Fusion Ozone 光阻去除機 儀器簡介
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Fusion Ozone 光阻去除機 儀器簡介 Fusion Ozone 光阻去除機 儀器簡介 Document Transcript

  • FUSION OZONE 光阻去除機 儀器簡介 1. 主要功能 光阻去除 2. 光阻材料 本實驗室曝光機台(G-line, I-line 及 E-Bean)使用之光阻 3.使用限制: 本機台屬於半導體製程後段機台,僅能使用 6 吋矽晶圓基板。玻 璃基板、 破片、製程中有經任何銅金屬製程者皆禁止使用。 4.機台設備簡介
  • FUSION O3 機台身份證  全名: 乾式光阻去除機  位置: Class 100  工程師: 邱文政 (O) ext.: 7569 (C)  代理人: 陳沛缇 (O) ext.: 7561 (C)  機台負責人: 邱文政 (O) ext.: 7569 (H)  作業區域化學品: (1) 大宗氣體: N 2 , O 2 (2) 特殊氣體: N2O (3) 瓶裝化學品: a. 有機化合物: b. 酸/鹼劑: c. 氧化物: d. 其他:  製程模式或反應腔: (1) 高溫光阻灰化 (2)  反應腔真空度範圍: 常壓  抽真空泵浦: 無  尾氣排放物種: C, H, O  抽尾氣泵浦種類: 無  尾氣排放有無獨立之 Local Scrubber: 無  反應腔溫度範圍: 350°C (Max.)  冷卻系統種類: 自給循環冷卻水系統  製造商或代理商: 辛耘企業股份有限公司  代理商工程師: 宋世國, 電話: 03-5165177      更新日期: 05 / 13 / 2009