido indiretamente. Este tipo de aparelho tem alta sensibilidade e resolução no tempo e pode detectar a mudança no ambiente em tempo real Espessura (nm) e diretamente. Tabela 5 I.S.A. – S7104 Gráfico de Classificação Classes de Ambiente ISA, Umidade Relativa <50%. C / Ag Espessura de Filme em ISA Classe G1 ISA Classe G2 ISA Classe G3 ISA Classe Gx Plaqueta de Cobre 0 ~ 299 300 ~ 999 1000~ 1999 ≤ 2000 (Angstroms) Concentrações de gás (Parte por Bilhão por Volume) G1 G2 G3 Gx H2S ≤3 ≤10 ≤50 >50 Figura 3 – Comparação de dados de medição (A1 – SO2, SO3 ≤10 ≤100 ≤300 >300 regiões descoloradas A2- regiões normais) CL2 ≤1 ≤2 ≤10 >10 Nox ≤50 ≤125 ≤1250 >1250 Tabela 4 Lista de tecnologias de análise de superfícies HF ≤1 ≤2 ≤10 >10 Profundidade NH3 ≤500 ≤10000 ≤25000 >25000 da amostra Elementos Partícula de O3 ≤2 ≤25 ≤100 >100 Método Informação Resolução (camada Quantidade além da Sensibilidade detecção de átomo análise simples) Se o cristal de quartzo piezoelétrico for substituído pelo Análise de Eletrônico elementos / Raios-X,/ aparelho de Onda Acústica de Superfície (SAW), obtém- AES 5nm 3 fácil H, He 0,1% em estado Elétron se o sensor de de condução SAW . químico perfurante SAW é um dos tipos de tecnologias de detecção de qua- Análise de lidade sensível e rápida. Devido à freqüência de trabalho elementos Raios-X/, muito alta, a sensibilidade do sensor SAW é 100 vezes a do XPS 5µm 3 fácil H, He 0,3% em estado fotoelétron QCM tradicional. [7] O dispositivo de detecção feito de químico SAW fornece então os dados de mudança de qualidade. Análise de Então a situação de poluição ambiental pode ser obtida SIMS elementos 1µm 2 0,01% Íons / íons indiretamente. (Static) em estado faiscantes químico 3. Filtro químico SIMS Análise de Íons / íons Agora, se o filtro químico for instalado no sistema 50µm 10 difícil < 0,0001%(dynamic) Elementos faiscantes de ar condicionado, a concentração de AMC pode ser efetivamente diminuída e alcançar o padrão ou a faixa requerida. O filtro químico usa geralmente o carvão ativo, alumina e resina de troca de íons como agente de limpeza para eliminar AMC. Os princípios incluem 2.3.3.2 Sensor de cristal piezelétrico absorção física e química. De acordo com o princípio de sintonia piezelétrica, o Micro-equilíbrio do Cristal de Quartzo (QCM) pode medir a mudança de qualidade em nano-grama na super- 3.1 Princípio de filtragem química [8-9] fície do eletrodo. Em virtude do dispositivo de detecção O filtro químico absorve gases seletivamente, e não feito de Cu ou Hg como os materiais do eletrodo QCM, filtra impurezas por processos mecanicos O esquema da a mudança de qualidade pode ser medida como a espes- filtragem de gás no filtro químico é mostrada na Figura 4. SBCC 38 julho / agosto 2008
  5. 5. A absorção é aquela em que as moléculas de gás ou líqui- mina e resina de troca de íons como materiais de filtra- do aderem à superfície da substância sólida. A substância gem. Esses agentes estão listados na Tabela 6. Devido às sólida é o absorvente e o gás ou líquido é chamado de vantagens da grande área de superfície específica, amplo substância absorvida. espectro de absorção, [10,11] fontes abundantes e baixo custo, o carvão ativado é amplamente usado nos filtros carvão ativado químicos. É constantemente chamado de filtro de car-gases procurados meio vão ativado. O carvão ativado é mostrado na Figura 5. A absorção de amplo espectro está listada na tabela 7. A gases alumina tratada com KMnO4 é também o maior agente procurados de limpeza nos filtros químicos, e mostrada na Figura 6. meio Tabela 6 - Tipos comuns de meios em filtro químico Classe química Processo de Troca de íons Composição do meio Gases Alvo Absorção química Remoção Carvão ativado Adsorção Física VOC, dióxido de enxofre (SO2) Figura 4 - Diagrama esquemático de remoção de AMC Carvão ativado + Hidróxido de Ácido clorídrico (HCl) sulfeto de Adsorção Química Potássio (KOH) hidrogênio (H2S), SO2 A absorção pode ser dividida em absorção física e quí- Carvão ativado + Ácido Absorção Química Amônia (NH3), NMP, aminas mica. A absorção física depende das forças de Van der Fosfórico (H2PO4) Waals. Ocorre freqüentemente em baixa temperatura. A Carvão Ativado + Sulfato de Absorção Química NH3,- H2S capacidade de absorção é aumentada com a diminuição Cobre (CuSO4) da temperatura do gás. É um processo reversível. Por H2S, SO2, formaldeído (HCHO), Alumina ativada + Óxidos de Nitrogênio (NOx), exemplo, a absorção pelo carvão ativado dos orgânicos Permanganato de Potássio Absorção Química etileno (C2H4), acetaldeído é uma absorção física. Com o objetivo de aumentar a (KMnOH4) (C2H5O) capacidade de absorção dos materiais para gases especiais Alumina ativada + Hiposulfito incluindo NH3, HF e formaldeído, o absorvente é usual- Absorção Química C12 de Sódio (Na2S2O3) mente tratado quimicamente. A absorção baseada na Resina de troca de cation Troca de íon NH3, aminas reação entre os materiais e gases prejudiciais é chamada Resina de troca de ânion Troca de íon HC1, HF, HNO3,ácido orgânico de absorção química. É um tipo de absorção seletiva. Um Fibra de carvão ativado (ACF) Adsorção Física VOC absorvente pode absorver somente um determinado gas ou vários gases. A absorção química não é um processo reversível. O absorvente primeiro absorve as moléculas Tabela 7 Capacidade de adsorção do carvão ativado de Capacidade Fórmula Peso de gás pela força de Van der Waals, e depois reage com as Substância adsorção (por Molecular Molecular peso, %) moléculas de poluição, para formar o sólido ou gases não prejudiciais. Durante a filtragem, a capacidade de absor- Acetaldeído C2H4O 44,1 7 ção é gradualmente enfraquecida, até se reduzir a zero. Ácido Butírico C4H8O2 88,1 35 Quando a absorção continua, a dessorção ocorre ao Tetracloreto CCI4 153,8 45 mesmo tempo. A desorção é quando as moléculas de gás Acetato Etílico C4H8O2 88,1 19 absorvidas se desprendem do absorvente. A dessorção Ethamethiol C2H6S 64 23 é processo inverso da absorção. Em algumas condições, Cânfora C10H18O 154,2 20 depois de um tempo suficientemente longo, a absorção e dessorção alcançam o equilíbrio dinâmico, e o absor- Hexano C6H14 86 16 vente fica saturado. Por meio da dessorção, a absorção Tolueno C7H8 92 29 consegue novamente a capacidade de absorção, a qual é Dixido de enxofre SO2 64 10 chamada de regeneração. Para absorção física, o carvão Amônia NH3 17 1,3 ativado pode ser regenerado com calor, vapor, descom- Cloro CI2 71 2,2 pressão e substituição. Porém, a absorção química geral- Sulfeto de hidrogênio H2S 34 1,4 mente não pode ser regenerada. Benzeno C6H6 78,1 24 Fenol C6H6O 94,1 30 3.2 Agente de limpeza Ozônio O3 48 O2 O filtro químico usa geralmente o carvão ativado, alu- SBCC julho / agosto 2008 39
  6. 6. artigo técnico Capacidade de Substância Fórmula Peso adsorção (por (Figura 7) e a forma em ‘V’ (Figura 8) são as estruturas clás- Molecular Molecular sicas do filtro químico. A espessura da camada de absorção peso, %) Ácido Valérico C5H10O2 102,1 35 está, na maioria das vezes, na faixa de 10 – 75 mm. Mercaptano de etila C2H6S 62,1 23 3-methyllindole C9H9N 131,2 25 Bissulfeto de Carbono CS2 76 15 gás gás Bylyric C5H10O2 102 35 impuro impuro ar puro Odor de fumaça de cigarro Alta Odores de cozinha Alta Odores de Toalete Alta Prefiltro para filtro filtro para ar puro particulados químico particulados Odores de Animais Alta Figura 7 - Filtro de Cartucho Figura 8 - Filtro modelo “V” 3.4 Aplicação de filtro químico O controle de poluição de AMC é um projeto sistemá- tico e complexo. Primeiro, a ocorrência de AMC deve ser diminuída ou evitada. Nós devemos controlar a fonte da poluição, evitar a difusão dos produtos químicos, esco- lher os materiais de construção com baixos AMC e usar separador de cinzas. Segundo, o processo de fabricação deve ser melhorado, tecnologias de isolamento devem ser usadas e o tempo de exposição dos produtos no pro- cesso de fabricação deve ser diminuído. Fazendo assim, os produtos mais dificilmente serão poluídos por AMC. Adicionalmente, a técnica recomendada deve ser usada para limpar o AMC residual. Agora, na limpeza do ar do sistema de ar condicionado, Figura 5 - Carvão ativado o filtro químico pode diminuir a concentração de AMC eficientemente e fazê-lo alcançar a faixa desejada. O filtro químico usa geralmente o carvão ativado, alu- mina e resina de troca de íon como agentes de limpeza, e limpa o AMC com a absorção física e química. As estruturas de filtros químicos incluem geralmente forma cilíndrica, formato em V e formato de placa. Eles estão mostrados na Figura 9. Caixa PUR TANT TANH 36 Figura 6 - Alumina impregnada com KMnO4 (PIA)3.3 Estrutura de filtro químico ACGL ACGL carvão carvão ECSL No sistema de limpeza de ar condicionado, o filtro plissado plissado troca de fechado profundo íonsquímico limpa principalmente o ar novo (ar externo) ouo ar liberado levemente poluído e faz que eles alcancemos requisitos da proteção ambiental. A forma cilíndrica Figura 9 - Tipos de filtros químicos SBCC40 julho / agosto 2008
  7. 7. Na sala limpa, de acordo com os requisitos práticos , o para distinguir a absorção por forças de Van de Waals que filtro químico é instalado principalmente na tomada de chamam de ADSORÇÃO e usam a palavra ABSORÇÃO ar exterior na recirculação do ar e no elemento final de para a química. Nesta o carvão é ativado por um material entrada na sala limpa. Os tipos de instalações são mos- ávido do poluente a reter que reagirá quimicamente com tradas na Figura 10. o poluente. u filtro químico HEPA [ULPA] Revisão da tradução Celso Simões (Trox) e Raul Sadir (Veco) Ar de Contato: sbcc@sbcc.com.br exaustão (EA)Ar Exterior (OA) RA Refrências [1] Kibkead.D.Joffe M.,Higley.J.,Kishkovich.O., Previsão de Limites de Contaminantes Moleculares Transportados Ar de retorno - (RA) pelo Ar para o Processo Lógico de Alto Desempenho Figura 10 - Áreas de aplicação de filtro químico de 0,25 mícron. Transferência de Tecnologia SEMATECH #95052812A-TR (1995) Quando o filtro químico é escolhido, primeiro deve ser [2] Redução de defeitos. Mapa do Caminho Internacional feita uma análise quantitativa e qualitativa dos gases foca- para Tecnologia de Semicondutores. Associação da dos. Então, de acordo com os gases que é preciso eliminar, Indústria de Semicondutores (1999). o filtro químico mais apropriado deve ser selecionado. Ao [3] Kinkead, D.A.. A. Grayfer and O.P. Kishkovich. Prevenção mesmo tempo, a duração do filtro pode ser estimada de de Contaminação Ótica e de Resistência em Litografia acordo com a concentração do gás durante a aplicação. É de 300 mm – Melhorias em Filtragem Química do Ar. necessário analisar periodicamente a duração residual do Proc. SPIE Vol. 4344, p. 739-752, Metrologia, Inspeção filtro químico. e Controle de Processo para Microlitografia XV, Neal T. Sullivan; Ed. (2001). [4] SEMI F21-95, “Classificação de Níveis de Contaminantes 4. Conclusões Moleculares Transportados pelo Ar em Ambientes 4.1 AMC inclui moléculas ácidas, moléculas básicas, mate- Limpos”. Internacional de Equipamentos Semicondutores riais condensados e materiais inibidores. e Materiais. Mountanin View, CA, 1995, 1996. 4.2 Métodos de medição incluindo IC, GC/MS e ICP/MS, [5] SEMI F21-1102, “Classificação de Níveis de Contaminantes podem analisar detalhadamente a categoria e concen- Moleculares Transportados pelo Ar em Ambientes tração de AMC; os sistemas de detecção em tempo real Limpos”. Internacional de Equipamentos Semicondutores podem detectar a mudança de concentração de gases e Materiais. Mountanin View, CA, 2002. específicos imediatamente. Quando as tecnologias de [6] ISA Standard S71.04-1985. Controle Ambiental análise de superfície, tais como AES, XPS e SIMS são para Medição de Processos e Sistemas de Controle: usadas para detectar a o grau de poluição, elas podem - Contaminantes Transportados pelo Ar, Sociedade descobrir melhor o grau de influência de AMC. Quando Americana de Instrumentos, Research Triangle um método de detecção for escolhido, a sensibilida- Park,I986.10-11 de, precisão, anti-interferência, custo e complexidade [7] Ballantine, D.S., et al, Sensores de Onda Acústica. devem ser considerados. Academic Press. Inc.. San Diego, CA USA, (1997) 4.3 O filtro químico usa geralmente o carvão ativado, PIA [8] Jiang Weijun. Novas Tecnologias de Separação. Chemical e resina de troca de íon como agentes de limpeza, para Industry Press, 1995, p86-57. limpar o AMC no sistema de ar condicionado com prin- [9] Cai Jie, ABC de Filtragem do Ar. China Construction cípios que incluem a absorção física e química. Industry Press. 2002. p.17-20. 4.4 A detecção e controle de AMC é um trabalho possível e [10] Associação de Materiais de Carvão do Japão. complexo. Com o objetivo de melhorar, entender e con- Fundamento e Aplicação de Carvão Ativo, Forestry trolar o AMC, as fábricas de semicondutores, empresas Press, 1984, p.266. de análise e detecção e fabricantes de filtros químicos [11] Sun Yijian, Manual de Projeto Conciso para Ventilação, devem aprimorar a cooperação. China Construction Industry Press, 1997, p.473. Nota do revisor:Alguns autores usam 2 termos distintos SBCC julho / agosto 2008 41

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